專利名稱：用于清潔磁性軟盤的模制起落機構(l ifter)的制作方法
技術領域：
本發明通常涉及一種磁記錄軟盤盒，更具體地說，本發明涉及一種在該軟盤盒中托起纖維襯里使它與軟盤接觸，由此清潔盒中軟盤的起落機構。
背景技術：
磁記錄軟盤是一種盤的兩面有磁性材料層，用磁頭將信息記錄其上的聚酯樹脂或類似材料的軟盤。眾所周知，直徑為89mm或更小的軟盤是微型軟盤。通常，微型軟盤被裝在硬殼中以構成軟盤盒。微型軟盤包括一個很薄的中心有軸轂的圓形磁性記錄介質。
盤盒通常包括設置在外殼兩內表面上的纖維襯里。襯里與盤的記錄表面相接觸，當盤轉動時，能除去記錄表面上的碎屑。襯里的寬度至少等于盤記錄區域的寬度，并通過一個固定在外殼內表面上的起落機構，把襯里壓在盤記錄區域的整個寬度上。
已有技術的微型磁記錄軟盤盒10如

圖1所示，盒10由兩個封裝磁記錄軟盤的外殼12A和20A組成。每一個外殼的內表面分別有一層纖維襯里14和18，其形狀與盤16的形狀相似。已有技術的起落機構22是一獨立的固定在外殼20A內表面上并傾斜一定角度的材料薄片，將壓力施加在纖維襯里18上。該壓力使纖維與盤16相摩擦，由此當軟盤在盒10中轉動時，清潔軟盤。在生產過程中，通過調節該起落機構與外殼20A的傾斜角度，可以調節起落機構22和纖維襯里14及18施加的阻止軟盤16轉動的阻力大小。
發明概述已有技術的起落機構，如起落機構22至少存在兩個缺點。首先，這種起落機構是與盒外殼分置的薄片，因此需要分開成形并正確定位在外殼的內表面上，通過例如粘結或超聲波焊接固定在外殼上。第二，由于該起落機構相對外殼向上彎曲成一定的角度，一段時間之后起落機構會疲勞，傾斜角度會逐漸減少，由此導致對磁性軟盤的清潔能力下降，并使施加在磁盤上的轉矩減少。
針對已有技術的起落機構的缺點，本發明的起落機構包括一個在物理和化學性質上與盒外殼成一整體的凸棱。這樣，不用分別成形、定位或固定在盒外殼上。在軟盤壽命期間，不會出現起落機構的疲勞，由此始終保持清潔能力，并使盤在轉動過程中轉矩更均勻。
一方面，本發明包括一種支撐磁記錄軟盤纖維襯里用的起落機構，以便通過相對纖維襯里轉動軟盤而清潔軟盤，其中軟盤被裝在具有第一和第二外殼的軟盤盒中，每一外殼都有內表面和外表面，該起落機構包括一個細長的成形在第一外殼內表面上的凸棱，該凸棱在物理和化學性質上與第一外殼內表面成一整體，其中凸棱在第一外殼內表面之上的高度能被控制。
另一方面，本發明提供一種支撐磁記錄軟盤纖維襯里用的起落機構，以便通過相對纖維襯里轉動軟盤而清潔軟盤，其中軟盤被裝在具有第一和第二外殼的軟盤盒中，每一外殼都有內表面和外表面，該起落機構包括一個成形在第一外殼內表面上的通常為徑向伸長的凸棱，該凸棱在物理和化學性質上與第一外殼內表面成一整體；還包括一個成形在第二外殼上的凹槽區域，其中當將第一和第二外殼裝配在一起時，該凹槽區域與第一外殼上的凸棱相對。
再一方面，本發明提供一種模制的用于支撐磁記錄軟盤纖維襯里用的起落機構，以便通過相對纖維襯里轉動軟盤而清潔軟盤，其中軟盤被裝在具有第一和第二外殼的軟盤盒中，每一外殼都有內表面和外表面，本發明包括一個細長的成形在第一外殼內表面上的凸棱，該凸棱在物理和化學性質上與第一外殼內表面成一整體，其中該凸棱在第一外殼內表面之上的高度大約為0.4-0.9mm；還包括一個成形在第二外殼內表面上的凸起構件，該凸起構件在物理和化學性質上與第一外殼內表面成一整體，其中當將第一和第二外殼裝配在一起時，該凸起構件切向偏離第一外殼上的凸棱。
