一種新型密封涂層光纖的制作方法
【專利摘要】本發明公開了一種新型密封涂層光纖，包括：光纖本體和涂層，所述涂層涂覆于所述光纖本體的外表面，所述光纖本體的材質的質量配比包括二氧化硅100份、二氧化鍺20~30份、氧化鈉5~8份、氧化硼5~8份、氧化鉀5~8份、氧化鋁5~8份、氧化鎂5~8份、氧化鈣5~8份、氟化鋯3~6份、氟化鋇3~6份、氟化鑭3~6份、氟化鋁3~6份、氟化鈉3~6份、氫氧化硅2~10份、五氧化二磷2~7份。通過上述方式，本發明新型密封涂層光纖具有結構新穎、堅固耐用、傳輸速率快、損耗小、耐熱性好、環境適應性好、安全可靠、使用壽命長等優點，在新型密封涂層光纖的普及上有著廣泛的市場前景。
【專利說明】一種新型密封涂層光纖

【技術領域】
[0001 ] 本發明涉及電子電器領域，特別是涉及一種新型密封涂層光纖。

【背景技術】
[0002]隨著現代社會與技術的不斷進步，電子電器產品逐漸走上了生活與工業的舞臺，電子電器產品的更新換代也日趨加速，主要包括電子電器工具、電子電器零部件和安防電子電器等等，其中各個電子電器之間的連接問題日益突出，傳輸線本體就應運而生，而影響傳輸線本體質量的因素主要包括絕緣效果、信號屏蔽效果、傳輸速率等，現有的傳輸線本體往往因為設計不合理而導致傳輸的速率降低、環境適應力差、易被腐蝕、耐熱性差、抗老化性差等問題，不利于使用。


【發明內容】

[0003]本發明主要解決的技術問題是提供一種新型密封涂層光纖，通過使用新型的配方來制作光纖本體、并在光纖本體的外表面涂覆新型涂層，從而在保證光纖的傳輸品質的同時，提高了光纖的抗老化性、耐熱性、防紫外線性等性能，結構新穎、堅固耐用、環境適應性好、安全可靠，在新型密封涂層光纖的普及上有著廣泛的市場前景。
[0004]為解決上述技術問題，本發明提供一種新型密封涂層光纖，包括:光纖本體和涂層， 所述光纖本體的材質的質量配比包括二氧化硅100份、二氧化鍺20-30份、氧化鈉5~8份、氧化硼5、份、氧化鉀5、份、氧化鋁5、份、氧化鎂5、份、氧化鈣5、份、氟化鋯3~6份、氟化鋇3飛份、氟化鑭3飛份、氟化鋁3飛份、氟化鈉3飛份、氫氧化硅2~10份、五氧化二磷2~7份，
所述涂層涂覆于所述光纖本體的外表面，所述涂層的材質的質量配比包括碳20份、碳化硅8~16份、碳化鎳8~12份、碳化鉻6~12份、碳化鈦6~10份、鎳15~20份、銅12~18份、鋁10~16份、鋅2~4份、鉻4~10份、鉻2~5份、鈦2~5份。
[0005]在本發明一個較佳實施例中，它包括如下步驟:
(1)將上述二氧化硅100份和二氧化鍺20-30份均勻混合，研磨至粒徑小于500微米，然后放置在模具中并攪拌1min以上，然后將氧化鈉51份、氧化硼5~8份、氧化鉀5~8份、氧化鋁5、份、氧化鎂5、份、氧化鈣5、份、氟化鋯3~6份、氟化鋇3~6份、氟化鑭3~6份、氟化鋁3飛份、氟化鈉3飛份、氫氧化硅2~10份、五氧化二磷2~7份的充分混合物研磨至粒徑小于300微米，緩慢傾灑在模具中，同時攪拌原料保證兩者充分混合，
(2)將上述模具壓緊，在溫度2300°C以上的高溫中隔絕空氣燒制至少120min，隔絕空氣直至冷卻成型，
(3)將碳20份、碳化硅8~16份、碳化鎳8~12份、碳化鉻6~12份、碳化鈦6~10份、鎳15~20份、銅12~18份、鋁10~16份、鋅2~4份、鉻4~10份、鉻2~5份、鈦2~5份的混合物充分混合，并研磨制成粒徑小于20微米的顆粒物，使用氫氧火焰1900°C以上溫度的噴燈將上述顆粒物均勻噴灑在光纖本體的外表面，形成薄膜涂層，此過程中隔絕空氣，
