專利名稱：植草磚的制作方法
技術領域：
實用新型是對申請人在先申請專利200820031595. 7的改進，尤其涉及一種保水、
保肥性好，可以減少養護工作量的植草磚。
背景技術：
申請人:在申請專利200820031595. 7植草磚，將植草磚按厚度方向分成上下二層不同儲土結構，上層為大內凹面(僅留周邊框)儲土腔，下層與通常植草磚相同為相間植草孔，上層用于存放較大量土，下層相間植草孔既形成植草磚強度，又用于植草與地面扎根， 通過增加植草磚泥土存儲量，使植草茂盛，植草根系發達，從而增加了與地面錨固抗拔力。 克服了通常上下同截面或錐形慣通孔結構植草磚的不足，特別用于坡面具有很強的抗拔能力，可以替代現有各種植草磚，是一種結構簡單，適合砼成型，且植草茂盛，既能用于平地， 又能用于坡面的植草磚。然而客觀上由于植草磚厚度有限，磚上層實際存土不厚，又無阻擋存水、肥功能，因而不具有保水、保肥功能，如連續十多天不下雨就需人工澆水，而且即使下雨或澆水后由于無擋水結構也很快就滲光，使得日常澆水養護工作量大，特別用于斜坡面例如護坡、路基斜面，斜鋪上方更不儲水，因而抗干旱能力更差，養護工作量更大。中國專利CN1644837花草隔離墻墻磚，主要由底面4個側面圍成一凹腔，還包括相應連接結構。雖具有存水功能，但其為變形的花盆結構，結構復雜，不能用砼制造，而且不具有鋪地功能。上述不足仍有值得改進的地方。
實用新型內容實用新型目的在于克服上述現有技術的不足，提供一種植草茂盛，植草根系發達， 保水、保肥性好，可以減少養護工作量的植草磚。實用新型目的實現，主要改進是在原有植草磚(CN200820031595. 7)下層各植草孔上周邊增加豎起擋水環埂，防止儲土腔中水份無阻擋直接通過植草孔流失；以及在各排相鄰植草孔間及植草孔與形成大內凹面圍框間增加擋水埂，將大內凹面分隔成若干排存水腔，即使在坡面鋪設也能使各排植草孔都在存水腔，從而克服現有技術的不足，實現實用新型目的。具體說，實用新型植草磚，包括磚厚度方向上層周邊圍框形成的大內凹存土腔，下層相間植草孔組成的植草磚，其特征在于大內凹存土腔中各植草孔周邊有凸出擋水矮埂， 至少各排相鄰植草孔間及植草孔與形成大內凹面圍框間有擋水矮埂，所說擋水矮埂不高于內凹深度。實用新型中。植草磚形不限，例如可以是正方形、長方形、六角形、圓形、多邊形、菱形、花辨形等，周面可以是平接面，也可以是各種帶凹凸拼接組合面，例如類似CN2012M682、 CNM89573拼接面，以提高鋪設后的整體性；植草孔主要是為保留植草磚強度而設置(通過孔間筋形成結構強度)，其孔型不限，例如可以為長條形、圓形、菱形、波紋形等。植草孔，一
3種更好形式是呈上大下小錐形結構，更有利于增強植草后的抗拔能力。對于磚型較大的植草磚，其上層大凹面還可以加設分隔條，分成二或若干大凹面，此外通過分隔以減少泥土流失。植草磚可以用類似砼澆制，也可以用廢塑料壓制。磚厚度及上下層厚度，根據鋪設位置及磚大小確定。植草磚大內凹面中各植草孔周邊擋水矮埂，以及各排相鄰植草孔間及植草孔與形成大內凹面圍框間擋水矮埂，主要作用是起擋水防流失，共同形成類似圍埂擋水起到存水、 肥功能。例如植草孔周邊擋水矮埂，阻止存水從植草孔排入地面，孔間擋水矮埂形成存水圍埂，形成存水腔起到存水作用，特別是用于坡面鋪設，可以使斜鋪植草磚面都有存水，不至于斜鋪設造成順坡上方無存水。擋水矮埂高度不高于上層內凹深度，主要是為充分發揮上層內凹形成大儲土腔作用，否則等高就如同現有技術普通相間孔型植草磚，較好為不大于上層內凹深度的1/2。實用新型植草磚，相對于現有技術，由于在有上下二層不同存土方式植草磚的下層相間植草孔上周邊增加擋水矮埂，以及至少各排相鄰植草孔間及植草孔與形成大內凹面圍框間有擋水矮埂，不僅保留了在先申請專利植草磚的優點，而且而且克服了其缺點，通過凸起矮埂所圍形成存水內凹區，使得植草磚具有一定量的存水功能，通過上層土濕潤的毛細作用，緩慢向下層植草孔補充植物所需水份和肥料，延長了澆水、施肥(特別是澆水間隔時間)，如果用于相對多雨地區鋪設，可以做到基本不用澆水，減少了管理成本，提高了植草成活率。