本發明還提供一種帶有第一和第二外殼以及將纖維襯里和磁記錄軟盤支撐在第一和第二外殼之間的起落機構的磁記錄軟盤盒，以便通過相對纖維襯里轉動軟盤而清潔軟盤，該起落機構包括一個成形在第一外殼內表面上的通常為徑向伸長的凸棱，該凸棱在物理和化學性質上與第一外殼內表面成一整體；還包括一個成形在第二外殼上的凹槽區域，其中當將第一和第二外殼裝配在一起時，該凹槽區域與第一外殼上的凸棱相對。
本發明還提供一種成形支撐磁記錄軟盤纖維襯里用的起落機構的方法，以便在軟盤相對纖維襯里轉動的過程中清潔軟盤，其中軟盤被裝在具有第一和第二外殼的軟盤盒中，每一外殼都有內表面和外表面，該方法包括的步驟是提供第一外殼，在其內表面上設置凸棱，該凸棱具有成形高度；以及通過使凸棱變形，將凸棱的高度調節到控制高度。優選地是，通過冷成形調節凸棱的高度。該方法還包括在第二外殼上在與第一外殼上凸棱相對的位置上設置凹槽區域。
下面參照附圖描述本發明的這些特征和優點，以及其它特征和優點。
附圖簡述參照下列附圖能更好地理解本發明。
圖1是已有技術的磁記錄微型軟盤盒的等距分解示意圖。
圖2和3分別是本發明一個磁記錄軟盤盒的上底外殼內表面的平面圖。
圖4是表示本發明一個模制起落機構沿圖2中4-4線的剖面圖。
圖5和6分別是本發明一個磁記錄軟盤盒的上底外殼內表面的平面圖。
圖7是表示本發明一個模制起落機構沿圖5中7-7線的剖面圖。
圖8是表示本發明一個模制的起落機構的剖面圖。
圖9和10分別是本發明一個磁記錄軟盤盒的上底外殼內表面的平面圖。
圖11是表示本發明的一個模制起落機構沿圖9中11-11線的剖面圖。
圖12是描述本發明調節模制起落機構高度一種方法的示意圖。
圖13是用本發明的方法，調節模制起落機構控制高度的剖面示意圖。
圖14是本發明一個磁記錄軟盤盒的底外殼內表面的平面圖。
圖15是沿圖14中15-15線所取局部放大剖面圖。
圖16是沿圖14中16-16線所取局部放大剖面圖。
圖17是本發明一個磁記錄軟盤盒的底外殼內表面的平面圖。
圖18是沿圖17中18-18線所取局部放大剖面圖。
圖19是沿圖17中19-19線所取局部放大剖面圖。
發明詳述本發明提供一種帶有起落機構的磁記錄軟盤盒，該起落機構的形式是一模制的具有控制高度的凸棱，以便有效地清潔盒內的記錄介質，本發明還提供一種生產該軟盤盒的方法。在本發明的上下文中，術語“控制高度”指的是在變形后模制凸棱的高度，以調節凸棱在外殼內表面之上的高度。換句話說，首先將凸棱模制成接近所希望的完成高度，然后在模制后使其變形成控制高度。在模制過程之后，通過使凸棱變形，可精確地增加凸棱的高度，由此較好地控制軟盤在盒中轉動所需的轉矩。
圖2和3表示的是帶有起落機構的本發明一個盒外殼實施例的內表面。圖2表示的是底外殼20的內表面，圖3表示的是蓋外殼12的內表面。底外殼20包括一個限定盒介質艙內圓周邊的凸緣24，和一個限定介質艙外圓周邊的凸緣26。磁性記錄介質16有最里面的數據儲存磁道28和最外面的數據存儲磁道32。
優選本發明的凸棱30從最里邊的數據儲存磁道28到最外邊的數據儲存磁道32，跨過介質16可記錄部分的寬度。凸棱30設置在盒外殼20的內表面上，以致于當兩個外殼裝配在一起時，凸棱30不會處在外殼12內表面上的凸起構件40的正上方(見圖3)。圖2表示了凸棱30與凸起構件40之間的關系，其中凸起構件40如虛線所示。圖4表示通過凸棱30和凸起構件40一部分的橫截面。
