一種用于激光打標工藝中的清理裝置的制造方法
【技術領域】
[0001]本發明涉及半導體領域，具體的說，涉及一種用于半導體領域中激光打標工藝中的清理裝置。
【背景技術】
[0002]在半導體行業中，在進行激光打標工藝時，激光激發晶圓產生的硅肩、灰塵、煙霧等經常會浮蕩在激光頭周圍，這些硅肩如果不及時清除，就會影響激光的正常工作，影響加工精度，致使打標精度不能滿足實際要求，產生廢品。現有技術中大多使用風扇對硅肩塵埃進行吸附清理(如圖1所示)，但由于風扇自身結構較大，吸附力弱，和激光頭組合在一起，距離較遠，導致最終吸附效果很差，依舊會沾污激光頭，甚至需頻繁人工清潔，致使產能受阻。
[0003]中國專利201220525659.5公開了一種激光打碼機多功能罩，包括包圍在激光打碼機的激光頭和感光探頭外、并可隨激光頭移動的罩體，所述罩體上設置有激光和被測物反射光線通過的過光孔。該激光打碼機多功能罩可遮擋塵土、紙肩等，避免其污染和堵塞感光探頭和激光出口，延長了打碼機的壽命，提高了打碼質量。但該專利技術方案中的罩體體積較大，操作不方便，且只是對塵、肩起阻擋作用，不并不能實現塵、肩的清理功能，所以從根本上不能解決塵、肩污染鏡頭的問題。
[0004]中國專利201210125073.4公開了一種激光打標機的鏡頭防塵裝置，其技術方案是:在激光打標機的鏡頭前端安裝環形吹塵腔體或者是在鏡頭保護蓋上的吹氣槽，所述外壁有一個進氣接口，內壁一圈環形吹塵腔體的工作面上的若干個吹塵小孔或者吹氣槽，環形吹塵腔體內側安裝有自動開合的鏡頭保護罩門。在激光打標機關機時，鏡頭保護罩門自動關閉，在激光打標機進行打標之前，吹塵小孔開始吹氣，鏡頭保護罩門再自動打開，使灰塵不能進入打標鏡頭附近區域。該專利設置了自動開關保護罩，操作不便，在實際操作中會降低工作效率，而且該專利也只能吹開塵、肩，不能進行清理，也不能從根本上解決問題。
[0005]中國專利201010618935.8公開了一種打標機振鏡的吹氣保護裝置:包括圓環形的吹氣保護罩和吹氣裝置，所述吹氣保護罩內部設置有空腔，所述吹氣保護罩的內壁設置有出氣孔，所述出氣孔是沿所述吹氣保護罩的內壁的圓周方向分布的，所述出氣孔與所述空腔連通，所述吹氣保護罩的外側設置有氣孔，所述吹氣裝置通過氣管與所述氣孔連接，振鏡工作時，開啟吹氣裝置，氣體通過吹氣保護罩的出氣孔吹出，形成風簾，可將工作時產生的煙霧、灰塵和加工殘渣隔離振鏡保護鏡片，有效保護振鏡及保護鏡片。該發明雖然采用了吹氣裝置，能夠吹走塵肩，但也不能對塵肩等微顆粒進行有效而徹底的清理，因為采用吹氣裝置能夠吹走較大的微塵顆粒，但在加工過程中，一些微塵的顆粒是很小的，對于顆粒非常小的微塵，僅僅吹氣，會使顆粒回旋飄蕩，還會污染鏡頭，而且加工過程中，也會產生煙霧，而該專利的技術方面外面又有罩防護，高速吹氣也會使煙霧回旋飄揚，污染鏡頭，所以，該發明的技術方案也沒能從根本上對塵、肩、煙霧等進行清理。
[0006]以上專利，雖然在一定程度上解決了塵、肩、煙霧等對激光頭的污染問題，但并未從根本上有效而徹底地解決該技術問題。

【發明內容】

[0007]為了解決激光打標工藝中產生的微塵、硅肩、煙霧等對激光頭的污染問題，本發明提供了一種用于激光打標工藝中的清理裝置，采用此裝置，利用空氣流形成阻擋墻，并通過抽氣裝置及時吸附產生的硅肩，可實現自動清理，避免人工操作帶來的各方面風險，避免激光頭受到沾污，從而達到持續清理硅肩并可長期保持正常工藝的狀態。
[0008]本發明的技術方案是:
[0009]一種用于激光打標工藝中的清理裝置，包括:套裝結構、吹氣孔、吸氣孔、吸氣咀、吹氣咀；其特征在于:所述吹氣孔和吹氣咀位于套裝結構上部；所述吸氣孔和吸氣咀位于套裝結構的下部；所述吹氣孔和吸氣孔沿套裝結構的圓周方向在內壁呈環狀等距離排布。
[0010]所述套裝結構為圓柱形或環錐形。
[0011]所述套裝結構為雙層結構，內、外壁之間部分為中空結構，所述中空結構形成通氣道，所述中空結構內壁沿圓周方向有氣孔，所述中空結構外壁有氣咀。
[0012]所述套裝結構還包括位于所述中空結構上端、中間、下端的環狀密封結構，或者所述中空結構僅中間有環狀密封結構，上端、下端封死。
[0013]所述的環狀密封結構為有彈性的橡膠環。或者，所述的環狀密封結構和內外壁呈一體結構。
