技術編號：7133497
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發明涉及。更具體地說，本發明涉及抗非正常沉積和局部沉積的無鉛錫合金沉積方法。背景技術 JP61-194196公開了一種使用有機磺酸槽通過電鍍沉積錫鉛合金的方法。從中可得知，通過電解質組合物的電流的間歇中斷或反向會增強沉積物形成晶須的抵抗性。電流密度是2A/dm2。電流通過電解質組合物的周期部分不長于80秒，最好在20秒到50秒之間。其它周期部分不短于3秒，最好在5秒到20秒之間。如上文所述，根據已知的電鍍方法，其它周期不短于3秒。如果在沉積錫鉍合金形式的...
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