優選外殼12上的凸起構件40包括一排在外殼12內表面上方延伸的切向隆起物。然而應當理解，該凸起構件40還可以另外由環形或同心圓形隆起物或者通常為平表面的實心高臺等等組成。對凸起構件40的基本要求，是在介質16轉動過程中與凸棱30一起使介質16傾斜，無需過大的轉矩就可以有效地清潔介質16。
優選凸棱30在外殼20的內表面上有大約0.5mm-1.0mm范圍內的控制高度，更優選地是大約0.6-0.9mm的控制高度，最優選地是大約0.81mm的控制高度。如果需要，該控制高度是調節后的凸緣高度，這一點下文將更詳細地描述。在內表面21上凸棱30基底的寬度是大約0.4-0.5mm。隨同外殼20開始形成，優選使凸棱30的兩個側面傾斜，以便在凸棱30上形成一個尖峰。優選使兩個側面從外殼20的內表面21上大約0.38mm處相向傾斜，兩側面在希望的高度上相交成α角，在圖4中該角大約為60度。
如圖4所示，優選使凸起構件40與凸棱30相距大約3.8mm。優選地將凸起構件40設置成一排大約10個隆起物，每一個隆起物高出外殼12內表面13的高度大約是0.38-0.48mm，更優選地是大約0.41-0.46mm，最優選地是大約0.43mm高。
在裝配之后，控制高度凸棱30的頂部與凸起構件40的頂部之間的高度差x大約在0.1-0.2mm范圍內，更優選大約為0.18mm。如圖4所示，當一部分介質移動到(在轉動過程中)凸棱30之上和凸起構件40之下時，控制高度的凸棱30與凸起構件40之間的高度差迫使介質16彎曲成S形。當一部分介質16移動到凸棱30之上時，面向凸棱30一側的介質將被纖維襯里18清潔。當同一部分介質16移動到凸起構件40之下時，面向凸起構件40一側的介質將被纖維襯里14清潔。這種設計的優點是可對介質16進行清潔，同時在成形凸棱30和凸起構件40時，允許有較寬的制造公差。
圖5-7表示的是本發明另一實施例。圖5表示的是底外殼120的內表面，圖6表示的是蓋外殼112的內表面。底外殼120包括一個限定盒介質艙內圓周邊的凸緣124，和一個限定介質艙外圓周邊的凸緣126。磁性記錄介質116有最里面的數據儲存磁道128和最外面的數據儲存磁道132。
優選本發明的控制高度的凸棱130從最里邊的數據儲存磁道128到最外邊的數據儲存磁道132，跨過介質116可記錄部分的寬度。凸棱130設置在盒底外殼120的內表面上，使得當兩個外殼裝配在一起時，凸棱130處在外殼112內表面上構成的凸起構件140上的凹槽區域142的正上方(見圖7)。圖5表示的是控制高度的凸棱130與凸起構件140中凹槽區域142之間的關系，其中凹槽區域142和凸起構件140如虛線所示。圖7是通過控制高度的凸棱130和凸起構件140的一部分所取剖面圖。
如果在磁盤的使用或手持過程中蓋底外殼112,120被壓在一起，則通過將凸棱130定位在對準凹槽區域142的位置上，可防止由于凸棱130引起的介質116的永久變形，即凹痕。
