本發明涉及用于將流(liu)體、特別是釉料噴墨打印到瓷磚上的裝置。

背景技術：

這(zhe)種(zhong)裝(zhuang)(zhuang)置(zhi)限定有打(da)(da)印頭(tou)，釉(you)料(liao)經由(you)(you)打(da)(da)印頭(tou)通過(guo)一系列出口(kou)(kou)噴(pen)嘴被輸送，用(yong)于(yu)(yu)裝(zhuang)(zhuang)飾(shi)沿著傳送帶布置(zhi)的(de)(de)瓷(ci)磚(zhuan)。每個(ge)出口(kou)(kou)噴(pen)嘴關(guan)聯有基本上電磁致(zhi)動(dong)的(de)(de)閥，以用(yong)于(yu)(yu)根(gen)據要(yao)在瓷(ci)磚(zhuan)上再(zai)現的(de)(de)圖(tu)案打(da)(da)開(kai)出口(kou)(kou)噴(pen)嘴。出口(kou)(kou)噴(pen)嘴的(de)(de)關(guan)閉(bi)(bi)通常(chang)由(you)(you)彈性裝(zhuang)(zhuang)置(zhi)確保。在US2005/056713中描述了電磁致(zhi)動(dong)閥的(de)(de)示例，其中設置(zhi)有鐵(tie)磁芯的(de)(de)電磁體作用(yong)在出口(kou)(kou)噴(pen)嘴的(de)(de)阻擋部上，以使出口(kou)(kou)噴(pen)嘴從關(guan)閉(bi)(bi)位(wei)置(zhi)移動(dong)到其打(da)(da)開(kai)位(wei)置(zhi)。通過(guo)螺(luo)旋(xuan)彈簧確保返回運動(dong)，即在出口(kou)(kou)噴(pen)嘴保持關(guan)閉(bi)(bi)的(de)(de)狀態(tai)下從打(da)(da)開(kai)位(wei)置(zhi)到關(guan)閉(bi)(bi)位(wei)置(zhi)的(de)(de)運動(dong)。

在已知的裝置(zhi)中，用于電(dian)磁致動(dong)的空氣(qi)間隙被(bei)釉料穿過，釉料與(yu)彈性裝置(zhi)以及電(dian)磁體的線圈和鐵(tie)磁芯接觸。

由于釉料含有雜質(zhi)，所以這種接觸(chu)能(neng)夠(gou)導致污垢(gou)或堵塞，從而導致閥的(de)操作能(neng)力有限(xian)，因此(ci)需要頻繁的(de)維(wei)護。

另外，已知的裝置相當復(fu)雜。

技術實現要素：

在這種背景下，在本發明(ming)(ming)的基礎(chu)上的技(ji)術任務是提供一種用(yong)于(yu)將(jiang)(jiang)流體、特別(bie)是釉(you)(you)料噴墨打(da)印到(dao)瓷(ci)磚上的裝置(zhi)(zhi)，其克(ke)服(fu)了(le)上述已知(zhi)技(ji)術的缺(que)點。特別(bie)地，本發明(ming)(ming)的目的是提供一種用(yong)于(yu)將(jiang)(jiang)流體、特別(bie)是釉(you)(you)料噴墨打(da)印到(dao)瓷(ci)磚上的裝置(zhi)(zhi)，由此使離開噴嘴的釉(you)(you)料流變得可靠(kao)和恒(heng)定。

本發明的(de)(de)另一(yi)個可(ke)能的(de)(de)目(mu)的(de)(de)是通(tong)過限制其(qi)操作所需的(de)(de)部件的(de)(de)數(shu)量(liang)來提供一(yi)種簡單的(de)(de)裝置。+

