烘烤裝置和光刻膠層的硬化方法
【技術領域】
[0001]本發明屬于液晶顯示器技術領域，具體涉及一種烘烤裝置和一種光刻膠層的硬化方法。在液晶顯示器的陣列基板的制程中需要多次使用光刻技術，而光刻技術中不可或缺的步驟就是需要對剛涂布在基板的薄膜層上的光刻膠進行硬化處理，本發明的烘烤裝置和光刻膠層的硬化方法都可對待硬化的光刻膠進行硬化處理。
【背景技術】
[0002]隨著薄膜晶體管液晶顯不(ThinFilm TransistorLiquid Crystal Display,TFTLCD)的不斷發展，對于薄膜晶體管液晶顯示內所使用的陣列基板的要求隨之增高。由于光刻技術是制造陣列基板必不可缺的技術，光刻技術所使用的裝置可決定陣列基板的質量，因此改進光刻技術中所使用的裝置是制造商不斷追求的目標。
[0003]在光刻技術中的曝光步驟之前，需要在帶有薄膜層的基板的薄膜層上涂布一層光刻膠層(或稱光阻層)，然后通過烘烤裝置對剛涂布的光刻膠層進行硬化處理。然而，由于現有的烘烤裝置不能夠對光刻膠層進行均勻加熱，使得基板的周邊部位的光刻膠的硬化速度快于基板的中央部位的光刻膠的硬化速度，從而導致曝光步驟后所形成的圖形(例如為柵電極與存儲電容器Cs所組成的圖形)的各個部位線寬不夠均勻，進而影響液晶顯示器顯示時的清晰度。

【發明內容】

[0004]為了解決上述問題，本發明提供了一種烘烤裝置和一種光刻膠層的硬化方法，該烘烤裝置和刻膠層的硬化方法均能夠把基板的周邊部位的光刻膠的硬化速度調整到基板的中央部位的光刻膠的硬化速度相近似，使得曝光后所形成的圖形的各個部位線寬比較均勻，從而可以提高液晶顯示器顯示時的清晰程度
[0005]根據本發明的第一方面，提供了一種烘烤裝置，該烘烤裝置包括:用于放置帶有薄膜層和待硬化的光刻膠層的基板的平面；以及與所述基板相對的用于加熱所述光刻膠層的加熱板。其中，所述加熱板的中央部位的溫度設置成高于所述加熱板的周邊部位的溫度。由此，本發明的烘烤裝置能夠把基板的周邊部位的光刻膠的硬化速度調整到基板的中央部位的光刻膠的硬化速度相近似，使得曝光后所形成的圖形的各個部位線寬比較均勻，從而可以提高液晶顯示器顯示時的清晰程度。
[0006]在一個實施例中，所述加熱板包括多個依次套接的同心的熱框和設置在最內部的所述熱框內的熱塊，其中所述熱塊的溫度最高，各所述熱框的溫度沿著由內向外的方向依次降低。
[0007]在一個實施例中，所述加熱板的形狀與所述基板的形狀相適配。
[0008]在一個實施例中，所述熱塊的形狀為矩形，各所述熱框的形狀均為矩形環形。
[0009]在一個實施例中，任意兩個相鄰的所述熱框間的間距均不大于2mm，最內部的所述熱框與熱塊之間的間距不大于2mm。
[0010]在一個實施例中，各所述熱框的寬度由內向外依次增加。
[0011]在一個實施例中，根據所述基板的尺寸將所述熱框的數量設為五個，且每一所述熱框均具有相同的寬度。
[0012]在一個實施例中，最外部的所述熱框的外邊緣所形成的封閉圖形能夠容納所述光刻膠層在所述加熱板上的正投影。
[0013]在一個實施例中，所述熱塊和每一個所述熱框內都設有均勻分布的加熱構件。
[0014]根據本發明的第二方面，提供了一種光刻膠層的硬化方法，所述硬化方法包括通過根據本發明的第一方面所述的烘烤裝置對基板上的待硬化的光刻膠層進行加熱，以使所述光刻膠層變硬。
[0015]根據本發明的烘烤裝置能夠把基板的周邊部位的光刻膠的硬化速度調整到基板的中央部位的光刻膠的硬化速度相近似，保證曝光后所形成的圖形的各個部位線寬比較均勻，由此可以提高液晶顯示器顯示時的清晰程度。同時，根據本發明的烘烤裝置的結構簡單，制造方便，使用安全，便于實施推廣應用。
[0016]另外，根據本發明的光刻膠層的硬化方法同樣能夠把基板的周邊部位的光刻膠的硬化速度調整到基板的中央部位的光刻膠的硬化速度相近似，使得曝光后所形成的圖形的各個部位線寬比較均勻，由此可以提高液晶顯示器顯示時的清晰程度。同時，根據本發明的光刻膠層的硬化方法具有操作簡單、使用安全等優點，便于實施推廣應用。
【附圖說明】
[0017]在下文中將基于實施例并參考附圖來對本發明進行更詳細的描述。其中:
[0018]圖1為根據本發明的烘烤裝置的實施例的結構示意圖；
[0019]圖2為圖1所示的烘烤裝置的加熱板的正視圖；
[0020]圖3顯示了陣列基板中所使用的基板；
[0021]圖4為圖2中B處的局部放大圖；以及
[0022]圖5為圖2中C處的局部放大圖。
[0023]在附圖中相同的部件使用相同的附圖標記。附圖并未按照實際的比例繪制。
【具體實施方式】
[0024]下面將結合附圖對本發明作進一步說明。
[0025]圖1為根據本發明的烘烤裝置10的實施例的結構示意圖。如圖1所示，烘烤裝置10該包括具有內腔8的箱體7，以及設置在箱體7內的工作臺2和位于工作臺2的上方的加熱板3。在其他的實施例中，加熱板3也可以設置在工作臺2內。工作臺2具有用于放置帶有薄膜層5和待硬化的光刻膠層4的基板6 (另稱玻璃母板)的平面2a。加熱板3沿著豎直方向Dl正對著光刻膠層4，以便對光刻膠層4進行均勻加熱。其中，薄膜層5可為金屬層。薄膜層5的厚度通常為50nm-300nm。
[0026]如圖2和3所示，加熱板3的中央部位3a的溫度設置成高于加熱板3的周邊部位3b的溫度，以便保證基板6的周邊部位6b的光刻膠的硬化速度與基板6的中央部位6a的光刻膠的硬化速度趨近一致，使得曝光后所形成的圖形的各個部位線寬趨近相同，由此可以提高液晶顯示器顯示時的清晰度。
[0027]為了進一步提高液