舞臺燈具及用于操作舞臺燈具的方法
【技術領域】
[0001] 本發明設及一種舞臺燈具和一種用于操作舞臺燈具的方法。
【背景技術】
[0002] 已知類型的舞臺燈具包括構造成產生光束的至少一個光源和構造成根據舞臺要 求選擇性地處理光束的多個光束處理元件。
[0003] 光源和光束處理元件通常容納于殼體中并在殼體內產生熱量。
[0004] 在殼體內積聚的熱量會使光源和燈具的其余部件過熱，從而產生永久損壞的風 險。由于運些原因，大部分舞臺燈具都包括能夠消除殼體內產生的熱量的冷卻裝置。然而， 通常使用的冷卻裝置并不總能適當地冷卻殼體的內部。實際上，有時存在不充分的冷卻或 過度的冷卻，通常造成光源的壽命縮短或甚至光源損壞等無法彌補的后果。

【發明內容】
陽〇化]因此，本發明的目的是提供一種沒有上述現有技術缺點的燈具。特別地，本發明的 目的是提供一種可靠且非常耐用的舞臺燈具，其中，使布置于殼體內的部件適當地冷卻。
[0006] 根據運些目的，本發明設及一種舞臺燈具，其包括：殼體；光源，其布置于殼體內 并適于發出沿著光軸的光束；冷卻組件，其構造成冷卻殼體的內部；監測組件，其構造成監 測燈具的運行狀態的至少一個指示參數；控制裝置，其構造成基于由監測組件監測的至少 一個指示參數來調節冷卻組件。
[0007] 在根據本發明的燈具中，根據由監測組件監測的燈具的運行狀態來調節冷卻組 件。運保證了殼體內部的最佳冷卻。
[0008] 本發明的另一目的是提供一種操作舞臺燈具的方法，該方法能夠使燈具可靠并確 保布置于燈具殼體內的部件適當地冷卻。
[0009] 根據運些目的，本發明設及一種用于操作舞臺燈具的方法，包括W下步驟：冷卻容 納適合于發射沿著光軸的光束的光源的殼體的內部；監測燈具的運行狀態的至少一個指示 參數；W及基于所監測的至少一個指示參數來調節冷卻。
【附圖說明】
[0010] 參考附圖，根據非限制性實施方式的W下描述，本發明的其他特征和優點將變得 顯而易見，附圖中：
[0011] 圖1是根據本發明的舞臺燈具的立體圖；
[0012] 圖2是圖1的舞臺燈具的細節的示意性側視圖，其中，示出了一些部件的截面圖， 并且為了清楚起見而去除了一些部件；
[0013] 圖3是圖1的舞臺燈具的第二細節的后視圖，為了清楚起見而去除了一些部件；
[0014] 圖4、圖5和圖6是圖1的處于不同操作位置的燈具的側視圖。
【具體實施方式】
[0015] 在圖1中，參考標號1表示舞臺燈具，該舞臺燈具包括殼體2和構造成支撐并移動 殼體2的支撐裝置3。
[0016] 殼體2沿著縱向軸線A延伸且設置有第一封閉端4和第二端5,第二端沿著軸線A 與第一封閉端4相對，并具有突出口 6。在本文描述和示出的非限制性實例中，突出口 6具 有基本上圓形的截面。
[0017] 支撐裝置3構造成允許殼體2圍繞兩條正交軸線旋轉，運兩條軸線通常稱為PAN 和TILT。特別地，支撐裝置3包括底座7,叉形件8W圍繞軸線PAN可旋轉的方式與底座禪 接。叉形件8W圍繞軸線TILT可旋轉的方式支撐殼體2。
[0018] 通過移動控制裝置（附圖中未示出）來調節支撐裝置3的活動。優選地，還可通 過DMX協議通信來遙控移動控制裝置。參考圖2,燈具1還包括與殼體2禪接的框架9 (為 了簡明起見在圖2中未示出，而在圖3中可部分地看到）、光源10、反射器11、光單元12 (在 圖2中示意性地示出）、光束處理元件14(在圖2中示意性地示出）、冷卻組件15、監測組件 16W及控制裝置17。
[0019] 框架9與殼體2形成整體，并包括彼此禪接且構造成對用于布置在殼體2內的部 件（例如光源10、反射器11、光單元12、光束處理元件14W及冷卻組件15)的支撐結構進 行限定的多個元件。圖3部分地示出了構造成支撐光源、反射器和冷卻組件的多個元件18。
[0020] 光源10布置于在殼體2內并位于殼體2的封閉端4處，光源由框架9支撐并適于 發射大體沿著光軸B的光束。
[0021] 在本文描述和示出的非限制性實例中，光軸B與殼體2的縱向軸線A重合。