所提到的(de)技術任務和(he)所指明的(de)目的(de)基本(ben)上(shang)通過一種用于將(jiang)流(liu)體、

特(te)別是(shi)(shi)釉(you)料噴墨(mo)打印到(dao)瓷(ci)磚(zhuan)上(shang)(shang)的(de)(de)裝(zhuang)置來實現，該裝(zhuang)置包括在所附權利要(yao)求(qiu)中的(de)(de)一(yi)(yi)項或(huo)多項中描述的(de)(de)技術特(te)征(zheng)。所提到(dao)的(de)(de)技術任(ren)務和所指明的(de)(de)目的(de)(de)基本上(shang)(shang)通(tong)過(guo)一(yi)(yi)種模具和方法來實現，所述模具和方法用于生產將流體(ti)、特(te)別是(shi)(shi)釉(you)料噴墨(mo)打印到(dao)瓷(ci)磚(zhuan)上(shang)(shang)的(de)(de)裝(zhuang)置的(de)(de)膜，所述模具和方法包括如所附權利要(yao)求(qiu)中的(de)(de)一(yi)(yi)項或(huo)多項所描述的(de)(de)技術特(te)征(zheng)。

從屬權(quan)利要求對應(ying)于(yu)本發明的不同實施方(fang)式。

根據一(yi)個(ge)可(ke)能的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)方(fang)面，本(ben)發(fa)明涉(she)及一(yi)種(zhong)用于(yu)(yu)將流(liu)體(ti)(ti)、特(te)別是(shi)釉料(liao)噴(pen)墨打印(yin)到瓷磚上(shang)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)裝置，其包括(kuo)(kuo)(kuo)具有(you)(you)打印(yin)流(liu)體(ti)(ti)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)供(gong)(gong)給(gei)通(tong)(tong)(tong)道(dao)(dao)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)本(ben)體(ti)(ti)，所(suo)述(shu)(shu)(shu)供(gong)(gong)給(gei)通(tong)(tong)(tong)道(dao)(dao)由基(ji)部(bu)(bu)關(guan)閉(bi)(bi)，所(suo)述(shu)(shu)(shu)基(ji)部(bu)(bu)包括(kuo)(kuo)(kuo)打印(yin)流(liu)體(ti)(ti)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)至少(shao)一(yi)個(ge)出口(kou)噴(pen)嘴(zui)。一(yi)種(zhong)閥(fa)包括(kuo)(kuo)(kuo)適于(yu)(yu)產生磁(ci)場的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)電磁(ci)致動裝置和阻擋(dang)部(bu)(bu)，該(gai)阻擋(dang)部(bu)(bu)包括(kuo)(kuo)(kuo)至少(shao)一(yi)個(ge)敏(min)感元件(jian)，該(gai)敏(min)感元件(jian)由適于(yu)(yu)與(yu)磁(ci)場相互作用以使上(shang)述(shu)(shu)(shu)阻擋(dang)部(bu)(bu)移動的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)材料(liao)制成。閥(fa)操作性地(di)關(guan)聯到出口(kou)噴(pen)嘴(zui)，以確定(ding)對應(ying)(ying)于(yu)(yu)阻擋(dang)部(bu)(bu)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)打開(kai)位置的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)打開(kai)狀(zhuang)態和對應(ying)(ying)于(yu)(yu)阻擋(dang)部(bu)(bu)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)關(guan)閉(bi)(bi)位置的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)關(guan)閉(bi)(bi)狀(zhuang)態，其中在(zai)打開(kai)位置，出口(kou)噴(pen)嘴(zui)布(bu)置成與(yu)供(gong)(gong)給(gei)通(tong)(tong)(tong)道(dao)(dao)連通(tong)(tong)(tong)，而在(zai)關(guan)閉(bi)(bi)位置，出口(kou)噴(pen)嘴(zui)與(yu)供(gong)(gong)給(gei)通(tong)(tong)(tong)道(dao)(dao)之間的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)連通(tong)(tong)(tong)被所(suo)述(shu)(shu)(shu)阻擋(dang)部(bu)(bu)關(guan)閉(bi)(bi)。在(zai)本(ben)體(ti)(ti)內設置有(you)(you)膜，所(suo)述(shu)(shu)(shu)膜對所(suo)述(shu)(shu)(shu)供(gong)(gong)給(gei)通(tong)(tong)(tong)道(dao)(dao)限定(ding)界限。所(suo)述(shu)(shu)(shu)膜置于(yu)(yu)供(gong)(gong)給(gei)通(tong)(tong)(tong)道(dao)(dao)與(yu)電磁(ci)致動裝置之間。阻擋(dang)部(bu)(bu)與(yu)所(suo)述(shu)(shu)(shu)膜牢固(gu)地(di)結合。

