本發明涉及液晶顯示(shi)屏技術領域(yu)，具體涉及一種用于液晶顯示(shi)屏玻(bo)璃基板的(de)銅蝕刻液。

背景技術：

化學(xue)蝕(shi)刻(ke)(ke)(ke)是通(tong)(tong)過(guo)化學(xue)反應利用化學(xue)溶液(ye)的(de)(de)(de)(de)(de)腐蝕(shi)作(zuo)用將不(bu)期望的(de)(de)(de)(de)(de)金屬快速溶解除掉的(de)(de)(de)(de)(de)過(guo)程。金屬蝕(shi)刻(ke)(ke)(ke)必須(xu)采用高(gao)(gao)效穩(wen)定(ding)(ding)的(de)(de)(de)(de)(de)蝕(shi)刻(ke)(ke)(ke)液(ye)才(cai)能實現(xian)(xian)高(gao)(gao)效穩(wen)定(ding)(ding)的(de)(de)(de)(de)(de)蝕(shi)刻(ke)(ke)(ke)功能，這(zhe)樣，蝕(shi)刻(ke)(ke)(ke)產(chan)品的(de)(de)(de)(de)(de)精度才(cai)能滿(man)足較(jiao)(jiao)高(gao)(gao)的(de)(de)(de)(de)(de)加(jia)(jia)工(gong)(gong)(gong)要(yao)求。化學(xue)蝕(shi)刻(ke)(ke)(ke)加(jia)(jia)工(gong)(gong)(gong)對掩膜處理(li)的(de)(de)(de)(de)(de)工(gong)(gong)(gong)件進行(xing)噴(pen)淋(lin)蝕(shi)刻(ke)(ke)(ke)，通(tong)(tong)過(guo)液(ye)壓(ya)系統調節噴(pen)淋(lin)壓(ya)力(li)。為(wei)了保證加(jia)(jia)工(gong)(gong)(gong)的(de)(de)(de)(de)(de)均(jun)勻性(xing)，將加(jia)(jia)工(gong)(gong)(gong)樣件放置(zhi)在(zai)(zai)可旋轉的(de)(de)(de)(de)(de)工(gong)(gong)(gong)作(zuo)臺上，設置(zhi)加(jia)(jia)工(gong)(gong)(gong)時間，即可進行(xing)模具(ju)鋼的(de)(de)(de)(de)(de)蝕(shi)刻(ke)(ke)(ke)加(jia)(jia)工(gong)(gong)(gong)。現(xian)(xian)有(you)(you)的(de)(de)(de)(de)(de)蝕(shi)刻(ke)(ke)(ke)液(ye)適用于高(gao)(gao)精度尺寸的(de)(de)(de)(de)(de)要(yao)求微(wei)結構(gou)的(de)(de)(de)(de)(de)快速蝕(shi)刻(ke)(ke)(ke)，蝕(shi)刻(ke)(ke)(ke)過(guo)程穩(wen)定(ding)(ding)，原料成本低(di)，能滿(man)足生(sheng)產(chan)線的(de)(de)(de)(de)(de)加(jia)(jia)工(gong)(gong)(gong)需求。此外，現(xian)(xian)有(you)(you)的(de)(de)(de)(de)(de)刻(ke)(ke)(ke)蝕(shi)液(ye)包(bao)括三(san)氯化鐵和硝酸，并且其顯(xian)著特點是蝕(shi)刻(ke)(ke)(ke)圖案(an)或文(wen)字的(de)(de)(de)(de)(de)輪廓縫隙(xi)較(jiao)(jiao)窄，微(wei)細(xi)蝕(shi)刻(ke)(ke)(ke)加(jia)(jia)工(gong)(gong)(gong)的(de)(de)(de)(de)(de)尺寸偏差小(xiao)，發生(sheng)的(de)(de)(de)(de)(de)側蝕(shi)量較(jiao)(jiao)小(xiao)，在(zai)(zai)蝕(shi)刻(ke)(ke)(ke)過(guo)程中會從未掩膜區域自上而下發生(sheng)蝕(shi)刻(ke)(ke)(ke)，刻(ke)(ke)(ke)蝕(shi)的(de)(de)(de)(de)(de)定(ding)(ding)域性(xing)好(hao)，蝕(shi)刻(ke)(ke)(ke)效率高(gao)(gao)，易于控制，蝕(shi)刻(ke)(ke)(ke)加(jia)(jia)工(gong)(gong)(gong)的(de)(de)(de)(de)(de)微(wei)結構(gou)具(ju)有(you)(you)明顯(xian)棱邊(bian)過(guo)渡，凸起呈長方體(ti)陣列分布(bu)，凹(ao)坑(keng)為(wei)邊(bian)沿(yan)垂直性(xing)好(hao)的(de)(de)(de)(de)(de)深(shen)(shen)坑(keng)，在(zai)(zai)保證蝕(shi)刻(ke)(ke)(ke)深(shen)(shen)度的(de)(de)(de)(de)(de)同時有(you)(you)較(jiao)(jiao)好(hao)的(de)(de)(de)(de)(de)形貌(mao)特征(zheng)，深(shen)(shen)徑(jing)比可以(yi)控制在(zai)(zai)一定(ding)(ding)范(fan)圍內，截(jie)面(mian)(mian)形狀近似于矩形波，整體(ti)微(wei)觀(guan)結構(gou)凸凹(ao)過(guo)渡明顯(xian)。但是，現(xian)(xian)有(you)(you)的(de)(de)(de)(de)(de)蝕(shi)刻(ke)(ke)(ke)液(ye)加(jia)(jia)工(gong)(gong)(gong)出來的(de)(de)(de)(de)(de)圖形往往存在(zai)(zai)表面(mian)(mian)開口大，內部開口小(xiao)的(de)(de)(de)(de)(de)形狀，其斷面(mian)(mian)如梯形。模具(ju)鋼表面(mian)(mian)呈方格子狀細(xi)紋，這(zhe)樣造成的(de)(de)(de)(de)(de)后果是加(jia)(jia)工(gong)(gong)(gong)工(gong)(gong)(gong)件觸感差，同時還影響(xiang)視(shi)覺(jue)效果。

