專利名稱：：用于施設多孔的玻璃層的方法用于施設多孔的玻璃層的方法
發明內容本發明涉及一種用以施設多孔的玻璃層的方法以及一種包括多孔的玻璃層的復合材料。
背景技術：
：多孔的玻璃層在基材上的產生是已知的。例如EP708061(Yazawa等人)描述多孔的玻璃層通過腐蝕法的生產。已知的用于生產多孔的玻璃層的腐蝕法具有缺點，其是很昂貴的。例如為生產多孔的玻璃層需要多個方法步驟。另一方面不能任意調節玻璃層的孔隙度。此外腐蝕的玻璃層的孔隙度大多不是很均質的，通常層的孔隙度隨著漸增的深度而降低。利用腐蝕法也不能制造較厚的層。
發明內容本發明的目的在于，提供一種用以施設至少一個多孔的玻璃層的方法，其盡可能是簡單的和低成本的。此外本發明的目的是，提供一種方法，其能夠在設備中提供具有不同孔隙度的玻璃層。應該可以提供不同厚度和不同孔隙度的玻璃層。孔隙度應該沿整個層厚是可調的，從而也有可能施設具有基本上均質的孔隙度或有針對性地逐漸改變的孔隙度的層。此外本發明的目的是，提供一種復合材料，其是納米構造的并且具有光學上或化學上活性的特性。已通過按照獨立權利要求所述的一種用于施設多孔的玻璃層的方法和一種復合材料達到了本發明的該目的。由相應的從屬權利要求得知本發明優選實施形式和進一步構成。本發明設定一種用于施設多孔的玻璃層的方法，其中準備一基材和一材料源并且借助于PVD法在基材上沉積一玻璃層，其具有超過百分之一的孔隙度。本發明還設定一種用于施設玻璃層的方法，其包括以下步驟準備至少一個基材，準備至少一個材料源和沉積至少一個多孔的玻璃層。在一實施形式中沉積具有一超過1%的孔隙度的玻璃層。對此優選多孔的玻璃層借助PVD法、特別借助于蒸發來沉積在基材上。本發明已找到，借助于PVD(物理氣相沉積)法可沉積多孔的玻璃層。這樣的PVD法可以在一個過程步驟中實施并且比傳統的腐蝕法顯著較少耗費的。并且在PVD法中可以有針對性地控制玻璃層的孔隙度。例如有可能施設一具有基本上均質的孔隙度的玻璃層，反之已知的腐蝕法大多具有從基材面向外側面增加的孔隙度。多孔的玻璃層優選地構成為功能層。在沉積的玻璃層中包括的空隙按已知的現有技術是不符合要求的。相反本發明人已找到，可以提供一種層，其由于孔隙度用作為功能層，因此首次能夠實現層的孔隙度確定的功能，它們在以下更詳細地描述。按照本發明設定，產生有針對性的梯度層，亦即具有從外向內有針對性地改變的孔隙度的層。特別按照本發明設定，產生在基材面上具有高的起始孔隙度和在外側面上具有較小的孔隙度的層。本發明的方法適用于幾乎全部的類型的基材，特別是也可以采用塑料基材。借助于PVD法有可能也對較大的基材如窗、顯示器等進行涂層。這可以以優選的方式在連續設備中實現。作為材料源準備玻璃靶極。玻璃可以例如通過蒸發例如通過電子束蒸發、或通過濺射轉化為氣相并接著沉積在基材上。度。對此通常較高的沉積率和/或較高的分壓力導致較高的孔隙度。經由剩余氣體的成分可以調節層的其他的特殊的特性，例如在塑料上的粘附性或功能特性。-說本恭。邦9^侑點，即可以保持很低的基材溫度并且也可以對由一聚合物材料構成的基材進行涂層。通過蒸發產生的微小的熱負荷還允許采用光刻的技術并且對此特別采用熱敏的光刻漆或光刻膠。因此然后也可以結構化地施設各個由多孔的玻璃構造的層。這包括接著的方法步驟的一次或多次的實施，這些方法步驟包括基材用光敏的保護層的涂布，施設的保護層的光刻的構造、因此預構造的基材用一多孔的玻璃層的涂布以及保護層的剝離(Lift-Off)。此外蒸發、特別是電子束蒸發的特征在于，相對于濺射提高的沉積率。以百分數說明的孔隙度在該申請的目的上定義為總孔隙度，因此以百分數在數量上說明微孔體積在總體積上的分量，其中不僅考慮敞開的而且考慮封閉的微孔。結合的孔隙度的鑒定可以例如經由層密度的確定來實現(例如借助于具有條紋的入射的X射線反射實驗(GIXE)),或可由層的涂層質量(在制造時經由石英晶體振蕩測定是可得到的)和幾何的層密度(在光學上是可確定的)相對于致密的初始材料或一包括與該層相同的化學成分的致密的玻璃的密度算出。(敞開的)微孔尺寸也可以借助于擴散實驗來確定，其中使層暴露在不同尺寸的示蹤分子下并且該材料在層中的擴散通過一定的尺寸來確定。此外層橫截面的透射照片或掃描電子照片或光學顯微鏡照片用來確定微孔尺寸和微孔分布(敞開的和封閉的)是可能的。孔隙度也可以經由IR光鐠學來實施。一般在接近的和中間的IR區域(4000cm"至400cnT1)內實施IR光語學并且可得出關于ODS的組成和結構。例如可以通過IR吸收頻帶的強度的比較來確定層組分的相對的分量。IR光譜學在ODS上的另一應用領域是探測污染物，如水或硅醇團，利用它們在3350cnT1(-OH)和3650cm"(氫化合的硅醇團)時的特征的吸收頻帶。通過這些污染物的存在可以推斷出ODS的孑L隙度(Maissel，Glang，"HandbookofThinFilmTechnology",McGraw-Hill,1970)。據推測，孔隙度還這樣來實現，即特別在高的沉積率時導致玻璃層在基材表面上的柱狀生長。在各個柱之間的間隙導致玻璃層的一多孔的結構。所謂玻璃層在本申請的目的上也應被理解為部分結晶的層，亦即這樣的層，其中沉積的玻璃不完全是非品質的結構。在優選的方式中在施設多孔的玻璃層時的沉積率處在0.1|Lim/min與lO^im/min之間，優選在0.5|um/min與8)im/min之間，并特別優選在l)im/min與4fim/min之間。已證明，在沉積率超過0.5|im/min時沉積的結構變成越來越有孔隙的。借助于本發明的方法因此有可能生產具有在1%與60%之間、特別在5%與50%之間的孔隙度的玻璃層。