技術編號：10125230
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。高純三甲基鎵屬于高純金屬有機化合物，是利用金屬有機化學氣相沉積(M0CVD)工藝制備化合物半導體薄膜材料的關鍵支撐原材料，其廣泛運用于LED設備、新一代太陽能電池、相變存儲器、半導體激光器、紅外探測器、超級計算機等領域。三甲基鎵遇空氣燃燒、遇水爆炸，精餾提純過程中需在惰性氣體氣氛下進行，一般是將含有三甲基鎵的尾氣通入裝有液體石蠟的密封容器中，以隔絕空氣并吸收三甲基鎵。然而，由于三甲基鎵蒸汽壓高，沸點較低，容易在精餾提純過程中大量排出，液體石蠟并不能完全吸收...
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