一種間隙物篩選裝置及方法
【技術領域】
[0001]本發明涉及液晶顯示器制造技術領域，具體涉及一種間隙物篩選裝置及方法。
【背景技術】
[0002]在制造液晶顯示器時，需要確保液晶層有一定的厚度，即盒間隙，這個間隙通常叫做盒厚(sell gap)。盒厚一般為幾個微米。為了制備這樣小的盒厚，并且保證其均勻性，必須在封框材料中加入一些襯墊材料，同時在顯示區內也均勻散布一些襯墊材料。液晶盒的厚度，就是靠這些襯墊材料將兩片玻璃支撐起來所形成的間隙。
[0003]襯墊材料維持LCD上下兩片玻璃基板的距離(CellGap)，以防止因厚度控制不均而造成液晶應答特性改變，如此將造成畫面顯示模糊，且間隙物若散布不良將使得對比值改變，甚至影響視角角度之大小。
[0004]目前，采用間隙物(spacer)或光刻膠間隙物(Photospacer)作為襯墊材料起到支撐作用，但光刻膠間隙物(Photo spacer)的制作成本高、且增加生產時長，降低生產效率。而間隙物(spacer)的散布很難保證均勻性，導致產品顯示不良。

【發明內容】

[0005]本發明提供一種間隙物篩選裝置及方法，解決了將抱團的、帶電量不足或過大的間隙物篩選掉，提高間隙物散布的均勻性的技術問題。
[0006]為解決上述問題，本發明采用的技術方案為:
[0007]本發明一方面提供一種間隙物篩選裝置，間隙物從噴嘴噴出后下落到基板上，在噴嘴與基板之間沿間隙物下落的方向依次設有第一偏轉電場、收集裝置、第二偏轉電場，所述第一偏轉電場與第二偏轉電場為方向相反的電場，所述收集裝置設有供篩選后的間隙物通過的通孔。
[0008]進一步地，所述第一偏轉電場與第二偏轉電場是由線圈或電容板提供的均勻電場，根據需要調節電場大小和方向。
[0009]進一步地，所述收集裝置是絕緣的。
[0010]進一步地，所述基板為玻璃基板。
[0011]進一步地，所述噴嘴連接配管，間隙物在配管內反復摩擦帶上同種電荷。
[0012]本發明另一方面提供一種間隙物篩選方法，包括:
[0013 ]間隙物從噴嘴噴出后通過第一偏轉電場產生水平偏移；
[0014]通過收集裝置截取噴嘴處抱團落下的間隙物、帶電量不足和帶電量過大的間隙物；
[0015]篩選后的間隙物由與第一偏轉電場方向相反的第二偏轉電場水平減速后，落到基板上。
[0016]進一步地，所述第一偏轉電場與第二偏轉電場是由線圈或電容板提供的均勻電場，根據需要調節電場大小和方向。
[0017]進一步地，間隙物在配管內反復摩擦帶上同種電荷后，采用干噴的噴粉方式從所述噴嘴噴出，形成粉球。
[0018]本發明的有益效果在于:
[0019]本發明提供的間隙物篩選裝置采用偏轉電場對帶電粉球偏轉的作用對其進行篩選，設置兩個方向相反的偏轉電場保證了下落的間隙物粉球的水平速度為零，提高干式噴粉顯示器的良率，收集裝置對篩選掉的間隙物粉球進行收集回收，節約成本；
[0020]本發明還克服了間隙物噴粉工藝存在的間隙物粉球散布不均勻和粉球抱團的缺點，將抱團的間隙物粉球和帶電量差異較大的間隙物粉球篩選出來，使得落在基板上的間隙物粉球帶電量均勻，提高間隙物散布的均勻性。
【附圖說明】
[0021]圖1是本發明的間隙物篩選裝置的結構示意圖。
[0022]圖1中，1為噴頭，2、4分別是第一偏轉電場和第二偏轉電場，3是收集裝置，31是收集裝置3設置的通孔，5是基板;圖中曲線S為間隙物運行軌跡。
【具體實施方式】
[0023]下面結合附圖具體闡明本發明的實施方式，附圖僅供參考和說明使用，不構成對本發明專利保護范圍的限制。
[0024]實施例1:
[0025]如圖1所示，本實施例提供一種間隙物篩選裝置，間隙物(Spacer)從噴嘴1噴出后下落到基板5上，在噴嘴1與基板5之間沿間隙物下落的方向依次設有第一偏轉電場2、收集裝置3、第二偏轉電場4，所述第一偏轉電場2與第二偏轉電場4為方向相反的電場，所述收集裝置3設有供篩選后的間隙物通過的通孔31。
[0026]在本實施例中，所述第一偏轉電場2與第二偏轉電場4是由線圈或電容板提供的均勻電場，根據需要調節電場大小和方向。
[0027]在本實施例中，所述收集裝置3是絕緣的。
[0028]在本實施例中，所述基板5為玻璃基板。
[0029]在本實施例中，所述噴嘴1連接配管(圖中未示出)，間隙物在配管內反復摩擦帶上同種電荷，所述間隙物(spacer)形成粉球從噴嘴1噴出。