具有這樣的孔隙度的層適用于一整系列的應用目的。反之，具有超過60%的孔隙度的層具有缺點，即機械穩定性是很受限制的。在優選的方式中，基材溫度不超過120。C，甚至有可能使基材溫度不超過IOO'C或80°C。這樣有機材料、特別是OLED也可以凈皮涂布。這在借助于電子束蒸發方法沉積多孔的玻璃層時特別有可能。按照本發明能夠實現具有lnm至1000|um的厚度的層厚。因此可以從單層直到在毫米范圍內的層生產幾乎任何厚度的多孔的層。在本發明的進一步構成中，準備一材料源，由其生長一層，該層至少產生二元的系統。已證明，顯著地改進這樣的至少二元的玻璃層的光學的和機械的特性。據推測，這樣的二元的系統較不易于結晶化，從而基本上避免部分結晶的結構，其不僅對于玻璃的光學的而且對于其機械的特性是不利的。特別是金屬氧化物很好地適用于一這樣的二元的系統的構成。按照本發明的進一步構成，準備至少兩個不同的材料源。這樣有可能生產混合結構。特別是設定，通過兩材料源的準備(它們相應的沉積率可以改變)生產具有逐漸改變的材料成分的層。在本發明的優選的實施形式中，在一個過程步驟中沉積多孔的玻璃層。不同于傳統的腐蝕法，按照本發明有可能，在真空室中在一個方法步驟中生產多孔的層。因此本發明的方法比傳統的腐蝕法是顯著更便宜的和更簡單的。在本發明的優選的實施形式中，在一超過l(T3毫巴、優選超過l(T2毫巴的壓力下實現所述至少一個多孔的玻璃層的沉積。已證明，對于PVD法較高的壓力導致，沉積優選的多孔的層。在本發明的進一步構成中，給所述至少一個多孔的玻璃層至少部分地摻雜，以便有針對性改變光學的或其他的特性。通過外來原子的摻雜可以例如通過摻雜材料、特別是由3/5價元素如鋁、砷、鎵、磷或銻的共蒸發達到。這樣的摻雜特別在電子技術中是重要的，對此特別采用借助于本發明的方法制成的多孔的玻璃層。多孔的玻璃層在優選的方式中具有在lnm與100ixm之間、優選在100nm與l(Him之間的平均的微孔橫截面。有可能為了不同的應用提供寬范圍的不同的微孔橫截面。對此微孔橫截面通常在微孔性的范圍內變化。特別是例如對于離子選擇性的薄膜也可以生產具有lnm至10nm的微孔橫截面的玻璃層。按照本發明，玻璃層的多孔性，因此孔隙度和平均的微孔橫截面可以經由沉積率、過程壓力和基材溫度來控制。已證明，較高的沉積率和較高的過程壓力通常導致一較高的孔隙度。較低的溫度通常也導致較高的孔隙度。在本發明的進一步構成中，特別為了控制孔隙度，在沉積時添加水蒸氣。已表明，通過水蒸氣的添加顯著地提高孔隙度。據推測，通過化學的相互作用和形成的OH團在沉積時形成結塊或聚集體，它們提高孔隙度。為了提高孔隙度，按選擇可以添加有機的材料、特別是曱烷、乙烷或乙炔。人們推測，通過有機的剩余團的加入形成空隙，它們產生的結果是提高的孔隙度。在本發明的進一步構成中，在沉積過程中機械地噴撒納米粒子，亦即尺寸為約lnm至10nm的粒子。這樣的納米粒子凈皮加入沉積的多孔的玻璃層中并且導致具有納米級構造的層。多孔的玻璃層在本發明的優選的實施形式中形成薄膜，亦即形成用于分隔液體或氣體的多孔的壁。特別是通過孔隙度和平均的微孔橫截面的有針對性的匹配可制造半滲透的薄膜，借此材料隔離是可能的。如果制造薄膜，特別是層從載體基材上的分離可以包括例如按機械的熱的方法或化學的方法。也可以溶解或清除載體基材，例如通過腐蝕去掉，特別是借助于離子束、化學方式或通過載體的溶解(例如可溶于水的載體基材處于水中)。作為基材考慮特別是聚合物，尤其是聚氧化乙烯。由于低于80t:的過程溫度是可能的，借助于本發明也可對這樣的材料進行涂布。按選擇，特別為了構成電極，也可采用包括金屬的基材。在本發明的進一步構成中，采用手性的載體材料。這樣按簡單的方式生產手性的薄膜，其可用于隔離對映體。按選擇或以組合也可以蒸發或噴撒手性的化合物，以便也賦予多孔的玻璃層手性的特性。在本發明的進一步構成中，同時沉積一起催化作用的材料。多孔的玻璃層由此構成一起催化作用的材料，這樣的多孔的玻璃層的很大的表面對其有利。按照本發明設定，也沉積結晶的區段。在本發明的進一步構成中，沉積二氧化鈦。包括二氧化鈦的層可以例如用于光化學中。特別在含水的環境中在用光輻射時可以釋放氧和氫。包括氧化鈦的層具有很大的表面并且產生有效的新生的氧，其另外具有氧化的和抗菌的作用，該進一步構成可以特別用于水的凈化和處理。一般通過其他的材料的共蒸發或噴撒可以制造具有各種極不同的成分的層。對此可以添加顏料、納米材料或有機金屬的復合體，借此可以生產極不同的應用范圍的層。在本發明的進一步構成中，用聚合物溶液浸漬多孔的玻璃層。因此由一聚合物溶液至少部分填滿空隙。同時聚合物溶液本身由于其化學的或光學的特性可以是一具有化學的或光學的特性的功能層或材料載體的一部分。按照本發明也設定，采用單體溶液，亦即溶液包括至少一個單體，其中單體只在層中被聚合。設定，用半導的材料充填多孔的玻璃層。在用光輻射時在半導的材料中分離出電子，它們在相界上被分離地傳向電極。這樣制成的基材可以特別用于光電學或光化學中。按照本發明還設定，至少部分地用導電的材料充填多孔的玻璃層。然后可將這樣的層系統特別用于電工技術和電子技術中，例如用于蓄電池。按照本發明沉積具有變化的孔隙度的梯度層。對此不僅可以產生孔隙度向外逐漸增大的梯度層而且可以產生孔隙度向外逐漸減小的梯度層。但也設定，沉積一具有交替的孔隙度的層。按照本發明可以在一個過程步驟中沉積這樣的具有交替的孔隙度的層。在本發明的進一步構成中設定，層設有電致發光的材料。這樣的電致發光的材料可以用于發光的構件的制造。按照本發明還設定，將這樣的具有電致發光的材料的層用于光電子學中。