技術編號：39426806
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。【】本發明涉及等離子euv，特別涉及一種穩定輸出euv光源的方法及裝置。背景技術、【背景技術】、極紫外光刻(euvl)是一種使用極紫外(euv)波長的新一代光刻技術，其波長為.nm，用以計劃生產nm及以下尺度的i?c器件。為了實現euvl的要求，需要對激光產生等離子體(lpp)和放電產生等離子體(d?pp)光源進行深入的研究和開發。、現有的形成等離子體的技術，需要先對放電介質進行預脈沖后，再進行主脈沖作用，由此可知預脈沖與主脈沖之間難以實現同步，會有一定的延遲；lpp光源系統中，...
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