技術實現要素：

本發(fa)明旨在提供了一種用于液晶(jing)顯示屏(ping)玻璃基(ji)板的銅蝕刻液。

本發明(ming)提供如下技術(shu)方案(an)：

一種用于液晶顯示屏玻璃基板的銅蝕刻液，所述蝕刻液由(you)以重量計(ji)的下述組分配制而成：氫氟酸(suan)15-25％、乙二胺15-25％、氯酸(suan)鹽15-25％、三氯化鐵15-25％、銅腐(fu)蝕抑制劑(ji)5-9％、陰離(li)子表面活(huo)性劑(ji)7-11％。

所述銅蝕刻液的銅濃度為60-150克/升。

所述通腐蝕抑制(zhi)劑選(xuan)(xuan)自(zi)含有(you)硫原(yuan)子(zi)、且(qie)含有(you)至少一(yi)種(zhong)選(xuan)(xuan)自(zi)氨(an)基(ji)(ji)(ji)、亞氨(an)基(ji)(ji)(ji)、羧基(ji)(ji)(ji)、羰基(ji)(ji)(ji)及羥基(ji)(ji)(ji)中的取代(dai)基(ji)(ji)(ji)的碳原(yuan)子(zi)數(shu)為7以下的化合物。

所述陰離子表(biao)面(mian)活性劑是(shi)選自由十二(er)烷(wan)基(ji)硫酸(suan)(suan)鈉(na)(na)、十二(er)烷(wan)基(ji)苯磺酸(suan)(suan)鈉(na)(na)和二(er)辛基(ji)琥珀酸(suan)(suan)磺酸(suan)(suan)鈉(na)(na)中的(de)至(zhi)少一種陰離子表(biao)面(mian)活性劑。

與現(xian)有(you)技術相比，本發(fa)明(ming)的(de)有(you)益(yi)效果是：本發(fa)明(ming)通過(guo)顯(xian)示屏基(ji)板(ban)薄化之(zhi)后對附(fu)著在基(ji)板(ban)表(biao)面(mian)的(de)沉淀雜(za)質進行(xing)溶解(jie)，能有(you)效去除基(ji)板(ban)表(biao)面(mian)雜(za)質，可以(yi)提高產品合格率和良率，同時可以(yi)對基(ji)板(ban)厚度的(de)控制提供有(you)效保證(zheng)；本發(fa)明(ming)提供的(de)蝕刻液，可以(yi)通過(guo)對基(ji)板(ban)表(biao)面(mian)的(de)雜(za)質進行(xing)溶解(jie)和蝕刻，達到去除基(ji)板(ban)表(biao)面(mian)雜(za)質的(de)技術效果，從而有(you)效解(jie)決基(ji)板(ban)由于顆(ke)粒狀附(fu)著而降低良率的(de)問題。