除這樣的層的簡單的制造性外，玻璃的熱負荷能力是較大的優點。在本發明的進一步構成中，在多孔的玻璃層上施設一密封層。這樣的密封層可以例如是一具有一高密度的玻璃層，其同樣可借助于PVD法施設或沉積。這可以以特別簡單的方式在一個過程步驟中實現。這樣，設定這樣改變過程參數，即最后沉積一密封層。這可以特別通過降低沉積率和/或降低設備中的壓力來實現。這樣的密封層在優選的方式中包括二元的系統并且可以附加通過離子束壓縮或等離子作用進行沉積，其產生的結果是繼續增加的密度。按照本發明還設定，沉積多孔的玻璃層，其用溶液、特別單體溶液或聚合物溶液浸漬并且必要時在干燥或聚合以后用緊密的玻璃層密封。本發明還涉及另一種用以制造多孔的玻璃層的方法。按照該方法，準備至少一種第一材料和第二材料。然后由兩材料制造一復合材料。例如第一材料可以包括一玻璃，該玻璃與一作為第二材料的填料用來形成復合材料。按照本發明還設定，只在制造復合材料時才形成玻璃、特別是第一材料首先可以以結晶的形式存在并且沉積在基材上，同時其在那里成玻璃狀凝固。最后至少部分地清除第二材料，從而留下多孔的玻璃層。第二材料因此可以看作為填料并且通過適當的方法清除，從而留下空隙。作為結果形成多孔的玻璃層。在本發明的目的上所謂一玻璃層也被理解為除玻璃外還包括非玻璃狀材料的層。不僅完全地清除第二材料而且部分地清除第二材料是可設想的。特別設定，只部分地清除第二材料，這樣雖然形成空隙，但留下第二材料的殘留物作為單個玻璃粒子的結合劑。本發明的該實施形式不僅允許在基材上構成多孔的玻璃層，其中例如沉積第一和第二材料，而且允許制造一多孔的層作為單獨的層，而不需要釆用基材。優選作為第一材料采用玻璃。但也可以釆用結晶的材料，其只在沉積在基材上時才形成玻璃狀的結構。為了達到復合材料的能夠產生多孔結構的結構，按照本發明設定，準備第一和至少第二材料作為材料混合物，因此例如作為溶液或彌散體。在復合材料的制造過程中至少部分地通過相分離而分離各材料。該混合物具有一結構，其由于第一材料的細微的分布不可能構成多孔的玻璃層。在復合材料的制造過程中，因此例如在沉積一層時這樣分離各材料，即形成一具有填料的足夠大的夾雜物的結構。然后清除填料并留下多孔的玻璃層。在本發明的目的上因此復合材料還可以稱為混合物，第二材料在第一材料中的夾雜物平均占有只不多的體積，從而具有可測量的孔隙度的層的制造變成可能的。按選擇或以組合按照本發明設定，各材料只在復合材料的制造以后才至少部分地分離。這特別通過電磁輻射的作用特別通過光的作用、或通過帶電粒子的作用特別通過離子的作用來實現。該處理方法的優點是，經由電磁輻射作用的持續時間可以影響分離的程度并從而影響微孔大小。按選擇或以組合也可以通過加熱實現分離。在本發明的另一實施形式中，準備至少一種材料作為粒狀物。經由顆粒大小和顆粒大小分布可以調節孔隙度和多孔的玻璃層的多孔性分布。按照本發明設定，不僅準備填料或一玻璃作為粒狀物，而且也準備填料和玻璃都作為粒狀物。經由一粒狀物可以生產具有較大孔隙的多孔的玻璃層。在本發明的一優選的實施形式中，復合材料的制造包括粒狀物的擠壓。該處理方法在準備一玻璃粒狀物并同時要將填料用作為各個玻璃顆粒的粘結劑時是特別適合的。通過擠壓在各個玻璃顆粒的接觸點上形成一牢固的結合并且在清除填料時優選在這些接觸點上保留填料的殘留物。在本發明的特別優選的實施形式中，在制造復合材料時燒結至少一種玻璃粒狀物。特別設定，包括玻璃粒狀物和鹽的混合物遭受燒結過程。對此優選這樣控制燒結過程，即基本上使玻璃顆粒在其接觸點相互連結。鹽于是可以容易被分離出來并留下多孔的玻璃層。作為鹽特別提供食鹽結晶體，其可以容易用水作為溶劑而溶解。鹽結晶體的大小匹配于要求的微孔大小或要求的微孔大小分布。或者為了分解第二材料、亦即填料，將第二材料在一腐蝕浴中至少部分地腐蝕掉。通過腐蝕法也可采用包括兩種不同玻璃的混合物，如果采用一腐蝕劑并且其基本上只對一個成分起作用的話。本發明還涉及一種復合材料，其包括一沉積的具有超過1%的孔隙度的玻璃層或一借助于一本發明的方法制成的層。一這樣的復合材料的特征在于高的耐用性并且特別借助于本發明的方法比傳統的具有一多孔的層的復合材料顯著較簡單地制造。本發明還包括復合材料，其包括至少一個沉積的多孔的玻璃層。在一實施形式中沉積的多孔的玻璃層具有超過1%的孔隙度。優選借助于PVD法、特別是借助于蒸發來沉積多孔的玻璃層。利用一種用于施設多孔的玻玻層的方法或一種用于施設玻璃層的方法或一種用于制造多孔的玻璃層的方法可制造、特別是制造本發明的復合基材。按照本發明復合材料可以不僅包括一單獨的多孔的玻璃層而且包括一基材，其設有一按照本發明的多孔的玻璃層。所謂復合材料被理解為包括至少兩個功能部件的任何材料。一本發明的復合材料可以用于一整系列的應用。借助于本發明可以提供薄膜。對此在本發明的第一實施形式中將多孔的層沉積在載體基材上，然后將載體基材減薄并至少部分地清除。不僅化學的方法而且機械的方法適用于減薄。這樣采用一種基材，其可以溶解或腐蝕掉。在本發明的第二實施形式中可以放棄基材，從而省去其清除。例如按照本發明設定，將復合材料用于電化學中。對此該材料的特征在于即使在較高的溫度下也具有高的耐腐蝕力和機械的耐用性。一多孔的玻璃層具有很好的潤濕特性，特別在可溶于水的化合物中。在聚合物的載體材料上或金屬基材上沉積，由本發明的復合材料構成的薄膜可以用于燃料電池中。一這樣的具有一玻璃層的薄膜不同于傳統的聚合物薄膜具有優點，其顯著較少地遭受老化過程。經由孔隙度的有針對性的調節可以生產離子選擇性的薄膜。例如設定，一離子選擇性的薄膜用于蓄電池，特別用于鋰離子電池。對此傳輸介質包括一聚合物、特別是一聚氧化乙烯。