根據第二方面，本發明涉(she)及一種模(mo)具，其用于(yu)實現將(jiang)流(liu)體、特別是釉料噴(pen)墨(mo)打印到(dao)瓷磚(zhuan)上的(de)(de)裝(zhuang)(zhuang)置(zhi)的(de)(de)膜(mo)。模(mo)具包括相對(dui)于(yu)膜(mo)互補地成形的(de)(de)腔(qiang)并且包括磁(ci)性保(bao)持(chi)裝(zhuang)(zhuang)置(zhi)，該磁(ci)性保(bao)持(chi)裝(zhuang)(zhuang)置(zhi)設置(zhi)在所(suo)述腔(qiang)的(de)(de)外部并適于(yu)將(jiang)膜(mo)的(de)(de)敏(min)感(gan)元件(jian)保(bao)持(chi)在所(suo)述腔(qiang)內(nei)的(de)(de)給定(ding)位(wei)置(zhi)。

根據另一方面，本發明涉及一種用于實現用于將(jiang)(jiang)流體、特別是釉料(liao)噴墨(mo)打印到瓷磚上的(de)裝置(zhi)的(de)膜的(de)方法(fa)。該(gai)方法(fa)包(bao)括：預先設(she)置(zhi)模(mo)具；通過磁性(xing)保持裝置(zhi)將(jiang)(jiang)敏感(gan)元件(jian)保持在腔內的(de)預定位置(zhi)；將(jiang)(jiang)材(cai)料(liao)注射到腔中，以形(xing)成至少一層膜，從(cong)而(er)至少部(bu)分地包(bao)圍敏感(gan)元件(jian)。

在一個或多個上述方面中，本(ben)發明包括以(yi)下特征中的一個或多個。

阻擋部優選地(di)由(you)通向(xiang)出(chu)口噴嘴的膜的關閉部分限定。

關閉部分優選是(shi)楔形(xing)的(de)，具有朝向出口噴嘴布置的(de)下基部或頂點。

優選地(di)，關閉部分適(shi)于在阻擋(dang)部的關閉位置中至少(shao)部分地(di)插入到(dao)出口(kou)噴嘴中。

優選地，敏感元件設置在膜內(nei)。

優(you)選地，膜包(bao)括至少兩個層，并且敏(min)感元件設置在這兩個層之(zhi)間。

優選地(di)(di)，膜(mo)包括從阻擋部(bu)的相反兩側突出(chu)的支撐壁，所(suo)述支撐壁抵靠(kao)基部(bu)橫向地(di)(di)對供給通(tong)道進行限(xian)界。

優選地，膜至少部分地由硅膠材料制(zhi)成。

敏感元件優選(xuan)為永磁(ci)(ci)體。電(dian)磁(ci)(ci)致動裝置(zhi)被構(gou)造成產生敏感元件的第(di)(di)一吸引磁(ci)(ci)場(chang)和第(di)(di)二排斥(chi)磁(ci)(ci)場(chang)，以(yi)用于使阻擋部沿兩個(ge)方向(xiang)在關閉(bi)位置(zhi)與打(da)開位置(zhi)之間移(yi)動。

優(you)選地，敏感元件由鐵磁材(cai)料(liao)制成，以便被電(dian)磁致(zhi)動裝置產生的磁場吸引。

該裝(zhuang)置優(you)選地包(bao)括成(cheng)直線布置的(de)多個(ge)出口(kou)噴嘴(zui)，每個(ge)出口(kou)噴嘴(zui)與相應的(de)閥相關聯。膜包(bao)括設置在兩個(ge)連續的(de)阻(zu)擋部之間(jian)的(de)加強部分。