[0030]在本實施例中，為保證TFT基板和CF基板間均一的液晶盒厚，在基板上均勻地散布間隙物(spacer)。
[0031]間隙物(spacer)主要有塑料系的壓克力樹脂微粒子與玻璃系的棒狀粒子或硅氧系球狀粒子等三種類型，目前以塑料系與玻璃系最為普遍。
[0032]本發明另一方面提供一種間隙物篩選方法，包括:
[0033]間隙物從噴嘴噴出后通過第一偏轉電場產生水平偏移；
[0034]通過收集裝置截取噴嘴處抱團落下的間隙物、帶電量不足和帶電量過大的間隙物；
[0035]篩選后的間隙物由與第一偏轉電場方向相反的第二偏轉電場水平減速后，落到基板上。
[0036]在本實施例中，所述第一偏轉電場與第二偏轉電場是由線圈或電容板提供的均勻電場，根據需要調節電場大小和方向。
[0037]在本實施例中，間隙物(spacer)在高速氮氣的作用下與SUS配管(需經過表面涂層處理)反復摩擦帶上同種電荷后，采用干噴的噴粉方式從所述噴嘴噴出，形成粉球。
[0038]本發明提供的間隙物篩選裝置及方法的工作過程為:間隙物(spacer)粉球由噴嘴1噴出后在下落路程中依次經過第一偏轉電場2、收集裝置3、第二偏轉電場4。方向相反的第一偏轉電場2和第二偏轉電場4是由線圈或電容板提供的均勾電場，兩個電場的大小、方向可調節;收集裝置3由絕緣材料制成，位于兩個電場的中間位置。本發明適用于干噴方式的噴粉顯示器，帶電間隙物(spacer)粉球由噴嘴噴出后由第一偏移電場2作用產生水平偏移，再由收集裝置3截取噴嘴處抱團落下的間隙物粉球、帶電量不足和帶電量過大的間隙物粉球，繼續落下的篩選后的間隙物粉球由第二偏移電場4作用水平減速，使得落到基板上的篩選后的間隙物(spacer)粉球無抱團現象且分布均勾。
[0039]如上述實施例為本發明較佳的實施方式，但本發明的實施方式并不受上述實施例的限制，其他的任何未背離本發明的精神實質與原理下所作的改變、修飾、替代、組合、簡化，均應為等效的置換方式，都包含在本發明的保護范圍之內。
【主權項】
1.一種間隙物篩選裝置，間隙物從噴嘴噴出后下落到基板上，其特征在于:在噴嘴與基板之間沿間隙物下落的方向依次設有第一偏轉電場、收集裝置、第二偏轉電場，所述第一偏轉電場與第二偏轉電場為方向相反的電場，所述收集裝置設有供篩選后的間隙物通過的通孔。2.根據權利要求1所述的間隙物篩選裝置，其特征在于: 所述第一偏轉電場與第二偏轉電場是由線圈或電容板提供的均勻電場，根據需要調節電場大小和方向。3.根據權利要求1所述的間隙物篩選裝置，其特征在于: 所述收集裝置是絕緣的。4.根據權利要求1所述的間隙物篩選裝置，其特征在于: 所述基板為玻璃基板。5.根據前述權利要求1所述的間隙物篩選裝置，其特征在于: 所述噴嘴連接配管，間隙物在配管內反復摩擦帶上同種電荷。6.—種間隙物篩選方法，其特征在于，包括: 間隙物從噴嘴噴出后通過第一偏轉電場產生水平偏移； 通過收集裝置截取噴嘴處抱團落下的間隙物、帶電量不足和帶電量過大的間隙物； 篩選后的間隙物由與第一偏轉電場方向相反的第二偏轉電場水平減速后，落到基板上。7.根據權利要求6所述的間隙物篩選方法，其特征在于: 所述第一偏轉電場與第二偏轉電場是由線圈或電容板提供的均勻電場，根據需要調節電場大小和方向。8.根據前述權利要求6所述的間隙物篩選方法，其特征在于: 間隙物在配管內反復摩擦帶上同種電荷后，采用干噴的噴粉方式從所述噴嘴噴出，形成粉球。
【專利摘要】本發明提供一種間隙物篩選裝置，間隙物從噴嘴噴出后下落到基板上，在噴嘴與基板之間沿間隙物下落的方向依次設有第一偏轉電場、收集裝置、第二偏轉電場，所述第一偏轉電場與第二偏轉電場為方向相反的電場，所述收集裝置設有供篩選后的間隙物通過的通孔。所述第一偏轉電場與第二偏轉電場是由線圈或電容板提供的均勻電場，根據需要調節電場大小和方向。本發明還提供相應的間隙物篩選方法。本發明設置兩個方向相反的偏轉電場保證了下落的間隙物粉球的水平速度為零，提高干式噴粉顯示器的良率，收集裝置對篩選掉的間隙物粉球進行收集回收，節約成本；本發明將抱團的間隙物粉球和帶電量差異較大的間隙物粉球篩選出來，提高間隙物散布的均勻性。
【IPC分類】G02F1/13, G02F1/1339
【公開號】CN105487266
【申請號】CN201610013704
【發明人】梁建強, 朱景河, 黃偉東, 李建華
【申請人】信利（惠州）智能顯示有限公司
【公開日】2016年4月13日
【申請日】2016年1月7日