通過微小的可能的層厚可以制造極薄的蓄電池。但對于一整系列的其他的應用也需要離子選擇性的電極。本發明的方法對此具有優點，可以幾乎任意調節孔隙度。對于催化劑也設置本發明的復合材料。這樣可以例如通過催化的材料的共蒸發生產催化活性的薄膜。對此也可使用多層系統，在其各層中提供不同的反應材料。通過各微孔產生的催化反應的地點的分離導致，可以在相當大程度上阻止不符合要求的副反應。本發明的蒸鍍玻璃層還可以用于材料分離。例如設定，將這樣的層用作為分子篩或分子過濾器。有可能在很窄的范圍內調節微孔大小。這樣可選擇性清除單個分子、離子等。其優點是，即使起強腐蝕或化學侵蝕作用的材料也可利用一本發明的復合材料易于分離。通過手性的材料加入基材或多孔的玻璃層中可以生產手性的薄膜用以分離對映體。按選擇或附加，可以將至少一種手性的材料加入多孔的層中，例如通過手性的材料的噴撒。為了氣體的分離，特別在滲透和逆滲透的區域可以采用本發明的復合材料。通過高的機械穩定性可以比在傳統的純聚合物材料時更高的壓力下進行這樣的過程。在醫學的領域內也可以采用本發明的復合材料。其具有高的生物兼容性，不受身體細胞的侵蝕并且因此可以不僅用于醫學的應用而且可以用于體外。特別是設定一這樣的材料應用于透析。還設定，在制造植入物時采用本發明的復合材料。對此由多孔的玻璃構成的層可以例如用作為載體材料，在其中可以生長生物的組織。此外設定，將本發明的復合材料用于光電子學中。可以生產薄的層，它們是波長選擇性的，亦即只影響確定的波長，例如通過散射或干涉效應。經由過程參數和通過摻雜和不同材料的共蒸發可以生產具有各種極不同的光學特性的層，并且按簡單的方式例如可制造濾光器、反射開關和空腔。這些層也可用于光學的數據存儲。多孔的蒸鍍玻璃特別允許一用于制造光子的結晶體的簡單方法或一本發明的復合基材用于光子的應用。光子的應用包括例如光學開關或濾光器。光學開關構成一光學網絡中的部件，其在不同的光波導體之間例如轉換光信號，而不必事先將該信號轉變為電信號。光子的結晶體的特征特別在于空間上周期變化的折射率。借助于本發明的方法可以可再現地獲得一這樣的光子的結晶體的周期的特性對此特別通過微孔的大小控制光子的結晶體的特性。此外可以用選擇的材料填滿微孔。在這方面可能的材料可以是鐵電的、鐵磁的和/或聚合的材料。對此可以通過微孔的大小和/或用于填滿微孔的材料控制光子的結晶體的特性。然后經由外部的電場、磁場和/或光場可以控制結構的特性。通過蒸鍍技術可以優選構造化地沉積包括作為偶對的上述材料的玻璃，以便達到要求的光學效應。其他的實例對于上述的偶對包括依賴于波長的納米粒子或顏料。對此優點是通過偶對的同時的共蒸發的可能性和微孔大小實現控制簡單的行程操縱。本發明的多孔的玻璃層按照本發明也作為干涉層和隱身涂層設置。一多孔的玻璃層具有一比致密的玻璃層較小的折射率。優選在垂直的入射光時層的厚度大致為待隱去的波長的1/4。在傾斜入射時形成較厚的層。借助于相應的遮蔽技術也可以由不同厚的材料制造透鏡、DOE或菲涅耳透鏡。通過顏料、納米材料或半導體的嵌入本發明的復合材料的應用例如作為基體也設在光電學、電致發光、光致發光或光化學中。按照本發明為產生光化學活性的或電化學活性的層所需的材料在一步驟中共蒸發并且在多孔的玻璃層中分布地沉積。這樣構成的層具有一很大的表面。經由光化學的還原過程或氧化過程可以通過多孔的玻璃層有針對性地濾出例如變成自由的氣體。在電技術中本發明的復合材料的應用還特別設有金屬基材。對此對多孔的玻璃層特別有利的是，玻璃具有高的擊穿強度。因此本發明還涉及一種離子選擇性的電極、一種蓄電池、一種催化劑材料、一種過濾器、一種用于生物組織的載體材料、一種用于人體或動物體的植入物、一種光學數據存儲器、一種光電子構件、一種電技術構件和一種電容器，它們分別包括本發明的復合材料。此外本發明涉及一種抗水汽層或抗凍層。發明人已發現，借助于一本發明的方法可以形成親水的層，借此至少對于一有限的時間間隔可以阻止在一表面上水的冷凝或冰形成。同時在載體基材已加熱到環境溫度或其已適應于表面和環境的溫度以后，水由多孔的層吸收并且被散發。一這樣的抗水汽層或抗凍層由于其耐溫度性特別適用于一整系列的應用，例如汽車玻璃板、助視器或冷卻器。層的抗水汽作用或抗凍作用可以通過納米粒子、特別通過噴撒的硅納米粒子加以改善。此外可以通過有機聚合物、特別是聚氨酯或聚乙烯醇改善親水的特性。在本發明的特別的實施形式中對此用有機聚合物浸漬多孔的玻璃層。然后放出聚合物，從而微孔至少部分地重新是敞開的，但是由聚合物潤濕的。聚合物然后被時效硬化。對此在應用干燥方法時釆用聚合物溶液。或者通過聚合作用來時效硬化聚合物，該聚合作用例如可以通過用uv光輻射來產生。這樣形成多孔的玻璃層，其具有聚合物覆層。DE3222675、EP310911、DE3733636、EP389896、DE3909341、DE3909341、DE4005366、DE4111879、EP508343和WO05042798中描述多孔的玻璃層的其他的應用，它們的全部公開內容在此引入。當然，各相應的構件也可以構成復合材料的基材并因此可以是這樣的復合材料的一部分。以下要借助圖1至圖12更詳細地說明本發明。圖1示意示出本發明的復合材料的一個實施例。圖2示意示出本發明的復合材料的另一實施例。圖3示意示出用以實施本發明的方法的PVD設備。圖4示意示出本發明的數據存儲器。圖5示意示出本發明的電極。圖6示意示出本發明的植入物。圖7示意示出本發明的方法的流程圖。圖8和9示意示出多孔的玻璃層借助于相分離的制造。圖10至12示意示出利用另一可選擇的方法制造多孔的玻璃層的步驟。