優選使外殼112中的凸起構件140包括一位于外殼112內表面113之上的通常為平的隆起平臺。在隆起平臺上有容納控制高度凸棱130的凹槽區域142，且優選使凹槽區域有足夠的深度容納凸棱130，而不會擠壓記錄介質116(和纖維襯里114和118)，也不會使介質產生永久變形，即凹痕。當將外殼112和120壓在一起時，優選使控制高度的凸棱130和凹槽區域142之間的間隙大于或等于大約0.20mm，更優選地大約為0.25mm。然而，可根據介質和/或纖維襯里的厚度改變該間隙的大小。
盡管如圖所示凸起構件140通常為一平的隆起平臺，但是應當理解，凸起構件140還可以包括一排隆起物，或其它帶有容納凸棱130的凹陷區域的不連續構件。如果要設置一排隆起物，則優選地應減小在凸棱130區域內的每一個隆起物的高度，以防止擠壓位于凸棱130和形成部分凸起構件140的隆起物之間的記錄介質116。
如圖5和7所示，優選地在通常高起的隆起平臺131上成形凸棱130，該隆起平臺本身位于外殼120的內表面121的剩余部分上。優選地隆起平臺131位于凸棱130的兩側(沿切向)，更優選地通常與外殼112上的凸起構件140共同延伸。
通過設置通常為平的凸起構件140、凹槽區域142、凸棱130和圍繞凸棱130通常為平的隆起平臺，所述結構可以避免在手持過程中出現任何可導致記錄介質116變形的介質116與外殼112和120之間的集中接觸點。
圖8是圖5-7所示結構的另一種變形，其中凹槽區域242成形在外殼212的內表面213上，控制高度的凸棱230直接從外殼220的內表面221伸出。此外，如所希望的那樣，凹槽區域或凸棱都可以設置在位于各個外殼內表面上的隆起平臺上或隆起平臺中。
在本實施例中，在兩個相對的外殼中設置有控制高度的凸棱130/230和相應的凹槽區域142/242，優選地凸棱130/230在外殼的內表面之上具有控制高度，且該高度在大約0.4-0.9mm范圍內，更優選地在大約0.5-0.8mm之間，最優選地大約為0.6mm高。如果凸棱130位于隆起平臺之上，則該高度指的是包括隆起平臺(如131)高度在內的高度。此外，該高度是凸棱調節后的控制高度，如果需要，可在制造過程中調節，這一點將在下文詳細說明。
優選地凸棱130/230的基底寬度大約是0.4-0.5mm，優選地在調節前用斜面(taper)在凸棱上形成尖端，如圖7和8所示。優選使兩個斜面相向傾斜并相交成大約為60度的夾角β，如圖7所示。
參見圖7和8，當介質移動(在轉動過程中)到凸棱上方時，這種結構的凸棱130/230和凹槽區域142/242會迫使介質116/216彎曲。當一部分介質116/216移動到凸棱130/230上方時，纖維襯里118/218將會清潔面向凸棱130/230一側的介質。當相同部分的介質116/216移過凹槽區域142/242的后沿143/243時，纖維襯里114/214將會清潔面向凹槽區域142/242一側的介質。這種結構的優點是可對介質116/216進行清潔，同時在形成凸棱130/230和凹槽區域142/242時允許有較寬的制造公差。
優選使控制高度的凸棱130與凹槽區域142之間相距距離y，且該距離大于或等于大約0.5mm，更優選大約在0.4-0.6mm之間，最優選大約為0.5mm。
圖9-11表示本發明的另一實施例，該實施例帶有用于清潔介質的模制起落機構。圖9表示的是底外殼320的內表面，圖10表示的是蓋外殼312的內表面。底外殼320包括一個限定盒介質艙內圓周邊的凸緣324，和一個限定盒介質艙外圓周邊的凸緣326。磁性記錄介質316有最里面的數據儲存磁道328和最外面的數據存儲磁道332。