并且存水腔深度不是很深，以及存水在根部上方，所以不會發生積水爛根。特別用于坡面鋪設，例如公、鐵路、破壞山體護坡、提壩、河岸及其它建設工程護坡。植物生長茂盛， 澆水維護工程量少，是一種保水保肥，抗旱性好的植草磚。以下結合若干個示例性實施例，示例性說明及幫助進一步理解實用新型實質，但實施例具體細節僅是為了說明實用新型，并不代表實用新型構思下全部技術方案，因此不應理解為對實用新型總的技術方案限定，一些在技術人員看來，不偏離實用新型構思的非實質性增加和/或改動，例如以具有相同或相似技術效果的技術特征簡單改變或替換，均屬實用新型保護范圍。

圖1為實用新型第一實施例俯視結構示意圖。圖2為圖1剖面結構示意圖。圖3為實用新型第二實施例俯視結構示意圖。圖4為圖3剖面結構示意圖。
具體實施方式
實施例1 參見圖1、2，實用新型植草磚1，由砂石混凝土澆注成厚IOcm的六邊形， 其中厚度方向上層5cm左右為無間隔的大凹面2 (大凹面外周為邊框)，下部5cm厚度有相間慣通結構的長條形植草孔3，形成上下二層結構的植草磚。下層各植草孔上周邊有高2cm 擋水圍埂4，各排相鄰植草孔間及植草孔與形成大內凹面圍框間有高2cm擋水埂5，形成分隔存水腔。實施例2 參見圖3、4，如實施例1，其中植草磚1呈正方形。
4[0018]實施例3 如前述，厚度下部相間植草孔呈上大下小(近大凹面孔截面大)錐形孔結構，更可以提高植草后抗拔能力。實施例4 如前述，對于較大面積植草磚，上部大凹面中還可以加設十字分隔，將大凹面分隔成若干區域。實施例5 如前述，植草磚周面為帶凹凸拼接組合面。對于本領域技術人員來說，在本專利構思及具體實施例啟示下，能夠從本專利公開內容及常識直接導出或聯想到的一些變形，本領域普通技術人員將意識到也可采用其他方法，或現有技術中常用公知技術的替代，以及特征的等效變化或修飾，特征間的相互不同組合，例如植草磚形狀及植草孔形狀的改變，制磚材料的改變，以及如在先申請專利在底部設置下伸凸出腳，增加抗斜坡下滑能力，等等的非實質性改動，同樣可以被應用，都能實現本專利描述功能和效果，不再一一舉例展開細說，均屬于本專利保護范圍。
權利要求1.植草磚，包括磚厚度方向上層周邊圍框形成的大內凹存土腔，下層相間植草孔組成的植草磚，其特征在于大內凹存土腔中各植草孔周邊有凸出擋水矮埂，至少各排相鄰植草孔間及植草孔與形成大內凹面圍框間有擋水矮埂，所說擋水矮埂不高于內凹深度。
2.根據權利要求1所述植草磚，其特征在于擋水矮埂高度不大于上層內凹深度的1/2。
3.根據權利要求1或2所述植草磚，其特征在于植草磚呈六邊形和正方形。
4.根據權利要求1或2所述植草磚，其特征在于磚周側面呈凹凸組合拼接結構。
專利摘要本實用新型涉及一種植草磚，其特征是大內凹存土腔中各植草孔周邊有凸出擋水矮埂，至少各排相鄰植草孔間及植草孔與形成大內凹面圍框間有擋水矮埂，所說擋水矮埂不高于內凹深度。不僅保留了在先申請專利植草磚優點，而且而且克服了其缺點，通過凸起矮埂所圍形成存水內凹區，使得植草磚具有一定量的存水功能，通過上層土濕潤的毛細作用，緩慢向下層植草孔補充植物所需水份和肥料，延長了澆水、施肥，減少了管理成本，提高了植草成活率。存水腔深度不是很深，以及存水在根部上方，所以不會發生積水爛根。特別用于坡面鋪設，例如公、鐵路、破壞山體護坡、堤壩、河岸及其它建設工程護坡。植物生長茂盛，澆水維護工程量少，是一種保水保肥，抗旱性好的植草磚。
文檔編號A01G9/02GK202073103SQ2011201220
公開日2011年12月14日 申請日期2011年4月23日 優先權日2011年4月23日
發明者儲裕龍 申請人:儲裕龍