優選地，如(ru)下設置(zhi)：在模具(ju)的腔(qiang)內預先設置(zhi)膜(mo)的第一(yi)層(ceng)(ceng)；通過磁性保持裝置(zhi)將(jiang)敏(min)感元件(jian)抵靠著第一(yi)層(ceng)(ceng)保持在腔(qiang)內；將(jiang)材(cai)料注射到腔(qiang)中(zhong)，以獲得(de)至少所(suo)述膜(mo)的第二層(ceng)(ceng)從而與敏(min)感元件(jian)結合。

附圖說明

參照(zhao)附圖，本發明的(de)(de)(de)另外的(de)(de)(de)特征和優點將從用(yong)于將流體(ti)、特別(bie)是釉料(liao)噴墨打印(yin)到(dao)瓷磚上的(de)(de)(de)裝(zhuang)置的(de)(de)(de)優選(xuan)但(dan)非(fei)排他(ta)的(de)(de)(de)實施方式(shi)的(de)(de)(de)指(zhi)示性的(de)(de)(de)并且因此非(fei)限(xian)制(zhi)性的(de)(de)(de)描述變得(de)更加顯而(er)易見，其中：

圖(tu)1是(shi)用(yong)于(yu)將流體、特別是(shi)釉料噴墨(mo)打印到瓷磚上的裝置的示意性(xing)截面圖(tu)；

圖(tu)2是圖(tu)1的裝置的細節的示意性截面圖(tu)；

圖(tu)3和圖(tu)4是圖(tu)2的實施方式的可能替代方案的示(shi)意性截(jie)面圖(tu)；

圖5示出了處于不同操作條件下的圖4的裝置(zhi)；

圖(tu)6是用于實現圖(tu)4或圖(tu)5的(de)(de)裝(zhuang)置的(de)(de)膜的(de)(de)模具的(de)(de)示意性(xing)截面(mian)圖(tu)；

圖7是(shi)用于將(jiang)流體、特(te)別是(shi)釉(you)料噴墨打印到瓷磚上的裝(zhuang)置的示意性透視截(jie)面圖；

圖(tu)8是圖(tu)7的(de)(de)(de)裝置(zhi)的(de)(de)(de)細節(jie)的(de)(de)(de)示意圖(tu)，其為以根據垂直于圖(tu)7的(de)(de)(de)剖面的(de)(de)(de)平面截取的(de)(de)(de)透視圖(tu)。

具體實施方式

參考附圖(tu)，數字(zi)1表(biao)示(shi)用于(yu)將流(liu)體、特(te)別(bie)(bie)是(shi)釉(you)(you)料噴墨打印到瓷磚P上的裝置。圖(tu)1示(shi)出(chu)了瓷磚P在傳送帶N上傳送，以進入到裝置1中，從而根據(ju)圖(tu)形(xing)或預先(xian)設立(li)的畫像接收確定的量的流(liu)體，特(te)別(bie)(bie)是(shi)釉(you)(you)料S。

裝置(zhi)1包(bao)括限定打(da)印(yin)頭的(de)本(ben)體(ti)2。在本(ben)體(ti)內部，實現了打(da)印(yin)流(liu)體(ti)的(de)供給(gei)(gei)通(tong)道(dao)3，供給(gei)(gei)通(tong)道(dao)3由基部4關閉，基部4至少包(bao)括打(da)印(yin)流(liu)體(ti)的(de)出(chu)口噴嘴5。

在圖7所(suo)示的實例中，提供了多個(ge)出(chu)口噴嘴(zui)5，其沿著延(yan)展(zhan)線(xian)A成直線(xian)布置(zhi)并(bing)由同一(yi)個(ge)供給通(tong)道3供料。可以(yi)提供在垂直于所(suo)述(shu)延(yan)展(zhan)線(xian)的方向上布置(zhi)的兩個(ge)或更多個(ge)噴嘴(zui)，因而例如形成噴嘴(zui)陣列。

