專利名稱：一種在硅片上制作真空微腔的預鍵合裝置的制作方法
技術領域：
本實用新型涉及一種予鍵合裝置，尤其是涉及一種在硅片上制作真空微腔的予鍵合裝置。
背景技術：
某些真空微機械傳感器采用半導體器件的制作技術進行加工時，需要兩個硅圓片鍵合在一起，其中一個硅片上制作一定深度和寬度的微腔，并要求制作好的微腔達到一定的真空度。現有硅片鍵合的方法是將硅片貼好后進行抽真空處理，因而不能保證微腔內的真空度。

發明內容
本實用新型的目的是提供一種結構簡單、能夠保證真空微腔內的真空度滿足設計要求的制作真空微腔的予鍵合裝置。
本實用新型是這樣實現的一種在硅片上制作真空微腔的予鍵合裝置，它包括有真空室主體、真空室上蓋、真空閥、氮氣閥、承片架、活動桿和硅片對位臺；其中，承片架和硅片對位臺固定在真空室主體內部底座上，在真空室主體的側壁上設置有活動桿，在活動桿與真空室主體的連接處粘接有密封圈；在真空閥上設置有真空計。
在真空室主體的蓋合處或/和真空室上蓋的蓋合處粘接有密封墊圈；在真空室上蓋上設置有透明觀察窗口。
本實用新型的優點是在硅片上制作出來的微腔內的真空度能滿足設計要求，操作簡便。


圖1是本實用新型的內部結構俯視圖；圖2是本實用新型的剖面圖；
圖3是制作真空微腔的示意圖。
具體實施方式
以下結合附圖對本實用新型作進一步的詳細說明。
參見圖1—圖2，一種在硅片上制作真空微腔的予鍵合裝置，它包括有真空室主體1、真空室上蓋2、真空閥3、氮氣閥4、承片架5、活動桿6和硅片對位臺8；其中，承片架5和硅片對位臺8固定在真空室主體1內部底座上，在真空室主體1的側壁上設置有活動桿6，在活動桿6與真空室主體1的連接處粘接有密封圈7；在真空閥3上設置有真空計9。
在真空室主體1的蓋合處或/和真空室上蓋2的蓋合處粘接有密封墊圈10；在真空室上蓋2上設置有透明觀察窗口11。
參見圖3，在制作真空微腔時，將一片有微腔的硅片放在承片架5和對位臺8上，將活動桿6伸入硅片上方2mm左右，再將第二個硅片輕輕放下，該硅片一部分邊緣與第一個硅片接觸，一部分邊緣搭在活動桿上，靠活動桿支撐，兩個硅片之間形成一定空隙；再通過真空閥3抽真空到需要的真空度后，向外拉動活動桿6，使第二個硅片能靠自身重力自然下落與第一個硅片貼合，這樣真空予鍵合完成；最后，通過氮氣閥4向真空室內充氮氣，將硅片取出。
權利要求1.一種在硅片上制作真空微腔的予鍵合裝置，其特征在于它包括有真空室主體(1)、真空室上蓋(2)、真空閥(3)、氮氣閥(4)、承片架(5)、活動桿(6)和硅片對位臺(8)；其中，承片架(5)和硅片對位臺(8)固定在真空室主體(1)內部底座上，在真空室主體(1)的側壁上設置有活動桿(6)，在活動桿(6)與真空室主體(1)的連接處粘接有密封圈(7)；在真空閥(3)上設置有真空計(9)。
2.根據權利要求1所述的在硅片上制作直空微腔的予鍵合裝置，其特征在于在真空室主體(1)的蓋合處或/和真空室上蓋(2)的蓋合處粘接有密封墊圈(10)。
3.根據權利要求1所述的在硅片上制作直空微腔的予鍵合裝置，其特征在于在真空室上蓋(2)上設置有透明觀察窗口(11)。
專利摘要本實用新型涉及一種在硅片上制作真空微腔的預鍵合裝置。本實用新型是這樣實現的一種在硅片上制作真空微腔的預鍵合裝置，它包括有真空室主體、真空室上蓋、真空閥、氮氣閥、承片架、活動桿和硅片對位臺；其中，承片架和硅片對位臺固定在真空室主體內部底座上，在真空室主體的側壁上設置有活動桿，在活動桿與真空室主體的連接處粘接有密封圈，在真空閥上設置有真空計。本實用新型的優點是在硅片上制作出來的微腔內的真空度能滿足設計要求，操作簡便。
文檔編號H01L21/00GK2619363SQ03234160
公開日2004年6月2日 申請日期2003年4月25日 優先權日2003年4月25日
發明者張正元, 劉興鳳, 楊國渝, 溫志渝 申請人:中國電子科技集團公司第二十四研究所