技術編號：9374335
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。 光刻是一種圖形復印技術，是半導體集成電路制造工藝中一項關鍵的工藝，簡單 來說，它是把成像與刻蝕結合起來的產物。光刻的目的就是在被加工物體的表面上刻出與 掩模版完全一致的圖形來，而曝光在光刻過程中里相當于印相中的感光，是至關重要的一 道工序。目前紫外曝光已能滿足大部分大規模集成電路對分辨率的要求，同時由于紫外曝 光所使用的設備與技術相較簡單，操作方便，效率高，成本低。因此紫外光刻機應用廣泛。 紫外光源反射鏡是曝光系統核心配件之一，它的主要功能是聚焦紫外光、...
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