圖13a至13c示意示出示例性構造的多孔的玻璃層的制造。具體實施例方式圖1示意示出一本發明的復合材料l的實施例。復合材料l在該實施例中包括基材2，在這里構成為塑料基材。在基材2的頂面上借助PVD法沉積多孔的玻璃層3。多孔的玻璃層3在該實施例中具有在100nm與600nm之間的厚度。復合材料1適用于大量的應用。圖2示意示出一本發明的復合材料1的另一實施例。復合材料l包括由聚合物材料構成的基材2。在基材上借助于一電子束蒸發法沉積100nm至500nm厚的多孔的玻璃層3，其具有在10%與30%之間的孔隙度，然后用一密封層4密封多孔的玻璃層3。在該實施例中用與多孔的玻璃層3相同的材料源(未示出)涂覆該密封層。為了構成緊密的密封層，對此降低設備(未示出)的沉積率并且將設備中的壓力減小均10倍。此外借助于離子束壓實法(Ionenstrahl-Verdichtungsverfahren)進一步壓實密封層4。可以這樣在一個過程步驟中沉積密封層4，但沒有可測量的孔隙度。代替離子束也可以在等離子作用和/或等離子支持下沉積各層。這樣可以沉積一密封的層，其只具有一極小的或沒有可測量的孔隙度。圖3示意示出PVD設備IO用以實施本發明的方法并且適用于一本發明的復合材料的制造。在PVD設備IO中借助于一電子束方法給基材2涂層，其可以設置于基材夾具17中。為此在設備IO中設置電子源11，經由轉向磁鐵12將由電子源11發生的電子束指向盤形的極靶13。極靶13在該實施形式中為了達到盡可能均勻的沉積率可繞旋轉軸線14旋轉。作為極靶13或材料源在這里設置由低熔點的硅酸硼玻璃構成的盤，其在該實施例中還包括金屬氧化物并且由此在沉積的狀態下在基材2上形成二元的系統。通過電子束蒸發極靶13并且沉積在基材2上。為了偏轉次級電離子，在基材2與極靶13之間還設置兩電極15，在其上可施加電壓并可產生電場。用箭頭16標記電場的方向。經由一泵18將設備抽成真空。經由調節閥19可調節設備壓力。借助于泵18和調節閥19已可控制在基材2上沉積的層的孔隙度。為了進一步的影響，在PVD設備IO中還設置水蒸氣23的供給。水蒸氣的供給也可經由調節閥22來控制。按選擇或附加也可以供給有機氣體。在沉積時供給的水蒸氣導致產生顯著較高的孔隙度。此外設備10包括固體粒子21的供給，其同樣可經由調節閥20調節。固體粒子可以在一射流中例如在一氬氣氛中經由閥供給。對此可以例如涉及納米粒子，其可以在基材2上形成一納米構造的層。或者可以供給光活性的物質，借其在基材上沉積一光學的功能層。已證明特別作為蒸鍍玻璃適用于一本發明的用以施設多孔的玻璃層的方法是這些玻璃，其具有下列以重量百分數計的成分范圍成分玻璃范圍1玻璃范圍2Si0275-8565-75B20310-1520-30Na20l畫50.1-1Li20O.l畫lO.l畫lK200.1-10.5-5A12031-50.5-5優選的由這些組構成的蒸鍍玻璃是具有下列以重量百分數計的成分的玻璃成分玻璃1玻璃2Si0284.1%71%B20311.0%26%Na202.0%0.5%Li200.3%0.5%K200.3o/o1.0o/oA12032.6%1.0%應該指出，所述的成分并不涉及沉積的層，更確切地說在蒸鍍時成分是變化的。優選采用的玻璃特別具有下表中舉出的特性<table>tableseeoriginaldocumentpage27</column></row><table>公司Schott的蒸鍍玻璃型式8329已證明特別適用于多孔的玻璃層的蒸鍍，其具有下列以重量百分數計的成分Si0284.1%B20311.0%<formula>formulaseeoriginaldocumentpage28</formula>原始材料的電阻大致為101GQ/cm(100。C時)。該玻璃在純形式中還具有一約1.470的折射率。介電常數s為約4.8(25X:，1MHz)，tg5為約45xl(T4(25匸，1MHz)。通過蒸鍍過程和該系統的各成分的不同的揮發性在載體材料與蒸鍍的層之間產生稍有不同的化學計量學。在蒸鍍的層中的偏差列入括號中。圖4示意示出一本發明的數據存儲器30。對此涉及一種基材，其施設有一具有光學特性的多孔的玻璃層。在這里示出的是一板式存儲器，未示出其更詳細地構造。圖5示意示出一本發明的電極40。該電極包括一金屬基材41，該金屬基材在電極板上施設有一多孔的玻璃層。一這樣的電極40可以例如用于一大功率電容器(未示出)。圖6示意示出一本發明的植入物50。植入物在這里是一骨植入物，其施設有一多孔的玻璃層。多孔的玻璃層50提高表面的機械穩定性并同時用作為身體自身的材料的載體基材。一這樣的植入物很好地在身體內生長并且多孔的玻璃層具有高的生物抗力。圖7示意示出一本發明的方法的流程圖60。按照該方法準備一基材(步驟61)。接著準備一材料源(步驟62)。基材氣相蒸鍍一多孔的玻璃層(步驟63)并同時噴灑納米粒子(步驟64)。這樣形成一具有一納米構造的表面的基材，然后借助于一包括液態相的涂層方法，例如旋涂、浸涂方法或一印刷方法例如墨水噴射印刷或絲網印刷浸漬基材(步驟65)。可以借助于一旋涂方法將例如光活性材料加入基材中。用于旋涂的溶液可以包括一聚合物和一溶劑并且由此通過溶劑的蒸發達到一與多孔的玻璃層的牢固連結。圖8和9示意示出多孔的玻璃層借助于相分離的制造。如圖8中所示，準備復合材料l，其包括基材2和雙成分層5。雙成分層5包括由兩不同的材料構成的混合物。如圖9中所示，使復合材料1遭受UV輻射。通過輻射兩材料已部分地分離。在清除一成分以后留下多孔的玻璃層3。借助圖10至12示意示出用于制造多孔的玻璃層的方法的另一實施形式。