(4)將帶有涂層的光纖本體放置在溫度1600°C以上的設備中加熱成型，此過程隔絕空氣，
(5)繼續隔絕空氣直至冷卻。
[0006]在本發明一個較佳實施例中，所述光纖本體為圓柱形，橫向截面的直徑范圍為3(Tl30mm、長度為 40~120cm。
[0007]在本發明一個較佳實施例中，所述涂層的厚度小于0.2mm。
[0008]在本發明一個較佳實施例中，步驟(3)中采用氫氧氣作為涂料原料的載體。
[0009]在本發明一個較佳實施例中，步驟(3 )中的氫氧氣和涂料原料的流量恒定不變。
[0010]在本發明一個較佳實施例中，步驟(3)中的氫氧氣和涂料原料的氣體比為1:2~3。
[0011]在本發明一個較佳實施例中，步驟(4)中的加熱時間為2(T40min。
[0012]在本發明一個較佳實施例中，步驟(5)中要求溫度冷卻至40°C以下。
[0013]在本發明一個較佳實施例中，步驟(2)、(3)、(4)、(5)中采用氮氣或者惰性氣體來隔絕空氣。
[0014]本發明的有益效果是:本發明新型密封涂層光纖具有結構新穎、堅固耐用、傳輸速率快、損耗小、耐熱性好、環境適應性好、安全可靠、使用壽命長等優點，在新型密封涂層光纖的普及上有著廣泛的市場前景。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0015]為了更清楚地說明本發明實施例中的技術方案，下面將對實施例描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發明的一些實施例，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創造性勞動的前提下，還可以根據這些附圖獲得其它的附圖，其中:
圖1是本發明的新型密封涂層光纖一較佳實施例的結構示意圖；
附圖中各部件的標記如下:1、光纖本體，2、涂層。

【具體實施方式】
[0016]下面將對本發明實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅是本發明的一部分實施例，而不是全部的實施例。基于本發明中的實施例，本領域普通技術人員在沒有做出創造性勞動前提下所獲得的所有其它實施例，都屬于本發明保護的范圍。
[0017]本發明實施例一包括:
一種新型密封涂層光纖，包括:光纖本體I和涂層2，
所述光纖本體I的材質的質量配比包括二氧化硅100份、二氧化鍺20份、氧化鈉5份、氧化硼5份、氧化鉀5份、氧化鋁5份、氧化鎂5份、氧化鈣5份、氟化鋯3份、氟化鋇3份、氟化鑭3份、氟化鋁3份、氟化鈉3份、氫氧化硅2份、五氧化二磷2份，
所述涂層2涂覆于所述光纖本體I的外表面，所述涂層2的材質的質量配比包括碳20份、碳化硅8份、碳化鎳8份、碳化鉻6份、碳化鈦6份、鎳15份、銅12份、鋁10份、鋅2份、鉻4份、鉻2份、鈦2份。
[0018]優選地，它包括如下步驟:
(1)將上述二氧化硅100份和二氧化鍺20份均勻混合，研磨至粒徑小于500微米，然后放置在模具中并攪拌1min以上，然后將氧化鈉5份、氧化硼5份、氧化鉀5份、氧化鋁5份、氧化鎂5份、氧化鈣5份、氟化鋯3份、氟化鋇3份、氟化鑭3份、氟化鋁3份、氟化鈉3份、氫氧化硅2份、五氧化二磷2份的充分混合物研磨至粒徑小于300微米，緩慢傾灑在模具中，同時攪拌原料保證兩者充分混合，
