技術編號：9766862
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。 隨著集成電路工藝的發展，特征尺寸持續按比例縮小，半導體工藝制造的復雜性 也在不斷提高。在這種發展趨勢下，在滿足工藝要求精度的同時，產品工藝過程的耗費也是 重要的營運指標。在半導體制程中，傳統的爐管機臺通常批量較大，一般爐管一次可同時作 業125片產品，具備產能大、制程耗費低等優點，對半導體營運成本的降低尤為重要。 目前，包括爐管在內的許多半導體設備均要求高真空。在高真空環境下，潔凈度 高、水蒸氣很少，具有較高的良率和工藝質量。此外，一些半導體設備要用到有...
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