圖10示出一雙成分層5，其由一玻璃粒狀物和一鹽粒狀物擠壓而成。鹽顆粒構成為黑色的粒子。圖11示出雙成分層5，按此其經受一燒結過程。各個玻璃粒子和鹽粒子在其界面上相互融合。緊接著在水中將鹽分離出來，從而留下一多孔的玻璃層，如圖12中示意示出的。圖13a至13c示出一構造的多孔的玻璃層3的制造。在基材2的待構造的側面上用一對技術人員來說已知的方法涂覆一掩模6，例如為一光刻膠的形式并且光刻地構造。該構造相當于待生產的結構的負象。在基材2的構造的側面上沉積一多孔的玻璃層3。在掩模6的凹槽內玻璃層3直接沉積在基材2上。多孔的玻璃層3可以例如借助于電子束蒸發或等離子束支持的電子束蒸發來涂覆。隨后借助于剝離來消除沉積的玻璃層3的位于掩模6上的區域。為此例如在丙酮中分離光刻膠。沉積的玻璃層3在掩模的凹槽的區域內在基材上形成要求的正結構。當然，本發明并不限于在這里所描述的實例，而各特征的對技術人員來說有意義的任何組合都是本發明的主題。附圖標記清單1復合材料2基材3多孔的玻璃層4密封層5雙成分層6掩模10PVD設備11電子源12轉向磁鐵13極耙14旋轉軸線15電極16箭頭17基材夾具18泵19調節閥20調節閥21固體粒子供給22調節閥23水蒸氣供給30光學的數據存儲器40電極41金屬基材42電極板50植入物60流程圖61準備基材62準備材料源63蒸鍍基材64噴撒納米粒子65旋涂材料權利要求1.用于施設多孔的玻璃層的方法，包括以下步驟準備至少一個基材，準備至少一個材料源，借助于PVD法在基材上沉積至少一個具有超過1％的孔隙度的玻璃層。2.按照權利要求1所述的用于施設多孔的玻璃層的方法，其特征在于，沉積率處在O.lnm/min與10jnm/min之間、優選在0.5nm/min與8nm/min之間并特別優選在lnm/min與4|iim/min之間。3.按照上述權利要求之一項所述的用于施設多孔的玻璃層的方法，其特征在于，所述至少一個多孔的玻璃層的孔隙度處在1%與60%之間、優選在5%與50%之間。4.按照上述權利要求之一項所述的用于施設多孔的玻璃層的方法，其特征在于，基材溫度不超過120'C、優選不超過100'C、特別優選不超過80'C。5.按照上述權利要求之一項所述的用于施設多孔的玻璃層的方法，其特征在于，至少部分地借助于電子束蒸發來沉積多孔的玻璃層。6.按照上述權利要求之一項所述的用于施設多孔的玻璃層的方法，其特征在于，沉積一具有在lnm與lOOOiim之間的厚度的層。7.按照上述權利要求之一項所述的用于施設多孔的玻璃層的方法，其特征在于，準備至少一個材料源，該材料源產生一個包括至少一個二元系統的層。8.按照上述權利要求之一項所述的用于施設多孔的玻璃層的方法，其特征在于，準備一個沉積金屬氧化物的材料源。9.按照上述權利要求之一項所述的用于施設多孔的玻璃層的方法，其特征在于，準備至少兩個不同的材料源。10.按照上述權利要求之一項所述的用于施設多孔的玻璃層的方法，其特征在于，在一個過程步驟中沉積多孔的玻璃層。11.按照上述權利要求之一項所述的用于施設多孔的玻璃層的方法，其特征在于，在超過10-3毫巴、優選超過10-2毫巴的壓力下沉積所述至少一個多孔的玻璃層。12.按照上述權利要求之一項所述的用于施設多孔的玻璃層的方法，其特征在于，給所述至少一個多孔的玻璃層至少部分地摻雜。13.按照上述權利要求之一項所迷的用于施設多孔的玻璃層的方法，其特征在于，沉積具有在lnm與100jLim、優選在100nm與10pm之間的平均的微孔橫截面的多孔的玻璃層。(見正文說明)14.按照上述權利要求之一項所述的用于施設多孔的玻璃層的方法，其特征在于，經由沉積率控制玻璃層的孔隙度。15.按照上述權利要求之一項所述的用于施設多孔的玻璃層的方法，其特征在于，經由基材溫度和/或過程溫度控制所述至少一個玻璃層的孔隙度。16.按照上述權利要求之一項所述的用于施設多孔的玻璃層的方法，其特征在于，經由過程壓力控制所述至少一個玻璃層的孔隙度。17.按照上迷權利要求之一項所述的用于施設多孔的玻璃層的方法，其特征在于，在沉積多孔的玻璃層時添加水蒸氣。18.按照上述權利要求之一項所述的用于施設多孔的玻璃層的方法，其特征在于，沉積時添加至少一種揮發的有機的或無機的材料，特別是曱烷、乙烷和/或乙炔。19.按照上述權利要求之一項所述的用于施設多孔的玻璃層的方法，其特征在于，在所述至少一個多孔的玻璃層的沉積過程中添加、特別是機械地噴撒納米粒子。20.按照上述權利要求之一項所述的用于施設多孔的玻璃層的方法，其特征在于，所述至少一個多孔的玻璃層形成薄膜。21.按照上述權利要求之一項所述的用于施設多孔的玻璃層的方法，其特征在于，該方法包括層從基材上的分離和/或基材的清除、溶解或減薄。22.按照上述權利要求之一項所述的用于施設多孔的玻璃層的方法，其特征在于，準備聚合物、特別是聚氧化乙烯作為基材。23.按照上述權利要求之一項所述的用于施設多孔的玻璃層的方法，其特征在于，準備包括至少一種金屬的基材。24.按照上述權利要求之一項所述的用于施設多孔的玻璃層的方法，其特征在于，作為基材，準備手性的載體材料和/或在多孔的層中加入至少一種手性的材料。25.按照上述權利要求之一項所述的用于施設多孔的玻璃層的方法，其特征在于，同時沉積至少一種起催化作用的材料。26.按照上述權利要求之一項所述的用于施設多孔的玻璃層的方法，沉積結晶的區段。27.按照上述權利要求之一項所述的用于施設多孔的玻璃層的方法，其特征在于，沉積TiCh。28.按照上述權利要求之一項所述的用于施設多孔的玻璃層的方法，其特征在于，用聚合物溶液浸漬多孔的玻璃層。29.