專利名稱：電子裝置殼體及其制作方法
技術領域：
本發明是關于一種電子裝置殼體及其制作方法，尤其是關于一種具有自修復功能的電子裝置殼體及該電子裝置殼體的制作方法。
背景技術：
現有電子產品(如手機、PDA等)的殼體常被鍍覆一金屬層或金屬氧化物層而使產品具有金屬質感，從而吸引消費者眼球。該金屬層通常以不導電電鍍的方式形成，因該金 屬層不導電，從而不會對信號產生干擾。該不導電的金屬層或金屬氧化物層形成于殼體上之后，可使殼體呈現出金屬質感的外觀。然而，上述殼體雖然具有高貴的金屬質感外觀，卻不具備自修復功能，如果意外的劃傷或者蹭傷導致手機表面留下劃痕時，將會影響其外觀效果，即使對其進行修補也會留下痕跡或色差。若能使電子產品的殼體具有自修復功能，使自修復后的電子殼體外觀表面光亮如新，則會大大提高該電子產品的實用性、附加使用價值以及在市場上的競爭力。

發明內容
鑒于此，有必要提供一種能有效解決上述問題的電子裝置殼體。另外，還有必要提供一種上述電子裝置殼體的制作方法。一種電子裝置殼體，其包括基體及形成于基體表面的金屬質感層，所述電子裝置殼體還包括形成于金屬質感層上的自修復層，該自修復層為含有氧化雜環丁烷及多元醇的聚氣酷涂層。—種電子裝置殼體的制作方法，其包括如下步驟提供基體；于該基體的表面形成金屬質感層；于該金屬質感層上形成自修復層，該自修復層為含有氧化雜環丁烷及多元醇的聚氨酯涂層。所述電子裝置殼體呈現出高貴的金屬質感外觀。在波長為315nm-380nm的紫外光照射下，所述自修復層對微劃痕具有自修復功能，在不影響其對無線射頻的傳輸或接收的同時使自修復后的電子裝置殼體外觀表面光亮如新，如此大大提高了該電子裝置的實用性、附加使用價值以及在市場上的競爭力。


圖I為本發明一較佳實施方式電子裝置殼體的剖視示意圖。主要元件符號說明電子裝置殼體 10基體11底漆層13金屬質感層 15
自修復層17如下具體實施方式
將結合上述附圖進一步說明本發明。
具體實施例方式請參閱圖1，本發明一較佳實施方式的電子裝置殼體10包括基體11及依次形成于基體11表面的底漆層13、金屬質感層15及自修復層17。所述的電子裝置殼體10可以是手機、PDA、筆記本電腦、MP3、MP4、GPS導航儀、藍牙耳機及數碼相機等產品的殼體。基體11可為塑料基體，其可以注塑成型的方式制成。注塑該基體11的塑料可選自為聚碳酸酯(PO、聚乙烯(PE)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)及聚碳酸酯與丙烯腈-苯乙烯-丁二烯共聚合物的混和物(PC+ABS)中的任一種。該基體11亦可為玻璃基體或陶瓷基體。底漆層13可由聚氨酯涂料噴涂于基體11的表面而形成。該 底漆層13為無色透明的油漆層，其具有光滑平整的表面，可增強后續涂層與底漆層13的結合力。所述底漆層13的厚度可為5-10 μ m。金屬質感層15可由真空鍍膜的方式形成于底漆層13的表面。所述真空鍍膜可為真空濺鍍、真空蒸鍍等。所述金屬質感層15的厚度可為300-400nm。該金屬質感層15為多層氧化鋯層與多層氧化鋁層交替層疊而形成的復合層，所述的氧化鋯層與氧化鋁層的總層數為5層或7層。其中，與底漆層13及自修復層17直接接觸的均為氧化鋯層。自修復層17為具有自修復性能的聚氨酯涂層，該聚氨酯涂層中含有氧雜環丁烷及多元醇。當自修復層17被劃傷后，氧雜環丁烷的雜環會被破壞，使其化學反應活性部位暴露在外，在紫外線的照射下，所述氧雜環丁烷與多元醇會形成一種擁有彈性網絡鏈的緊密網絡，粘結和閉合劃痕，如此，對自修復層17起到自修復作用。在波長為315nm-380nm的紫外光的照射下，該自修復層17可自修復寬度為1-100 μ m的劃痕，經自修復后的電子裝置殼體10外觀表面光亮如新。