(2)將上述模具壓緊，在溫度2300°C以上的高溫中隔絕空氣燒制至少120min，隔絕空氣直至冷卻成型，
(3)將碳20份、碳化硅8份、碳化鎳8份、碳化鉻6份、碳化鈦6份、鎳15份、銅12份、鋁10份、鋅2份、鉻4份、鉻2份、鈦2份的混合物充分混合，并研磨制成粒徑小于20微米的顆粒物，使用氫氧火焰1900°C以上溫度的噴燈將上述顆粒物均勻噴灑在光纖本體的外表面，形成薄膜涂層2，此過程中隔絕空氣，
(4)將帶有涂層2的光纖本體I放置在溫度1600°C以上的設備中加熱成型，此過程隔絕空氣，
(5)繼續隔絕空氣直至冷卻。
[0019]優選地，所述光纖本體I為圓柱形，橫向截面的直徑范圍為3(Tl30mm、長度為40~120cm。
[0020]優選地,所述涂層2的厚度小于0.2mm。
[0021]優選地，步驟(3)中采用氫氧氣作為涂料原料的載體。
[0022]優選地，步驟(3)中的氫氧氣和涂料原料的流量恒定不變。
[0023]優選地，步驟(3)中的氫氧氣和涂料原料的氣體比為1: 2~3。
[0024]優選地，步驟(4)中的加熱時間為2(T40min。
[0025]優選地，步驟(5)中要求溫度冷卻至40°C以下。
[0026]優選地，步驟(2)、(3)、(4)、(5)中采用氮氣或者惰性氣體來隔絕空氣。
[0027]本發明實施例二包括:
一種新型密封涂層光纖，包括:光纖本體I和涂層2，
所述光纖本體I的材質的質量配比包括二氧化硅100份、二氧化鍺30份、氧化鈉8份、氧化硼8份、氧化鉀8份、氧化鋁8份、氧化鎂8份、氧化鈣8份、氟化鋯6份、氟化鋇6份、氟化鑭6份、氟化鋁6份、氟化鈉6份、氫氧化硅10份、五氧化二磷7份，
所述涂層2涂覆于所述光纖本體I的外表面，所述涂層2的材質的質量配比包括碳20份、碳化硅16份、碳化鎳12份、碳化鉻12份、碳化鈦10份、鎳120份、銅18份、鋁16份、鋅4份、鉻10份、鉻5份、鈦5份。
[0028]優選地，它包括如下步驟:
(1)將上述二氧化硅100份和二氧化鍺30份均勻混合，研磨至粒徑小于500微米，然后放置在模具中并攪拌1min以上，然后將氧化鈉8份、氧化硼8份、氧化鉀8份、氧化鋁8份、氧化鎂8份、氧化鈣8份、氟化鋯6份、氟化鋇6份、氟化鑭6份、氟化鋁6份、氟化鈉6份、氫氧化硅10份、五氧化二磷7份的充分混合物研磨至粒徑小于300微米，緩慢傾灑在模具中，同時攪拌原料保證兩者充分混合，
(2)將上述模具壓緊，在溫度2300°C以上的高溫中隔絕空氣燒制至少120min，隔絕空氣直至冷卻成型，
(3)將碳20份、碳化硅16份、碳化鎳12份、碳化鉻12份、碳化鈦10份、鎳20份、銅18份、鋁16份、鋅4份、鉻10份、鉻5份、鈦5份的混合物充分混合，并研磨制成粒徑小于20微米的顆粒物，使用氫氧火焰1900°C以上溫度的噴燈將上述顆粒物均勻噴灑在光纖本體I的外表面，形成薄膜涂層2，此過程中隔絕空氣，
(4)將帶有涂層2的光纖本體I放置在溫度1600°C以上的設備中加熱成型，此過程隔絕空氣，
(5)繼續隔絕空氣直至冷卻。
[0029]優選地，所述光纖本體I為圓柱形，橫向截面的直徑范圍為3(Tl30mm、長度為40~120cm。
[0030]優選地，所述涂層2的厚度小于0.2mm。
[0031]優選地，步驟(3)中采用氫氧氣作為涂料原料的載體。