按照上述權利要求之一項所述的用于施設多孔的玻璃層的方法，其特征在于，借助于液態相的涂布方法或借助于印刷方法由至少一種材料浸漬多孔的玻璃層。30.按照上述權利要求之一項所述的用于施設多孔的玻璃層的方法，其特征在于，至少部分地用半導的材料充填多孔的玻璃層。31.按照上述權利要求之一項所述的用于施設多孔的玻璃層的方法，其特征在于，至少部分地用導電的材料充填多孔的玻璃層。32.按照上述權利要求之一項所述的用于施設多孔的玻璃層的方法，其特征在于，沉積一具有變化的孔隙度的梯度層。33.按照上述權利要求之一項所述的用于施設多孔的玻璃層的方法，其特征在于，沉積電致發光的材料，特別是有機的電致發光的材料，特別是包括硅、鎵、砷和/或磷的材料。34.按照上述權利要求之一項所述的用于施設多孔的玻璃層的方法，其特征在于，在所述至少一個多孔的玻璃層上施設密封層。35.按照權利要求34所述的用于施設多孔的玻璃層的方法，其特征在于，借助于PVD法施設密封層。36.按照權利要求34或35所述的用于施設多孔的玻璃層的方法，其特征在于，在一個過程步驟中施設玻璃層作為密封層。37.38.按照權利要求34至37之一項所述的用于施設多孔的玻璃層的方法，其特征在于，在離子束壓縮的情況下沉積一密封層。39.按照權利要求34至38之一項所述的用于施設多孔的玻璃層的方法，其特征在于，在等離子作用的情況下和/或等離子支持地沉積密封層。40.按照上述權利要求之一項所述的用于施設多孔的玻璃層的方法，其特征在于，作為材料源，準備玻璃，該玻璃包括至少一種下列材料或具有多種或全部下列材料的以重量百分數計的混合物Si0265-85B20310-30堿金屬氧化物0.1-7A12030.5-541.按照上述權利要求1至39之一項所述的用于施設多孔的玻璃層的方法，其特征在于，作為材料源，準備玻璃，該玻璃包括至少一種下列材料或具有多種或全部下列材料的以重量百分數計的混合物Si0275-85B20310-15Na201-5u2oO.l誦lA12031-542.按照權利要求1至39之一項所述的用于施設多孔的玻璃層的方法，其特征在于，作為材料源準備玻璃，該玻璃包括至少一種下列材料或具有多種或全部下列材料的以重量百分數計的混合物Si0265-75B20320-30Na20O.l國lLi20O.l畫lK200.5-5A12030.5-543.用于施設玻璃層的方法，包括下列各步驟準備至少一個基材，準備至少一個材料源，沉積至少一個多孔的玻璃層。44.按照權利要求43所述的用于施設玻璃層的方法，其特征在于，沉積具有超過1%的孔隙度的多孔的玻璃層。45.按照權利要求43或44所述的用于施設玻璃層的方法，其特征在于，借助于PVD法在基材上沉積多孔的玻璃層。46.按照上述權利要求之一項所述的用于施設玻璃層的方法，其特征在于，借助于蒸發在基材上沉積多孔的玻璃層。47.按照上述權利要求之一項所述的用于施設玻璃層的方法，包括上述權利要求2至42的一個特征或多個特征。48.用于制造多孔的玻璃層的方法，包括下列各步驟準備一種第一材料，準備至少一種第二材料，由所述第一材料和至少一種第二材料制造一復合材料，其中復合材料包括一個玻璃，至少部分地清除第二材料，從而留下多孔的玻璃層。49.用于按照權利要求48所述制造多孔的玻璃層的方法，其特征在于，第一材料是一個玻璃。50.按照上述權利要求之一項所述的用于制造多孔的玻璃層的方法，其特征在于，準備所述第一和至少一種第二材料作為材料混合物，并且在復合材料的制造過程中至少部分地通過相分離而分離各材料。51.按照權利要求48至49之一項所述的用于制造多孔的玻璃層的方法，其特征在于，準備所述第一和至少一種第二材料作為材料混合物，并且在復合材料制造以后至少部分地分離各材料。52.按照權利要求51所述的用于制造多孔的玻璃層的方法，其特征在于，通過電磁輻射的作用、特別通過光的作用和/或通過帶電粒子的作用、特別通過離子的作用和/或通過熱的作用分離各材料。53.按照上述權利要求之一項所述的用于制造多孔的玻璃層的方法，其特征在于，準備至少一種材料作為粒狀物。54.按照權利要求53所述的用于制造多孔的玻璃層的方法，其特征在于，復合材料的制造包括粒狀物的擠壓。55.按照權利要求53或54所述的用于制造多孔的玻璃層的方法，其特征在于，復合材料的制造包括玻璃粒狀物的燒結的步驟。56.按照上述權利要求之一項所述的用于制造多孔的玻璃層的方法，其特征在于，第二材料包括可溶解的材料、特別是鹽，或由可溶解的材料構成。57.按照上述權利要求之一項所述的用于制造多孔的玻璃層的方法，其特征在于，第二材料包括結晶體或分子集合體，特別是鹽結晶體，特別是NaCl結晶體。58.按照權利要求57所述的用于制造多孔的玻璃層的方法，其特征在于，結晶體或分子集合體的大小匹配于要求的微孔大小或要求的微孔大小分布。59.按照上述權利要求之一項所述的用于制造多孔的玻璃層的方法，其特征在于，通過在溶劑中的溶解至少部分地清除第二材料。60.按照上述權利要求之一項所述的用于制造多孔的玻璃層的方法，其特征在于，作為溶劑采用水或有機的溶劑。61.按照上述權利要求之一項所述的用于制造多孔的玻璃層的方法，其特征在于，通過在腐蝕浴中至少部分地腐蝕掉第二材料。62.復合材料，特別是可利用一種按照上述權利要求之一項所述用于施設多孔的玻璃層或玻璃層的方法或一種按照上述權利要求之一項所述用于制造多孔的玻璃層的方法來制造，包括至少一個借助于PVD法沉積的多孔的玻璃層，優選具有超過1%的孔隙度，或至少一個借助于一種按照上述權利要求之一項所述用于制造多孔的玻璃層的方法制成的多孔的玻璃層。63.按照權利要求62所述的方法，其特征在于，復合材料包括基材。64.