具體實施方式

下面將結(jie)合(he)本(ben)(ben)發明(ming)實(shi)(shi)施(shi)(shi)例(li)(li)，對本(ben)(ben)發明(ming)實(shi)(shi)施(shi)(shi)例(li)(li)中(zhong)的(de)技術方案進行清楚、完整地描述，顯然，所(suo)(suo)描述的(de)實(shi)(shi)施(shi)(shi)例(li)(li)僅僅是本(ben)(ben)發明(ming)一部分實(shi)(shi)施(shi)(shi)例(li)(li)，而不是全部的(de)實(shi)(shi)施(shi)(shi)例(li)(li)。基(ji)于本(ben)(ben)發明(ming)中(zhong)的(de)實(shi)(shi)施(shi)(shi)例(li)(li)，本(ben)(ben)領域(yu)普通(tong)技術人員在沒有做出創造性(xing)勞動前(qian)提下所(suo)(suo)獲(huo)得(de)的(de)所(suo)(suo)有其他(ta)實(shi)(shi)施(shi)(shi)例(li)(li)，都屬(shu)于本(ben)(ben)發明(ming)保護的(de)范圍。

實(shi)施(shi)例1一種(zhong)用于液(ye)(ye)晶(jing)顯示屏玻璃基板(ban)的銅蝕刻(ke)液(ye)(ye)，所述(shu)蝕刻(ke)液(ye)(ye)由以重量計的下述(shu)組(zu)分(fen)配制(zhi)而成：氫(qing)氟酸(suan)15％、乙(yi)二胺15％、氯酸(suan)鹽15％、三氯化鐵15％、銅腐(fu)蝕抑(yi)制(zhi)劑(ji)5％、陰離子(zi)表面活性劑(ji)7％。

進一步的，銅蝕刻液的銅濃度為60-150克/升。

進(jin)一步的(de)(de)，通腐(fu)蝕(shi)抑制劑選(xuan)自(zi)含有硫(liu)原子(zi)(zi)、且含有至少一種(zhong)選(xuan)自(zi)氨基(ji)(ji)(ji)、亞氨基(ji)(ji)(ji)、羧基(ji)(ji)(ji)、羰基(ji)(ji)(ji)及羥基(ji)(ji)(ji)中的(de)(de)取代基(ji)(ji)(ji)的(de)(de)碳原子(zi)(zi)數為7以下的(de)(de)化合物。

進一步的，陰離子表面(mian)活(huo)性劑是選自由(you)十二(er)烷基硫酸(suan)(suan)鈉(na)、十二(er)烷基苯磺(huang)酸(suan)(suan)鈉(na)和(he)二(er)辛基琥(hu)珀酸(suan)(suan)磺(huang)酸(suan)(suan)鈉(na)中的至(zhi)少(shao)一種(zhong)陰離子表面(mian)活(huo)性劑。

實施(shi)例2一種用于液晶顯(xian)示屏玻璃基板的銅(tong)蝕刻液，所述蝕刻液由(you)以(yi)重量計的下述組分配制而成：氫氟酸25％、乙二胺25％、氯(lv)酸鹽25％、三氯(lv)化鐵25％、銅(tong)腐蝕抑制劑9％、陰離(li)子表面活(huo)性劑11％。

進一步的，銅(tong)蝕刻液(ye)的銅(tong)濃度為60-150克(ke)/升。

進一步(bu)的(de)(de)，通腐蝕(shi)抑制劑選(xuan)自(zi)含(han)有硫(liu)原子(zi)、且含(han)有至少(shao)一種(zhong)選(xuan)自(zi)氨(an)(an)基、亞氨(an)(an)基、羧基、羰基及羥基中的(de)(de)取代基的(de)(de)碳(tan)原子(zi)數為7以下的(de)(de)化合物。

進一步的，陰離(li)(li)子表面活性劑是(shi)選自由(you)十二(er)(er)烷基(ji)硫(liu)酸(suan)鈉(na)、十二(er)(er)烷基(ji)苯磺酸(suan)鈉(na)和二(er)(er)辛基(ji)琥(hu)珀酸(suan)磺酸(suan)鈉(na)中的至少一種陰離(li)(li)子表面活性劑。