[0032]優選地，步驟(3)中的氫氧氣和涂料原料的流量恒定不變。
[0033]優選地，步驟(3)中的氫氧氣和涂料原料的氣體比為1:2~3。
[0034]優選地，步驟(4)中的加熱時間為2(T40min。
[0035]優選地，步驟(5)中要求溫度冷卻至40°C以下。
[0036]優選地，步驟(2)、(3)、(4)、(5)中采用氮氣或者惰性氣體來隔絕空氣。
[0037]本發明實施例三包括:
一種新型密封涂層光纖，包括:光纖本體I和涂層2，
所述光纖本體I的材質的質量配比包括二氧化硅100份、二氧化鍺25份、氧化鈉6份、氧化硼6份、氧化鉀6份、氧化鋁6份、氧化鎂6份、氧化鈣6份、氟化鋯4份、氟化鋇4份、氟化鑭4份、氟化鋁4份、氟化鈉4份、氫氧化硅6份、五氧化二磷5份，
所述涂層2涂覆于所述光纖本體I的外表面，所述涂層2的材質的質量配比包括碳20份、碳化硅12份、碳化鎳10份、碳化鉻9份、碳化鈦8份、鎳17份、銅15份、鋁13份、鋅3份、鉻7份、鉻3份、鈦3份。
[0038]優選地，它包括如下步驟:
(1)將上述二氧化硅100份和二氧化鍺25份均勻混合，研磨至粒徑小于500微米，然后放置在模具中并攪拌1min以上，然后將氧化鈉6份、氧化硼6份、氧化鉀6份、氧化鋁6份、氧化鎂6份、氧化鈣6份、氟化鋯4份、氟化鋇4份、氟化鑭4份、氟化鋁4份、氟化鈉4份、氫氧化硅6份、五氧化二磷5份的充分混合物研磨至粒徑小于300微米，緩慢傾灑在模具中，同時攪拌原料保證兩者充分混合，
(2)將上述模具壓緊，在溫度2300°C以上的高溫中隔絕空氣燒制至少120min，隔絕空氣直至冷卻成型，
(3)將碳20份、碳化硅12份、碳化鎳10份、碳化鉻9份、碳化鈦8份、鎳17份、銅15份、鋁13份、鋅3份、鉻7份、鉻3份、鈦3份的混合物充分混合，并研磨制成粒徑小于20微米的顆粒物，使用氫氧火焰1900°C以上溫度的噴燈將上述顆粒物均勻噴灑在光纖本體的外表面，形成薄膜涂層2，此過程中隔絕空氣，
(4)將帶有涂層2的光纖本體I放置在溫度1600°C以上的設備中加熱成型，此過程隔絕空氣，(5)繼續隔絕空氣直至冷卻。
[0039]優選地，所述光纖本體I為圓柱形，橫向截面的直徑范圍為3(Tl30mm、長度為40~120cm。
[0040]優選地，所述涂層2的厚度小于0.2mm。
[0041]優選地，步驟(3)中采用氫氧氣作為涂料原料的載體。
[0042]優選地，步驟(3)中的氫氧氣和涂料原料的流量恒定不變。
[0043]優選地，步驟(3)中的氫氧氣和涂料原料的氣體比為1:2~3。
[0044]優選地，步驟(4)中的加熱時間為2(T40min。
[0045]優選地，步驟(5)中要求溫度冷卻至40°C以下。
[0046]優選地，步驟(2)、(3)、(4)、(5)中采用氮氣或者惰性氣體來隔絕空氣。
[0047]本發明新型密封涂層光纖的有益效果是:
一、通過采用新型的配方來作為光纖本體的材質，從而在保證光纖的傳輸品質的同時，提高了光纖的抗老化性、耐熱性、防紫外線性等性能；
二、通過采用新型的涂料涂覆在光纖本體的外表面，改善了光纖的抗老化性、耐熱性、防紫外線性等性能，結構新穎、堅固耐用、環境適應性好、安全可靠；
三、相對于一般的新型密封涂層光纖，這里的新型密封涂層光纖的制備過程采用氮氣或者惰性氣體來隔絕空氣，從而起到保護光纖本體和涂層不受氧化的效果，提高了產品的純度。