按照上述權利要求之一項所述的復合材料，其特征在于，多孔的玻璃層構成為功能層。65.按照上述權利要求之一項所述的復合材料，其特征在于，多孔的玻璃層的孔隙度處在1%與60%之間、優選在5%與50%之間。66.按照上述權利要求之一項所述的復合材料，其特征在于，層的孔隙度沿層厚變化小于50%、優選小于30%。67.按照上述權利要求之一項所述的復合材料，其特征在于，多孔的玻璃層基本上是均質的。68.按照權利要求62至67之一項所述的復合材料，其特征在于，多孔的玻璃層的孔隙度逐漸地和/或交替地變化。69.按照上述權利要求之一項所述的復合材料，其特征在于，多孔的玻璃層具有在lnm與1000|im、優選在30nm與lOOpm之間的厚度。70.按照上述權利要求之一項所述的復合材料，其特征在于，多孔的玻璃層包括至少一個二元的系統。71.按照上述權利要求之一項所述的復合材料，其特征在于，多孔的玻璃層包括至少一種金屬氧化物。72.按照上述權利要求之一項所述的復合材料，其特征在于，給多孔的玻璃層至少部分地摻雜。73.按照上述權利要求之一項所述的復合材料，其特征在于，多孔的玻璃層具有在lnm與100|nm之間、優選在100nm與10jam之間的平均的橫截面的微孔。74.按照上迷權利要求之一項所述的復合材料，其特征在于，復合材料包括基材，該基材包括聚合物、特別是聚氧化乙烯。75.按照上迷權利要求之一項所述的復合材料，其特征在于，復合材料包括基材，該基材包括至少一種金屬。76.按照上述權利要求之一項所述的復合材料，其特征在于，復合材料包括基材，該基材包括手性的載體材料。77.按照上迷權利要求之一項所述的復合材料，其特征在于，多孔的玻璃層包括至少一種手性的材料。78.按照上述權利要求之一項所述的復合材料，其特征在于，載體材料包括至少一種起催化作用的材料。79.按照上述權利要求之一項所述的復合材料，其特征在于，多孔的玻璃層具有光學的作用。80.按照上述權利要求之一項所述的復合材料，其特征在于，多孔的玻璃層構成波長選擇性的。81.按照上述權利要求之一項所述的復合材料，其特征在于，多孔的玻璃層包括至少一種光活性的材料、特別是顏料。82.按照上述權利要求之一項所述的復合材料，其特征在于，多孔的玻璃層包括TK)2。83.按照上述權利要求之一項所述的復合材料，其特征在于，多孔的玻璃層包括至少一種納米材料。84.按照上述權利要求之一項所述的復合材料，其特征在于，多孔的玻璃層具有納米構造。85.按照上述權利要求之一項所述的復合材料，其特征在于，復合材料具有密封層、特別是玻璃密封層。86.按照上述權利要求之一項所述的復合材料，其特征在于，密封層具有低于1.0%、優選低于0.5%、特別優選低于0.1%的孔隙度。87.按照權利要求85或66所述的復合材料，其特征在于，密封層包括至少二元的材料系統。88.按照上述權利要求之一項所述的復合材料，其特征在于，密封層包括金屬氧化物。89.復合材料，特別是可利用一種按照上述權利要求之一項所述用于施設多孔的玻璃層或玻璃層的方法或一種按照上述權利要求之一項所述用于制造多孔的玻璃層的方法來制造，包括至少一個沉積的多孔的玻璃層。90.按照權利要求89所述的復合材料，其特征在于，沉積的多孔的玻璃層具有超過1%的孔隙度。91.按照上述權利要求之一項所述的復合材料，其特征在于，借助于PVD法沉積多孔的玻璃層。92.按照上述權利要求之一項所述的復合材料，其特征在于，借助于蒸發來沉積多孔的玻璃層。93.按照上述權利要求之一項所述的復合材料，包括按照權利要求62至88的至少一項所述的一個特征或多個特征。94.離子選擇性的電極，包括按照上述權利要求之一項所述的復合材料。95.蓄電池，包括按照上述權利要求之一項所述的復合材料。96.催化劑材料，包括按照上述權利要求之一項所述的復合材料。97.過濾器，特別是干涉濾光器，包括按照上述權利要求之一項所述的復合材料。98.透鏡、菲涅耳透鏡或衍射光元件，包括按照上述權利要求之一項所述的復合材料。99.用于生物組織的載體材料，包括按照上述權利要求之一項所述的復合材料。100.用于人體或動物體的植入物，包括按照上述權利要求之一項所述的復合材料。101.光學的數據存儲器，包括按照上述權利要求之一項所述的復合材料。102.光電子構件，包括按照上述權利要求之一項所述的復合材料。103.光子結晶體，包括按照上述權利要求之一項所述的復合材料或可利用按照上述權利要求之一項所述的方法來制造。104.光子構件，包括按照上述權利要求之一項所述的復合材料。105.電技術的或電化學的構件，包括按照上述權利要求之一項所述的復合材料。106.電容器，包括按照上述權利要求之一項所述的復合材料。107.隱身涂層，利用按照上述權利要求之一項所述的方法可制造、特別是制造。108.薄膜，利用按照上述權利要求之一項所述的方法可制造、特別是制造。109.抗水汽層和/或抗凍層，利用按照上述權利要求之一項所述的方法可制造、特別是制造。110.按照上述權利要求所述的抗水汽層和/或抗凍層，包括納米粒子、特別是含硅的納米粒子。111.按照權利要求109或110所述的抗水汽層和/或抗凍層，還包括至少一種有機聚合物、特別是聚氨酯和/或聚乙烯醇。全文摘要本發明涉及一種用以施設多孔的玻璃層的方法。本發明建議，借助于PVD法涂覆多孔的玻璃層。可以經由過程參數如壓力和沉積率以及通過有針對性地添加雜質改變孔隙度和平均的微孔大小。文檔編號C03C17/00GK101305111SQ200680041401公開日2008年11月12日申請日期2006年9月14日優先權日2005年9月16日發明者C·奧特曼,J·波梅雷納申請人:肖特股份公司