微鏡及用于至少一個可設置或設置在微鏡裝置中的微鏡的制造方法
【技術領域】
[0001]本發明涉及一種用于微鏡裝置的微鏡和一種微鏡裝置。本發明同樣涉及一種用于至少一個可設置或設置在微鏡裝置中的微鏡的制造方法。此外，本發明涉及一種用于微鏡裝置的制造方法。
【背景技術】
[0002]在US 7，567，367 B2中描述了微鏡裝置的不同實施方式。微鏡裝置中的每一個具有可圍繞至少一個旋轉軸線調節的鏡元件，所述鏡元件具有反射的鏡側和與所述鏡側平面平行構造的背側。應借助彈簧可保證相應的鏡元件圍繞至少一個旋轉軸線的可調節性，所述彈簧分別從框部件的內表面延伸至所接觸的鏡元件的位于鏡側和背側之間的側面。

【發明內容】

[0003]本發明實現具有權利要求1的特征的微鏡、具有權利要求5的特征的微鏡裝置、具有權利要求7的特征的用于至少一個可設置或設置在微鏡裝置中的微鏡的制造方法以及具有權利要求11的特征的用于微鏡裝置的制造方法。
[0004]發明優點
[0005]本發明實現用于微鏡裝置的微鏡，所述微鏡可幾乎沒有形變地或者具有其鏡側的相對較小的形變地調節。借助本發明尤其可以如此小地保持鏡側的形變(在微鏡圍繞至少一個旋轉軸線調節期間)，使得鏡側的由光斑/激光斑照明的面幾乎沒有變形。因此，根據本發明的微鏡/微鏡裝置可以用于圖像的投影，其中保證所投影的圖像的好的圖像質量。相應地，根據本發明的微鏡/微鏡裝置也有利地用于面的掃描。
[0006]附加地，本發明簡化可有利使用的微鏡/微鏡裝置的制造。如以下更詳細實施的那樣，借助本發明可簡化用于制造微鏡/微鏡裝置的工藝流程。附加地，借此可以降低在制造微鏡/微鏡裝置時產生的成本。
[0007]在微鏡的一種有利的實施方式中，在兩個側區域的遠離中央區域定向的每一側上背側的每一個與鏡側平面平行的外表面與相應的側區域鄰接。尤其在微鏡的背側的這種構造中，可以以相對較大的面來構造鏡側，其中在鏡側的小的形變的情況下同時保證微鏡圍繞至少一個預給定的旋轉軸線的好的可調節性。
[0008]例如，橫截面的限制到中央區域上的第一區段可以具有第一長度，所述第一長度為橫截面的整個區段的總長度的至少20%。所述第一長度尤其可以為總長度的至少25%，優選為總長度的至少33%，尤其為總長度的40%。如以下更詳細實施的那樣，借助中央區域的相對較寬的構造在從其初始位置以相對較大的調節角調節出微鏡時也還實現鏡側的相對較小的形變。
[0009]在一種優選的實施方式中，從硅襯底結構化出微鏡。在所述情形中，背側的側面可以是111晶面。能夠相對簡單且低成本地制造如此構造的微鏡。
[0010]也在具有至少一個這種微鏡、一個保持裝置和至少一個彈簧的微鏡裝置中實現以上描述的優點，微鏡通過所述至少一個彈簧與保持裝置如此連接，使得微鏡可借助由設置在微鏡裝置內部的和/或在外部提供的執行器裝置施加在所述微鏡上的力圍繞至少一個預給定的旋轉軸線相對于保持裝置來調節。
[0011]在微鏡裝置的一種有利的實施方式中，至少一個彈簧錨定在微鏡的背側上。至少一個彈簧尤其可以鍵合固定在微鏡的背側上。這保證在微鏡圍繞至少一個預給定的旋轉軸線調節期間防止鏡側受到形變力的影響。
[0012]在對于至少一個可設置或設置在微鏡裝置中的微鏡而言匹配的制造方法中也保證以上所實施的優點。
[0013]尤其可以通過從硅襯底或者從SOI晶片蝕刻出背側來進行背側的成型。因此，可以使用低成本的材料來制造微鏡。此外，可以使用對此已知的并且可低成本實施的技術來制造微鏡。
[0014]優選地，在使用氫氧化鉀(KOH)的情況下從娃襯底或者從SOI晶片(SO1:絕緣襯底上的硅)進行背側的蝕刻。在所述情形中可自動保證:結構化出111晶面作為背側的所期望的側面。
