專利名稱：一種細小文字的超精細雕刻方法
技術領域：
本發明涉及雕刻法，特別是涉及一種細小文字的超精細雕刻方法。
背景技術：
現在的電雕機雕刻的文字邊緣有大小不一的小網點存在，使線條及文字發虛。當 文字線條小到一定程度(小于0. 2mm)時，文字的筆畫將大部分都為非實地網點組成，文字 的印刷效果將很差。若承印物為紙張，將幾乎無法識別出所印刷的文字，產生這種現象的原 因是由于我們所使用的電雕機的工作機理所決定的。通常我們的解決辦法是盡量采用高線 數工藝來保證文字邊緣效果，但隨之帶來的是文字的含墨量減少，文字筆畫印不實，因此我 們只能在兼顧邊緣效果和筆畫實在程度之間找一個折中方案。

發明內容
本發明所要解決的技術問題就是為了克服上述現有技術存在的缺陷而提供一種 細小文字的超精細雕刻方法。本發明的目的可以通過以下技術方案來實現一種細小文字的超精細雕刻方法， 其特征在于，包括以下步驟1)將電雕機圖案在拼版時作分雕處理；2)調整雕刻機雕刻頭，設定P卡上交流信號；3)退回滑腳，使電流維持在平衡范圍內，進行試雕；4)檢測高光槽的寬度與正常高光值是否相同，且電流維持在平衡范圍內，若是，則 進行雕刻；5)雕刻完成后，退回至試雕位再試雕一次，測量高光槽寬度是否變化，若否，則雕 刻完成。與現有技術相比，本發明使用原有雕刻電流的直流控制信號來進行雕刻，它在銅 層上所雕刻圖形是由長短不同的槽組成，而不是以往的網點，邊緣整齊(尤其是斜豎線 條)，原有網墻的空間也被雕刻為含墨槽，所以相同文字的含墨量為原有的兩倍，同時耐印 率也可以達到正常雕刻的近二倍，含墨量是正常的兩倍，并且文字印刷效果清晰、實在。


圖1為現有雕刻法的雕刻圖形與本發明方法雕刻圖形的對比圖一；圖2為現有雕刻法的雕刻圖形與本發明方法雕刻圖形的對比圖二 ；圖3為現有雕刻法的雕刻圖形與本發明方法雕刻圖形的對比圖三；圖4為現有雕刻法的雕刻圖形與本發明方法雕刻圖形的對比圖四；圖5為現有雕刻法的雕刻圖形與本發明方法雕刻圖形的對比圖五；圖6為現有雕刻法的雕刻圖形與本發明方法雕刻圖形的對比圖六；圖7為現有雕刻法與本發明方法的實際印樣效果對比圖。
其中圖7的左側為本發明實際印樣效果，右側為現有雕刻法實際印樣效果。
具體實施例方式下面對本發明作進一步說明。1)將電雕機圖案在拼版時作分雕處理，所采用工藝與正常文字線條工藝相同。2)調整雕刻機雕刻頭，設定P卡上交流信號；3)因精細雕刻時雕刻針無固定頻率的振蕩，所以雕刻針振動幅度會減小，需適當 退回滑腳，使電流維持在平衡范圍內，進行試雕；4)檢測高光槽的寬度與正常高光值是否相同，且電流維持在平衡范圍內，若是，則 進行雕刻；5)雕刻完成后，退回至試雕位再試雕一次，測量高光槽寬度是否變化，若否，則雕 刻完成。6)若采用正常雕刻方式時，重新調整P卡上交流信號，可進行正常試雕。
權利要求
一種細小文字的超精細雕刻方法，其特征在于，包括以下步驟1)將電雕機圖案在拼版時作分雕處理；2)調整雕刻機雕刻頭，設定P卡上交流信號；3)退回滑腳，使電流維持在平衡范圍內，進行試雕；4)檢測高光槽的寬度與正常高光值是否相同，且電流維持在平衡范圍內，若是，則進行雕刻；5)雕刻完成后，退回至試雕位再試雕一次，測量高光槽寬度是否變化，若否，則雕刻完成。
全文摘要
本發明涉及一種細小文字的超精細雕刻方法，包括將電雕機圖案在拼版時作分雕處理；調整雕刻機雕刻頭，設定P卡上交流信號；退回滑腳，使電流維持在平衡范圍內，進行試雕；檢測高光槽的寬度與正常高光值是否相同，且電流維持在平衡范圍內，若是，則進行雕刻；雕刻完成后，退回至試雕位再試雕一次，測量高光槽寬度是否變化，若否，則雕刻完成。本發明使用原有雕刻電流的直流控制信號來進行雕刻，它在銅層上所雕刻圖形是由長短不同的槽組成，而不是以往的網點，邊緣整齊，原有網墻的空間也被雕刻為含墨槽，所以相同文字的含墨量為原有的兩倍，同時耐印率也可以達到正常雕刻的近二倍，含墨量是正常的兩倍，并且文字印刷效果清晰、實在。
文檔編號B41C1/045GK101987528SQ2009100561
公開日2011年3月23日 申請日期2009年8月7日 優先權日2009年8月7日
發明者衛永新 申請人:上海運安制版有限公司