[0022] 光源10優選地是放電燈，該放電燈包括通常由玻璃或石英制成的包含水銀和面 化物的燈泡19。
[0023] 該燈優選地是短弧燈，該短弧燈的燈泡19內包括與電源電路（附圖中未示出）連 接且布置成彼此相距確定的距離的兩個電極。
[0024] 電極之間的距離小于大約2mm。在本文描述和示出的非限制性實例中，該距離是大 約1. 3mm。
[00巧]在本文描述和示出的非限制性實例中，短弧燈10具有大于大約450瓦特的功率。 [00%] 通過光源控制裝置（附圖中未示出）來調節光源的電源P。優選地，還可通過與 DMX協議通信來遙控光源控制裝置。
[0027] 反射器11優選地是與光源10禪接且設置有外邊緣20的楠圓形反射器。
[0028] 特別地，反射器11禪接至光源10W使光線基本上聚焦在操作點化上，該操作點 布置成與反射器11的外邊緣20相距距離D2。
[0029] 特別地，楠圓形的反射器11設置有兩個焦點Fl和F2。優選地，光源10布置在反 射器11的第一焦點F1，W使得由光源發出的光線被反射并聚焦在反射器11的第二焦點F2 上。第二焦點F2限定了布置成與反射器11的外邊緣20相距距離D2的操作點化。
[0030] 在本文描述和示出的非限制性實例中，距離D2大約等于36mm。
[0031] 由反射器11反射并聚焦在操作點化處的光束基本上是點狀的，并具有最多可達 至IjImm的直徑DF。 陽03引優選地，在操作點化處，光束具有0. 8mm的直徑DF。
[0033] 基本上，光束光線在操作點化處產生非常集中且基本上是點狀的光束。
[0034] 光單元12布置于殼體2的開放端5處W位于光軸B的中屯、并使殼體2封閉。
[0035] 光單元12是布置于沿著光軸B的最下游的點處的光學輸出件，W成為適于處理所 攔截的光束的最后的單元。光單元12具有布置在光源10和光單元12之間的焦點PF。
[0036] 優選地，焦點PF與操作點化重合。運樣，光單元12能夠捕獲并聚焦在操作點化 處所聚焦的光束。因此，從光單元12發出的光束將是非常強烈的和集中的。
[0037] 光單元12包括一個或多個透鏡（附圖中未示出），一個或多個透鏡布置并構造成 使得光單元12具有正折射力（positiverefractivepower)。
[003引優選地，光單元12可沿著光軸B移動W調節所投影的圖像的焦點。特別地，光單 元12可沿著光軸B在第一操作位置和第二操作位置之間移動。
[0039] 優選地，光單元12包括與可沿著光軸B移動的支架禪接的支撐框架（為了簡明起 見而未示出），通過自動聚焦裝置（是公知的因而未示出）來調節支撐框架的運動。
[0040] 光單元12的特征在于焦距LF能夠使比率DF/LF基本上減小至零。DF是在焦點 PF處聚焦并反射的光束的直徑，LF是光單元12的焦距（也叫做焦距（focaldistance)， 或更簡單地叫做焦距（focallength))且由光單元12的中屯、（也叫做節點）和光單元12 的焦點PF之間的距離限定（單位是mm)。運樣，燈具1發出的光束的出射角將具有基本上 平行的光線，或至多是具有最小偏移角的光線。
[0041] 例如，在運里描述和示出的情況中，其中，光單元12的透鏡的直徑等于170mm，焦 距LF等于170mm，在焦點PF處聚焦并反射的光束的直徑是0. 8mm，并且在100米的投影距 離處的光束偏移角大約等于0.2°。
[0042] 光束處理裝置14包括多個光束處理元件，光束處理元件由框架9支撐并構造成處 理由光源10產生的光束W獲得特殊的效果。特別地，光束處理元件被支撐和/或被構造成 選擇性地攔截光束從而僅當必要時改變光束。換句話說，光束處理元件能夠攔截光束從而 僅在必要時改變光束的特性。
[0043] 通過光束處理裝置（附圖中未示出）的控制裝置來調節每個光束處理元件的位 置。還可通過與DMX協議通信來遠程管理光束處理元件的控制裝置。
[0044] 光束處