本體2還包括布(bu)置成與(yu)供給通(tong)道(dao)3連(lian)通(tong)的(de)入口(kou)通(tong)道(dao)6。入口(kou)通(tong)道(dao)6適于連(lian)接(jie)到(dao)未示出的(de)加壓流體罐。

對于每個出口噴(pen)嘴5，閥7操作性(xing)地(di)與之(zhi)關(guan)聯(lian)以確定其打(da)開狀態和關(guan)閉狀態，其中(zhong)在(zai)打(da)開狀態下(xia)，出口噴(pen)嘴5設置成與供(gong)給通道3連通，而在(zai)關(guan)閉狀態下(xia)，出口噴(pen)嘴5與供(gong)給通道3之(zhi)間的(de)連通被阻止。

閥7包(bao)括(kuo)(kuo)適(shi)于(yu)產生磁(ci)場的(de)電(dian)磁(ci)致動(dong)裝置8。電(dian)磁(ci)致動(dong)裝置8特別地包(bao)括(kuo)(kuo)電(dian)磁(ci)體(ti)，該(gai)電(dian)磁(ci)體(ti)例(li)如包(bao)括(kuo)(kuo)繞組9和(he)鐵磁(ci)芯10。

閥7還(huan)包括能(neng)夠(gou)在對(dui)應于出口(kou)噴嘴5打(da)開(kai)的(de)狀(zhuang)態(tai)的(de)打(da)開(kai)位置與對(dui)應于出口(kou)噴嘴5關(guan)閉(bi)的(de)狀(zhuang)態(tai)的(de)關(guan)閉(bi)位置之間移動的(de)阻擋部(bu)11。

阻(zu)(zu)擋部11包(bao)括至少一個(ge)敏感(gan)元件(jian)12，敏感(gan)元件(jian)12由適(shi)于與磁(ci)(ci)(ci)(ci)場相互作用以(yi)移動所(suo)述阻(zu)(zu)擋部11的(de)材料(liao)制(zhi)成。在(zai)圖中所(suo)示(shi)的(de)示(shi)例中，敏感(gan)元件(jian)12是(shi)永磁(ci)(ci)(ci)(ci)體，指(zhi)示(shi)了該永磁(ci)(ci)(ci)(ci)體的(de)S極和N極。優(you)選(xuan)地，電磁(ci)(ci)(ci)(ci)致(zhi)動裝(zhuang)置8被構(gou)造成產生以(yi)永磁(ci)(ci)(ci)(ci)體的(de)形式實現的(de)敏感(gan)元件(jian)12的(de)第(di)一吸引磁(ci)(ci)(ci)(ci)場和第(di)二排斥磁(ci)(ci)(ci)(ci)場，以(yi)使阻(zu)(zu)擋部11沿兩個(ge)方向在(zai)關閉位置和與打開位置之間移動。

膜(mo)(mo)13設置在本體2內(nei)并對供給通(tong)道(dao)3進行限界。此外，膜(mo)(mo)13置于供給通(tong)道(dao)3與電磁致動裝置8之(zhi)間。

在打開和/或關閉出口噴嘴5時，阻擋部(bu)11與膜13牢固地約束(shu)在一起。

阻擋部11特別(bie)地由膜13的面向(xiang)出口噴嘴5的關閉部分(fen)14限定。

根據圖(tu)1或圖(tu)2所示(shi)的(de)實(shi)施方式，膜13的(de)關閉部分(fen)(fen)14是適(shi)于與基部4接觸的(de)平面(mian)部分(fen)(fen)。優選(xuan)地，基部4包括(kuo)邊界環15，邊界環15相(xiang)對于每個出(chu)口(kou)噴嘴(zui)5向內地面(mian)向供給通道3，由此限定適(shi)于與膜13的(de)關閉部分(fen)(fen)14接觸的(de)接觸表面(mian)16。

