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曝光基臺及曝光設備的制造方法技術資料下載

技術編號:10974474

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在顯示基板的制造過程中,通常需要在基板上形成薄膜,然后在薄膜上涂覆光刻膠,并采用曝光設備,通過具有一定圖形的掩膜版對光刻膠進行曝光,之后依次采用顯影、 刻蝕和光刻膠剝離工藝對基板進行處理,得到相應的圖形。曝光設備可以包括曝光基臺,可以將涂覆有光刻膠的基板設置在曝光基臺上對光刻膠進行曝光。相關技術中,曝光基臺包括基臺本體和設置在基臺本體上的真空吸附裝置,該真空吸附裝置可以為真空吸嘴、吸盤等,可以通過真空吸附裝置將涂覆有光刻膠的基板吸附在基臺本體上對光刻膠進行...
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