[0048]以上所述僅為本發明的實施例，并非因此限制本發明的專利范圍，凡是利用本發明說明書內容所作的等效結構或等效流程變換，或直接或間接運用在其它相關的【技術領域】，均同理包括在本發明的專利保護范圍內。
【權利要求】
1.一種新型密封涂層光纖，包括:光纖本體和涂層，其特征在于， 所述光纖本體的材質的質量配比包括二氧化硅100份、二氧化鍺20-30份、氧化鈉5~8份、氧化硼5、份、氧化鉀5、份、氧化鋁5、份、氧化鎂5、份、氧化鈣5、份、氟化鋯3~6份、氟化鋇3飛份、氟化鑭3飛份、氟化鋁3飛份、氟化鈉3飛份、氫氧化硅2~10份、五氧化二磷2~7份， 所述涂層涂覆于所述光纖本體的外表面，所述涂層的材質的質量配比包括碳20份、碳化硅8~16份、碳化鎳8~12份、碳化鉻6~12份、碳化鈦6~10份、鎳15~20份、銅12~18份、鋁10~16份、鋅2~4份、鉻4~10份、鉻2~5份、鈦2~5份。
2.根據權利要求1所述的新型密封涂層光纖，其特征在于，它包括如下步驟: (1)將上述二氧化硅100份和二氧化鍺20-30份均勻混合，研磨至粒徑小于500微米，然后放置在模具中并攪拌1min以上，然后將氧化鈉51份、氧化硼5~8份、氧化鉀5~8份、氧化鋁5、份、氧化鎂5、份、氧化鈣5、份、氟化鋯3~6份、氟化鋇3~6份、氟化鑭3~6份、氟化鋁3飛份、氟化鈉3飛份、氫氧化硅2~10份、五氧化二磷2~7份的充分混合物研磨至粒徑小于300微米，緩慢傾灑在模具中，同時攪拌原料保證兩者充分混合， (2)將上述模具壓緊，在溫度2300°C以上的高溫中隔絕空氣燒制至少120min，隔絕空氣直至冷卻成型， (3)將碳20份、碳化硅8~16份、碳化鎳8~12份、碳化鉻6~12份、碳化鈦6~10份、鎳15~20份、銅12~18份、鋁10~16份、鋅2~4份、鉻4~10份、鉻2~5份、鈦2~5份的混合物充分混合，并研磨制成粒徑小于20微米的顆粒物，使用氫氧火焰1900°C以上溫度的噴燈將上述顆粒物均勻噴灑在光纖本體的外表面，形成薄膜涂層，此過程中隔絕空氣， (4)將帶有涂層的光纖本體放置在溫度1600°C以上的設備中加熱成型，此過程隔絕空氣， (5)繼續隔絕空氣直至冷卻。
3.根據權利要求1所述的新型密封涂層光纖，其特征在于，所述光纖本體為圓柱形，橫向截面的直徑范圍為3(Tl30mm、長度為4(Tl20cm。
4.根據權利要求1所述的新型密封涂層光纖，其特征在于，所述涂層的厚度小于0.2mmο
5.根據權利要求2所述的新型密封涂層光纖，其特征在于，步驟(3)中采用氫氧氣作為涂料原料的載體。
6.根據權利要求5所述的新型密封涂層光纖，其特征在于，步驟(3)中的氫氧氣和涂料原料的流量恒定不變。
7.根據權利要求5所述的新型密封涂層光纖，其特征在于，步驟(3)中的氫氧氣和涂料原料的氣體比為1:2~3。
8.根據權利要求2所述的新型密封涂層光纖，其特征在于，步驟(4)中的加熱時間為20~40mino
9.根據權利要求2所述的新型密封涂層光纖，其特征在于，步驟(5)中要求溫度冷卻至40°C以下。
10. 根據權利要求2所述的新型密封涂層光纖，其特征在于，步驟(2)、(3)、(4)、(5)中采用氮氣或者惰性氣體來隔絕空氣。
【文檔編號】C03C25/46GK104176941SQ201410405363
【公開日】2014年12月3日 申請日期:2014年8月18日 優先權日:2014年8月18日
【發明者】王玉南 申請人:蘇州新協力環保科技有限公司