根據圖4或圖5所(suo)示的實(shi)施(shi)方式，關閉部(bu)分14是楔形的，其下(xia)基部(bu)17朝向出口噴嘴5設(she)置。

根(gen)據圖3所示的(de)實(shi)施方式(shi)，關閉部分(fen)14是楔(xie)形的(de)，其(qi)頂(ding)點18朝向出(chu)口(kou)噴(pen)(pen)嘴(zui)5設置(zhi)(zhi)。特別地(di)，關閉部分(fen)14適于在阻擋部11處于其(qi)關閉位(wei)置(zhi)(zhi)時至少部分(fen)地(di)插(cha)入到出(chu)口(kou)噴(pen)(pen)嘴(zui)5中。

優選(xuan)地(di)，敏感元件12布置在膜13內。

膜13特別(bie)地包括(kuo)至(zhi)少兩(liang)層(ceng)(第一(yi)層(ceng)19和第二層(ceng)20)，并且敏感元(yuan)件12設置(zhi)在兩(liang)層(ceng)之(zhi)間。

根據在圖4和圖5中通(tong)過示(shi)例的(de)方式(shi)示(shi)出(chu)(chu)的(de)一個(ge)可能的(de)實施方式(shi)，膜13包括從阻擋部11的(de)相反(fan)兩側突出(chu)(chu)的(de)支撐壁(bi)(bi)21，支撐壁(bi)(bi)21抵靠(kao)基(ji)部4橫(heng)向地對供給(gei)通(tong)道3進行限(xian)界(jie)。特別(bie)地，在設置(zhi)有多個(ge)出(chu)(chu)口(kou)噴(pen)嘴(zui)5的(de)情況下，支撐壁(bi)(bi)21被布(bu)置(zhi)成平行于延(yan)展線A，其中出(chu)(chu)口(kou)噴(pen)嘴(zui)5沿(yan)著延(yan)展線A布(bu)置(zhi)。

在(zai)設置有多(duo)個出(chu)口(kou)噴嘴(zui)5的情況下，膜13可以(yi)包括(kuo)布置在(zai)兩(liang)個連續的阻(zu)(zu)擋部(bu)(bu)(bu)(bu)11之間(jian)的加強部(bu)(bu)(bu)(bu)分(fen)22(圖7)。加強部(bu)(bu)(bu)(bu)分(fen)22的厚(hou)(hou)度(du)大于膜13的厚(hou)(hou)度(du)并小于阻(zu)(zu)擋部(bu)(bu)(bu)(bu)11的厚(hou)(hou)度(du)。換句話說，加強部(bu)(bu)(bu)(bu)分(fen)22延(yan)伸(shen)到供(gong)給通(tong)道中而不與基部(bu)(bu)(bu)(bu)4接觸。根(gen)據一個可能的實(shi)施方式，本(ben)體2包括(kuo)布置在(zai)膜13與電(dian)磁致動裝置8之間(jian)的容(rong)納板23，所述容(rong)納板23包括(kuo)用(yong)于每(mei)個出(chu)口(kou)噴嘴(zui)5的貫通(tong)開(kai)口(kou)24，貫通(tong)開(kai)口(kou)24限定圍繞阻(zu)(zu)擋部(bu)(bu)(bu)(bu)11的膜的一部(bu)(bu)(bu)(bu)分(fen)。特別地，如(ru)果適(shi)用(yong)，貫通(tong)開(kai)口(kou)24一直(zhi)延(yan)伸(shen)到加強部(bu)(bu)(bu)(bu)分(fen)22。