實施例(li)3一種用于(yu)液晶顯示屏玻璃基(ji)板的(de)銅(tong)蝕刻(ke)液，所述蝕刻(ke)液由以重量(liang)計的(de)下述組分配制(zhi)而成(cheng)：氫氟(fu)酸(suan)18％、乙二(er)胺22％、氯酸(suan)鹽(yan)19％、三氯化鐵18％、銅(tong)腐蝕抑制(zhi)劑(ji)7％、陰離(li)子表面活性劑(ji)9％。

進一步(bu)的，銅蝕(shi)刻液的銅濃度為(wei)60-150克/升(sheng)。

進一(yi)步的(de)，通腐蝕(shi)抑制劑選自含有(you)硫原子、且含有(you)至少(shao)一(yi)種選自氨基(ji)、亞氨基(ji)、羧基(ji)、羰基(ji)及羥基(ji)中的(de)取(qu)代基(ji)的(de)碳原子數為7以下的(de)化合物(wu)。

進一步的(de)，陰(yin)離子表面活(huo)性(xing)劑(ji)是選自(zi)由十二烷(wan)基硫酸(suan)鈉、十二烷(wan)基苯磺酸(suan)鈉和二辛基琥珀酸(suan)磺酸(suan)鈉中的(de)至少一種(zhong)陰(yin)離子表面活(huo)性(xing)劑(ji)。

對于本(ben)(ben)(ben)領域(yu)技(ji)術(shu)人(ren)員(yuan)而(er)(er)(er)言，顯然本(ben)(ben)(ben)發(fa)明(ming)不(bu)限于所(suo)述示范性(xing)實(shi)施(shi)(shi)例(li)的(de)(de)細(xi)節，而(er)(er)(er)且(qie)(qie)在(zai)不(bu)背(bei)離(li)本(ben)(ben)(ben)發(fa)明(ming)的(de)(de)精(jing)神或基本(ben)(ben)(ben)特征(zheng)的(de)(de)情況下，能夠以(yi)其他(ta)的(de)(de)具體形(xing)式(shi)(shi)實(shi)現本(ben)(ben)(ben)發(fa)明(ming)。因此，無論從哪一(yi)點來看，均應(ying)將實(shi)施(shi)(shi)例(li)看作(zuo)是示范性(xing)的(de)(de)，而(er)(er)(er)且(qie)(qie)是非限制(zhi)性(xing)的(de)(de)，本(ben)(ben)(ben)發(fa)明(ming)的(de)(de)范圍由所(suo)附權(quan)利(li)要(yao)求(qiu)而(er)(er)(er)不(bu)是所(suo)述說明(ming)限定，因此旨在(zai)將落在(zai)權(quan)利(li)要(yao)求(qiu)的(de)(de)等同要(yao)件的(de)(de)含義和范圍內(nei)的(de)(de)所(suo)有(you)變化囊括在(zai)本(ben)(ben)(ben)發(fa)明(ming)內(nei)。此外，應(ying)當(dang)理解，雖(sui)然本(ben)(ben)(ben)說明(ming)書按照實(shi)施(shi)(shi)方(fang)式(shi)(shi)加以(yi)描述，但(dan)并非每個(ge)實(shi)施(shi)(shi)方(fang)式(shi)(shi)僅(jin)包含一(yi)個(ge)獨(du)立的(de)(de)技(ji)術(shu)方(fang)案，說明(ming)書的(de)(de)這種敘述方(fang)式(shi)(shi)僅(jin)僅(jin)是為清楚起見，本(ben)(ben)(ben)領域(yu)技(ji)術(shu)人(ren)員(yuan)應(ying)當(dang)將說明(ming)書作(zuo)為一(yi)個(ge)整體，各實(shi)施(shi)(shi)例(li)中的(de)(de)技(ji)術(shu)方(fang)案也可(ke)以(yi)經適當(dang)組(zu)合，形(xing)成(cheng)本(ben)(ben)(ben)領域(yu)技(ji)術(shu)人(ren)員(yuan)可(ke)以(yi)理解的(de)(de)其他(ta)實(shi)施(shi)(shi)方(fang)式(shi)(shi)。