技術編號：39427288
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發明申請為申請日年月日，申請號為：.，名稱為“一種高選擇性半導體芯片二氧化硅蝕刻液、制備方法及其應用”的發明專利申請的分案申請。本發明屬于半導體制造工藝領域，尤其涉及一種高選擇性半導體芯片二氧化硅蝕刻液、制備方法及其應用。背景技術、氧化硅，通常被稱為二氧化硅，由于其優異的電絕緣性能、熱穩定性以及耐化學和機械應力，是集成電路(ic)制造中廣泛使用的材料。、蝕刻二氧化硅是集成電路(ic)制造中必不可少的工藝步驟。集成電路中二氧化硅的蝕刻解決方案在全球范...
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