[0015]作為其替代或補充，可以從具有嵌入的蝕刻停止層的硅襯底或者從SOI晶片進行背側的蝕刻，其中附加地還在兩個側區域的遠離中央區域定向的每一側上分別成型背側的與鏡側平面平行的并且與相應的側區域鄰接的外表面。因此，能夠借助可相對簡單實施的方法得到背側的優選的形狀。
[0016]借助對于微鏡裝置而言匹配的制造方法也可以保證以上所描述的優點。
[0017]例如，可以將至少一個彈簧陽極地或低共恪地(eutektisch)鍵合固定在背側上。因此，微鏡和至少一個彈簧首先可以相互分離地形成并且隨后借助可簡單實施的鍵合方法相互連接。
[0018]在另一種有利的實施方式中，由含有鈉的玻璃沖壓微鏡。只要期望，則在所述情形中可以將至少一個彈簧陽極鍵合固定在由含有鈉的玻璃沖壓的微鏡的背側上。因此，可以實施用于分離制造微鏡和至少一個彈簧的可簡單實施的其他方法步驟。
【附圖說明】
[0019]以下根據附圖闡述本發明的其他特征和優點。附圖示出:
[0020]圖1a和Ib:微鏡及其動態變形的第一實施方式的不意圖；
[0021]圖2a和2b:微鏡及其動態變形的第二實施方式的示意圖；
[0022]圖3a和3d:微鏡的其他實施方式的橫截面；
[0023]圖4:微鏡裝置的一種實施方式的示意圖；
[0024]圖5:襯底的示意性橫截面，以闡述用于至少一個可設置或設置在微鏡裝置中的微鏡的制造方法的一種實施方式；
[0025]圖6a至6c:襯底的示意性橫截面，以闡述用于微鏡裝置的制造方法的一種實施方式。
【具體實施方式】
[0026]圖1a和Ib不出微鏡及其動態變形的第一實施方式的不意圖。
[0027]在圖1a中示意性示出的微鏡10具有鏡側12和遠離所述鏡側12定向的背側14。鏡側12以(沒有示出的)反射涂層覆蓋和/或經拋光。因此鏡側12如此構造，使得到達其上的(沒有示出的)光束在所述鏡側上是可反射的。鏡側12尤其可以理解為平整的面。
[0028]背側14具有中央區域，所述中央區域具有至少一個與鏡側12平面平行的面18a和18b。在圖1a和Ib的實施方式中，微鏡10相對于切割鏡側12和背側14的對稱平面16對稱地構造。因此，背側14的中央區域位于中心。然而，微鏡10的對稱性不是必須的。因此，可選擇地，也可以非對稱地構造微鏡10。因此，背側14的中央區域也必須理解為沒有位于背側14中心的區域。
[0029]此外，所述背側14如此成型，使得在中央區域的相對置的兩側上背側14的分別具有至少一個拱形的和/或相對于鏡側12傾斜定向的側面20的每一個側區域與背側14的中央區域鄰接。從中央區域出發，微鏡10的高度沿著微鏡10的延伸穿過中央區域和兩個側區域的橫截面連續減小。(微鏡10的高度優選理解為微鏡10的垂直于鏡側12定向的寬度。)
[0030]因此，側區域的形狀也可以是可規定的(umschreibbar)，對于每一個側區域可定義至少一個切線，其中每一個側區域的至少一個切線相對于鏡側12的平面的最大傾角最大是80°。有利地，每一個側區域的至少一個切線相對于鏡側12的平面的最大傾角最大是50°、尤其最大是30°。(至少一個傾角在此理解為位于至少一個切線和鏡側12的平面之間的角。)同樣可以將側區域的形狀分別規定為遠離中央區域延伸的逐漸變小部。
[0031]圖1a和Ib的微鏡10的背側14尤其如此成型，使得以上定義的橫截面的高度從微鏡10的中央區域出發直至(大多與所述中央區域)間隔開的側端部22連續減小。以下進一步描述用于構造出背側14的在以上段落中描述的形狀的有利可能性。
[0032]微鏡10可以