所述自修復層17的厚度可為25-30 μ m。一種制作所述電子裝置殼體10的方法，包括如下步驟提供基體11。該基體11可為塑料、玻璃或陶瓷基體。對該基體11進行清潔前處理，比如用含乙醇或異丙醇等有機溶劑的清洗液清洗基體11表面，以去除基體11表面油污。在該基體11的表面噴涂形成底漆層13。用以形成底漆層13的涂料為主要含聚氨酯的液態涂料，該涂料的溶劑為乙酸乙酯。其中，聚氨酯占液態涂料的質量百分比為55-70 %，溶劑乙酸乙酯占液態涂料的質量百分比為20-30 %。在該底漆層13的表面蒸鍍形成金屬質感層15。為了能使該金屬質感層15呈金屬鏡面效果且不導電，以氧化鋁及氧化鋯為蒸發材料，以氧氣為補充氣體用以補充鍍膜過程中氧化鋁或氧化鋯損失的氧元素。為了使該金屬質感層15對無線射頻的傳輸或接收不產生干擾(即具有良好的電磁波穿透性能)，還需要控制該金屬質感層15的厚度。為了達到上述效果，該金屬質感層15的厚度范圍約為300nm-400nm。形成所述金屬質感層15的具體操作及工藝參數如下采用一光學鍍膜機(圖未示)，將氧化鋯蒸發材料及氧化鋁蒸發材料分別放置在該光學鍍膜機兩個蒸發源中，將基體11放置于光學鍍膜機的腔體頂部，設置本底真空度為9. OX 10_5-3. OX 10_3Pa，設置基體11的轉速為15rpm(轉/分鐘)，設置鍍膜溫度為50_80°C，在底漆層13上依次交替沉積氧化鋯層及氧化鋁層；在沉積氧化鋯層時，設置氧化鋯的蒸發速率為I. 5-2. 5埃/秒，氧氣分壓為8. OX 10_3-1. 5 X IO-2Pa ;在沉積氧化鋁層時，設置氧化鋁的蒸發速率為2-3埃/秒，氧氣分壓為 9. 5 X 10文3· O X l(T2Pa。
于該金屬質感層15表面噴涂透明的自修復層17。用以形成自修復層17的涂料為主要含聚氨酯的液態涂料，該液態涂料中含有聚氨酯、氧雜環丁烷及多元醇。其中，聚氨酯、雜環丁烷及多元醇共計占液態涂料的質量百分比為70-80%，溶劑乙酸乙酯占液態涂料的質量百分比為5-20%。噴涂后，對自修復層17在溫度約為80-130°C下熱固化90-150min。經熱固化處理后，所述自修復層17中仍含有部分未揮發的多元醇。所述電子裝置殼體10呈現出高貴的金屬質感外觀。在紫外光下，所述自修復層17對微劃痕具有自修復功能，在不影響其對無線射頻的傳輸或接收的同時使自修復后的電子裝置殼體外觀表面光亮如新，如此大大提高了該電子裝置的實用性、附加使用價值以及在市場上的競爭力。下面通過實施例來對本發明進行具體說明。實施例(I).噴涂底漆層13采用直徑為O. 8mm的噴槍，設置噴涂氣壓為O. 35Pa，將主要成分為聚氨酯漆的液態涂料噴涂于基體11上形成底漆層13。本實施例中，液態涂料為聚氨酯涂料，液態涂料的溶劑為乙酸乙酯。其中，聚氨酯占液態涂料的質量百分比約為65%，乙酸乙酯占液態涂料的質量百分比約為25%。噴涂后，將底漆層13在80°C的溫度下熱固化15min。(2).鍍覆金屬質感層15設置本底真空度為3. OX 10_3Pa、基體11的轉速為15rpm(轉/分鐘)、鍍膜溫度為70°C，在底漆層13上依次交叉層疊沉積氧化鋯層及氧化鋁層，并使氧化鋯層為最外層。本實施例中氧化鋯層及氧化鋁層的總層數為7層；在沉積氧化鋯層時，設置氧化鋯的蒸發速率I. 6埃/秒，氧氣分壓為I. 5 X KT2Pa ;在沉積氧化鋁層時，設置氧化鋁的蒸發速率2埃/秒，氧氣分壓為9. 5 X IO^3Pa0(3).噴涂自修復層17采用直徑為O. 8mm的噴槍，設置噴涂氣壓為O. 35Pa，將主要成分為聚氨酯涂料的液態涂料噴涂于金屬質感層15上形成自修復層17。