優選地，膜(mo)13至少(shao)部(bu)分(fen)地由硅膠材料制(zhi)成(cheng)(cheng)。參(can)考(kao)(kao)附圖中(zhong)(zhong)(zhong)所(suo)示(shi)的(de)包括敏感元(yuan)件形(xing)式的(de)永磁(ci)體(ti)的(de)實施方(fang)式，根(gen)據本(ben)發明的(de)裝置(zhi)(zhi)1在使(shi)用中(zhong)(zhong)(zhong)提(ti)供電磁(ci)致(zhi)動(dong)裝置(zhi)(zhi)的(de)恒定啟動(dong)。在第(di)(di)(di)一步(bu)驟中(zhong)(zhong)(zhong)，電磁(ci)致(zhi)動(dong)裝置(zhi)(zhi)被(bei)構(gou)造成(cheng)(cheng)產生敏感元(yuan)件的(de)第(di)(di)(di)一吸引磁(ci)場，使(shi)得阻擋部(bu)從關(guan)閉(bi)位置(zhi)(zhi)移動(dong)到其打開位置(zhi)(zhi)(例如(ru)參(can)見圖5)。在第(di)(di)(di)二步(bu)驟中(zhong)(zhong)(zhong)，電磁(ci)致(zhi)動(dong)裝置(zhi)(zhi)替代(dai)地構(gou)造成(cheng)(cheng)引起敏感元(yuan)件的(de)第(di)(di)(di)二排(pai)斥磁(ci)場，使(shi)得阻擋部(bu)從打開位置(zhi)(zhi)移動(dong)到其關(guan)閉(bi)位置(zhi)(zhi)并且保持出(chu)口噴嘴5的(de)關(guan)閉(bi)(例如(ru)參(can)見圖2至圖4)。參(can)照圖6，為了實現膜(mo)13，可(ke)以提(ti)供包括腔(qiang)101的(de)模具100，其中(zhong)(zhong)(zhong)腔(qiang)101相對(dui)于膜(mo)的(de)形(xing)狀互補地成(cheng)(cheng)形(xing)。參(can)考(kao)(kao)圖6，模具的(de)第(di)(di)(di)一部(bu)分(fen)102被(bei)第(di)(di)(di)二部(bu)分(fen)103關(guan)閉(bi)，以便限(xian)定腔(qiang)101。入口104通(tong)向腔(qiang)101中(zhong)(zhong)(zhong)，以便膜(mo)形(xing)成(cheng)(cheng)材料例如(ru)壓(ya)力(li)硅膠的(de)進入。出(chu)口105通(tong)向腔(qiang)101之外，用于排(pai)出(chu)過量(liang)的(de)空氣和硅膠。

106表示(shi)設置在腔(qiang)101外部并(bing)且適于將敏(min)(min)感元件12、特別是永磁體(ti)形式的敏(min)(min)感元件12保持(chi)在所述腔(qiang)內的預定(ding)位置的磁性保持(chi)裝置。

膜13可以通過上述模具100實現(xian)(xian)，即(ji)通過預(yu)先設(she)置所(suo)述模具100并且通過保(bao)持裝置106將敏(min)(min)感元件12保(bao)持在腔內的(de)給定位(wei)置來實現(xian)(xian)。適合于實現(xian)(xian)膜的(de)磁性(xing)材(cai)料被(bei)注入到(dao)腔101中，從(cong)而形成所(suo)述膜的(de)至(zhi)(zhi)少一層，使得敏(min)(min)感元件12至(zhi)(zhi)少部分地被(bei)包(bao)圍。

優選地(di)，在兩(liang)個層19、20的(de)情況(kuang)下，在腔101內預先設置膜的(de)第一(yi)(yi)層19，通過磁性保(bao)持裝置106將(jiang)敏感(gan)元件12抵靠著第一(yi)(yi)層19而(er)保(bao)持在腔101內，并且將(jiang)適于實現第二層20的(de)材(cai)料注(zhu)入腔101內，從而(er)包含敏感(gan)元件12。

可替代(dai)地(di)，可以進(jin)行雙色成型，其中第(di)二層(ceng)(ceng)20最初被實現，并且通過模(mo)具嵌(qian)件在其中限定用于(yu)(yu)敏感(gan)元件的殼體。隨(sui)后(hou)，打開模(mo)具以插入(ru)敏感(gan)元件，然后(hou)再次關閉模(mo)具，從而留(liu)下對應(ying)于(yu)(yu)第(di)一層(ceng)(ceng)(如果(guo)設(she)置第(di)一層(ceng)(ceng)的話)的腔，其中相應(ying)的材料被注入(ru)到該腔中。