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離子束增強弧輝滲鍍涂層裝置及工藝的制作方法技術資料下載

技術編號:3401474

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本發明離子束增強弧輝滲鍍涂層裝置及工藝屬于金屬材料表面改性的范疇。是把多弧離子鍍沉積速度快和離子束注入反沖形成偽擴散層的優點有機的結合起來,實現金屬工件表面快速滲鍍金屬碳、氮化合物硬質涂層的工藝及裝置。注和鍍的工藝相復合,都是在復雜昂貴的注入設備上添加鍍的裝置,通常使用的雙束和三離子束的IBED技術,是把離子束濺射沉積和高能離子注入相結合,雖有沉積溫度低、鍍層致密以及結合強度高等優點,但由于沉積速率低、鍍膜速度慢,一般只能制作<2μm的膜厚,而且X射線防護...
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