本實施例中，液態涂料為聚氨酯涂料，該聚氨酯涂料含有氧雜環丁烷及多元醇，液態涂料的溶劑為乙酸乙酯。其中，聚氨酯、雜環丁烷及多元醇共計占液態涂料的質量百分比約為75%，乙酸乙酯占液態涂料的質量百分比為 15%。噴涂后，將自修復層17在80°C的溫度下熱固化120min。(4).自修復性能測試對實施例制得的電子裝置殼體10在自修復層17上形成寬度分別為2-3 μ m、6-7 μ m、20_30 μ m、60_65 μ m、80_85 μ m及 95-100 μ m 的劃痕，然后在波長為 315nm_380nm 的紫外光照射下對上述劃痕進行自修復測試，并記錄各種寬度劃痕的自修復所需的時間。測試結果請參見表一。表一
權利要求
1.一種電子裝置殼體,其包括基體及形成于基體表面的金屬質感層,其特征在于所述電子裝置殼體還包括形成于金屬質感層上的自修復層，該自修復層為含有氧化雜環丁烷及多元醇的聚氨酯涂層。
2.如權利要求I所述的電子裝置殼體，其特征在于所述自修復層的厚度為25-30μπι。
3.如權利要求I所述的電子裝置殼體，其特征在于所述自修復層于波長為315nm-380nm的紫外光照射下能自修復劃痕的寬度為1-100 μ m。
4.如權利要求I所述的電子裝置殼體，其特征在于所述金屬質感層為以真空鍍膜的方式形成的不導電層，所述金屬質感層為多層氧化鋯層與多層氧化鋁交替層疊的復合層，所述氧化鋯層與氧化鋁層的總層數為5層或7層。
5.如權利要求4所述的電子裝置殼體，其特征在于所述金屬質感層的厚度為300_400nm。
6.如權利要求I所述的電子裝置殼體，其特征在于所述電子裝置殼體還包括形成于該金屬質感層與基體之間的底漆層。
7.一種電子裝置殼體的制作方法，其包括如下步驟 提供基體； 于該基體的表面形成金屬質感層； 于該金屬質感層上形成自修復層，該自修復層為含有氧化雜環丁烷及多元醇的聚氨酯涂層。
8.如權利要求7所述的電子裝置殼體的制作方法，其特征在于形成所述自修復層的涂料為含有氧雜環丁烷及多元醇的聚氨酯液態涂料；其中，聚氨酯、氧雜環丁烷及多元醇占液態涂料的質量百分比為70-80%，溶劑乙酸乙酯占液態涂料的質量百分比為5-20%。
9.如權利要求7所述的電子裝置殼體的制作方法，其特征在于所述金屬質感層為多層氧化鋯層與多層氧化鋁層交替層疊的復合層，形成該金屬質感層的工藝參參數為設置本底真空度為9.0X10_5-3.0X10_3Pa、基體的轉速為15rpm及鍍膜溫度為50-80°C，在沉積氧化鋯層時，設置氧化鋯的蒸發速率為I. 5-2. 5埃/秒，氧氣分壓為8.OX 10_3-1. 5 X IO-2Pa ;在沉積氧化鋁層時，設置氧化鋁的蒸發速率為2_3埃/秒，氧氣分壓為 9. 5 X 10文3· O X l(T2Pa。
10.如權利要求7所述的電子裝置殼體的制作方法，其特征在于所述電子裝置殼體的制作方法還包括形成該金屬質感層之前于該基體上噴涂底漆層的步驟。
11.如權利要求10所述的電子裝置殼體的制作方法，其特征在于形成所述底漆層的涂料為主要成分為聚氨酯的液態涂料；其中，聚氨酯占液態涂料的質量百分比為55-70%，溶劑乙酸乙酯占液態涂料的質量百分比為20-30 %。
全文摘要
本發明提供一種電子裝置殼體，其包括基體及形成于基體表面的金屬質感層，所述電子裝置殼體還包括形成于金屬質感層上的自修復層，該自修復層為含有氧化雜環丁烷及多元醇的聚氨酯涂層。本發明還要提供一種上述電子裝置殼體的制作方法。
文檔編號H05K5/00GK102655717SQ201110048399
公開日2012年9月5日 申請日期2011年3月1日 優先權日2011年3月1日
發明者姜傳華, 杜琪健 申請人:深圳富泰宏精密工業有限公司