專利名稱：一種石材加工支架的制作方法
技術領域：
本實用新型屬于建筑裝飾石材加工用具技術領域，特別涉及一種石材加工過程中使用的的石材加工支架。
背景技術：
目前，裝飾石材施工過程中，均需現場對石材進行二次加工，石材進行二次加工時多需要石材豎向放置。由于石材豎向放置不穩定、易倒塌損壞，所以對石材進行二次加工時需要有專門的支架予以支撐，該種支架要滿足能承載較重的側向壓力、穩固且不損傷石材表面的要求。但是，施工現場不可能提供現成的、適用的石材加工用支架，這樣就影響作業如期完工，影響經濟效益
實用新型內容
本實用新型提供了一種結構簡單、便于制作、使用簡便和安全可靠的石材加工支架。為實現上述目的，本實用新型的技術方案是一種石材加工支架，包括方形頂框架、方形底框架和支腳，方形頂框架小于方形底框架，方形頂框架與方形底框架通過支腳間隔相連，方形頂框架與方形底框架相互平行。所述方形底框架與支腳的夾角為a，其范圍為60°彡a彡75°。與現有技術相比，本實用新型的優點是I、本實用新型包括方形頂框架、方形底框架和支腳，方形頂框架小于方形底框架，方形頂框架與方形底框架通過支腳間隔相連，方形頂框架與方形底框架相互平行，使用時，在其兩側分別放置等厚度的豎向木方，以避免石材與方形頂框架、方形底框架和支腳的金屬直接接觸，即可雙側靠立石材板進行加工作業，其結構簡單，便于制作，使用簡便，可承受側向壓力I. 2T，安全可靠。2、方形底框架與支腳的夾角為a，其范圍為60° ( a < 75°，結構穩定性強，不易倒塌，使用安全可靠。3、本實用新型可適用于石材、地板磚、飾面磚等各種須豎向加工的板材，應用范圍寬，利用率高。

圖I為本實用新型的結構示意圖；圖2為圖I的俯視圖；圖3為圖I的左視圖。
具體實施方式
如圖I、圖2和圖3所示的石材加工支架，其包括方形頂框架I、方形底框架2和支腳3，方形頂框架I小于方形底框架2，方形頂框架I與方形底框架2通過支腳3間隔相連，方形頂框架I與方形底框架2相互平行。方形底框架2與支腳3的夾角為a，其范圍為60° ^ a ^ 75°。在本實施方式中，方形頂框架I采用Z 50X50X5mm的角鋼焊接而成，其寬度為15(T200mm，長度彡12m ;方形底框架2采用Z 50X 50X 5mm的角鋼焊接而成，其距離地面IOOmm ;支腳3采用Z 50 X 50 X 5mm的角鋼，其與方形頂框架I和方形 底框架2的焊點設在內偵彳，支腳3的高度為600mm、間距< 1200mm。本實用新型使用時，在其兩側分別放置等厚度的豎向木方，以避免石材與方形頂框架I、方形底框架2和支腳3的金屬直接接觸，即可雙側靠立石材板進行加工作業。
權利要求1.一種石材加工支架，其特征在于包括方形頂框架、方形底框架和支腳，方形頂框架小于方形底框架，方形頂框架與方形底框架通過支腳間隔相連，方形頂框架與方形底框架相互平行。
2.如權利要求I所述的石材加工支架，其特征在于所述方形底框架與支腳的夾角為a，其范圍為60°彡a彡75°。
專利摘要本實用新型公開了一種石材加工支架，包括方形頂框架、方形底框架和支腳，方形頂框架小于方形底框架，方形頂框架與方形底框架通過支腳間隔相連，方形頂框架與方形底框架相互平行。使用時，在其兩側分別放置等厚度的豎向木方，以避免石材與方形頂框架、方形底框架和支腳的金屬直接接觸，即可雙側靠立石材板進行加工作業，其結構簡單，便于制作，使用簡便，可承受側向壓力1.2T，安全可靠。
文檔編號B28D7/04GK202462677SQ20122009227
公開日2012年10月3日 申請日期2012年3月13日 優先權日2012年3月13日
發明者吳豫紅, 楊瑞華, 王浩, 白梅, 鄭凌宇 申請人:中建七局建筑裝飾工程有限公司