[0014]在本發明技術方案的另一可選的實施方式中，所述套裝結構為一整體實心結構，其中在上半部分和下半部分沿圓周方向各有通孔；所述套裝結構的外壁沿通孔方向還具有環狀結構，所述環狀結構緊貼套裝結構外壁且密封，所述環狀結構內部為中空結構，形成通氣道；所述環狀結構外部具有氣咀；所述環狀結構材料為聚氨酯或亞克力或賽鋼。
[0015]在本發明技術方案的另一可選的實施方式中，所述套裝結構為兩層貼合密封結構，其內層結構外壁有環狀溝槽，所述內層結構的環狀溝槽底部有呈等距離排布的通孔；所述套裝結構的外層結構也具有環狀溝槽，所述外層結構的環狀溝槽外壁具有氣咀；所述內層結構的環狀溝槽和所述外層層結構的環狀溝槽組成通氣道，其中上部的通氣道為吹氣通道，下部的通氣道為吸氣通道。
[0016]在本發明的技術方案中:
[0017]所述的吹氣孔和吸氣孔為一環，也可以根據實際工藝需求，設計成多環結構。
[0018]所述的套裝結構材料可以為金屬材料，進一步優選為玻璃或亞克力，便于通過套裝結構看到激光頭的污染狀況和清理狀況。
[0019]另外，本發明技術方案中套裝結構上部外壁的吹氣咀具有管道連接到吹氣泵，或者通過管道連接到壓縮空氣，進一步優選為通過管道連接到隊吹氣裝置；套裝結構下部外壁的吸氣咀還具有管道連接到真空泵。
[0020]與現有技術相比，本發明的有益效果是:通過套裝結構上部內壁的吹氣孔向激光頭進行吹氣，內外壁形成的氣刀形成一個圈形的氣墻，將硅肩、微塵、煙霧等塵埃阻擋在氣墻之外，同時通過套裝結構下部外壁的吸氣孔對硅肩、微塵、煙霧等進行吸附，并通過真空泵抽走，使激光頭無法受到沾污，從而達到持續清理硅肩并可長期正常工藝的狀態，避免因頻繁的人工操作而導致的產能影響，一定程度也可保證激光頭的工藝效果，延長使用壽命。
【附圖說明】
[0021]圖1是業界普遍采用的對激光頭的清理方法示意圖；
[0022]圖2是本發明技術方案中對激光頭的清理方法示意圖；
[0023]圖3是本發明的技術方案的實施例1的激光頭清理裝置結構示意圖；
[0024]圖4是本發明的技術方案的實施例2的激光頭清理裝置結構示意圖；
[0025]圖5是本發明的技術方案的實施例3的激光頭清理裝置結構示意圖；
[0026]圖6是本發明的技術方案的實施例4的激光頭清理裝置結構示意圖；
[0027]圖7是本發明的技術方案的實施例5的激光頭清理裝置結構示意圖；
[0028]圖8是本發明的技術方案的實施例6的激光頭清理裝置結構示意圖；
[0029]其中，圖1中:A為激光頭，B為風扇；圖2中:C為吹氣流，B為吸氣流。
【具體實施方式】
[0030]圖1為業界普遍采用的對打標機的激光頭普遍采用的方法，圖中，由于風扇B離激光頭A較遠，且風扇的吸力較弱，所以清理效果不理想。
[0031]圖2為本發明的技術方案中的清理方法，如圖所示，C為吹氣流，B為吸氣流，在實際工藝中，是在激光頭上安裝該套裝結構清理裝置，此裝置上部吹氣，下部吸氣，一方面利用空氣流形成阻擋墻，另一方面通過外部的抽氣裝置及時吸附產生的硅肩，可來實現自動清理，保護激光頭免受沾污。
[0032]以下結合附圖3-8和實施例1-6，對本發明技術方案的套裝結構清理裝置進行進一步詳細說明。應當理解，此處所描述的具體實施例僅用以解釋本發明，并不用于限定本發明。
[0033]實施例1
[0034]一種用于激光打標工藝中的清理裝置，如圖3所示，包括:套裝結構、吹氣孔401、吸氣孔501、吹氣通道801、吸氣通道901、吹氣咀601、吸氣咀701 ;其中，套裝結構為圓柱形雙層結構，包括內層結構101和外層結構201，內層結構101和外層結構201的部分段為中空結構，中空結構形成吹氣通道801和吸氣通道901 ;內層結構101上部沿圓周方向等距離排布有吹氣孔401，下部沿圓周方向等距離排布有吸氣孔501 ;外層結構201上部外壁有咀吹氣咀601和下部外壁有吸氣咀701 ;吹氣咀601外部通過氣管與吹氣裝置相連接，吸氣咀701外部通過氣管與真空泵相連接。
[0035]上述套裝結構還包括位于中空結構上端、中間、下端的環狀密封結構301，環狀密封結構301在兩端的作用是起密封作用，在中間段的位置起著隔離吹氣通道801和吸氣通道901的作用；在該實施例中，該實施例中的環狀密封結構的材質