在外殼320的內表面321上至少有兩個凸棱330a和330c，且優選地，這些凸棱從最里邊的數據儲存磁道328到最外邊的數據儲存磁道332，跨過介質316可記錄部分的寬度。在對應外殼312的內表面313上設置有一個相對的凸棱330b，且優選地該凸棱330b從最里邊的數據儲存磁道328到最外邊的數據儲存磁道332，跨過介質316可記錄部分的寬度。當兩個外殼312和320被裝配在一起時，凸棱330b最好處在凸棱330a和330c之間(如圖11所示)。圖9表示外殼320中的凸棱330a和330c與外殼312中的凸棱330b之間的關系，其中凸棱330b如虛線所示。優選地凸棱330a、330b和330c通常沿介質316的徑向定位，當裝配磁盤盒時，使每一個凸棱與相鄰的凸棱相距大約12度。盡管優選地沿徑向定位凸棱330a、330b和330c，但應當理解，只要通過介質在凸棱上的傾斜可以在整個記錄區域寬度上清潔介質316，這些凸棱可以以任何取向定位。
圖11表示通過這些凸棱所取的剖面圖。在該圖中，優選地介質從右側轉動到左側，也就是說介質316上的給定點首先通過凸棱330a，然后通過凸棱330b，最后通過凸棱330c。優選地，至少凸棱330a、330b和330c中的一個凸棱在相應的內表面之上有控制高度，以便當介質316的轉動力矩被控制在所需范圍內時，對介質316進行所希望的清潔。
給凸棱330a提供一個在外殼320內表面321之上的控制高度。優選地凸棱330a在外殼320內表面321上的高度在大約0.5-1.0mm范圍內，更優選地在大約0.6-0.9mm范圍內，最優選地大約為0.81mm高。如果需要，該高度可以是調節后的凸棱高度，下文將要更詳細地描述。凸棱330a在內表面321上的基底寬度大約在0.4-0.5mm范圍內。當與外殼320一起被初始成形時，優選使凸棱330a的兩側面傾斜，以在凸棱330a上形成一個尖峰。優選地，如圖11所示，凸棱的兩側面從外殼320內表面321之上大約0.38mm處相向傾斜，并在希望的高度處相交成大約60度夾角α。
優選地通過使凸棱330a的尖峰變形來調節凸棱330a的高度，以使調整后的凸棱有希望的高度。下文將詳細描述使凸棱330a變形的各種方法。但是，作為結果，凸棱330a的尖峰和任何其它本發明控制高度的凸棱都可變形。
對于其它凸棱，如凸棱330b和330c，它們的高度不用像凸棱330a那樣在制造后需要控制，它們中的每一凸棱在各自內表面313或321之上的高度都在大約0.13-0.37mm范圍內，更優選在大約0.18-0.32mm范圍內，最優選大約為0.25mm。
由于介質316的變形，所以介質316可在控制高度的凸棱330a之上和凸棱330b之下移動，由此進行清潔，并控制轉動介質316所需的轉矩。優選使凸棱330a的尖峰和凸棱330b的尖峰之間的垂直間距z(見圖11)大約為0.13-0.37mm，更優選大約為0.25mm。
在上述所有實施例中，磁盤盒至少包括一種具有控制高度的凸棱。該凸棱起到了適當清潔磁性記錄介質所需的托起作用，同時，當記錄介質轉動時，提供可控制的轉矩。下面結合圖12描述得到凸棱控制高度的方法。
在典型的磁盤盒制造過程中，需要定期對從裝配線上取下的成品磁盤盒進行試驗，以便測試轉動記錄介質所需的轉矩是否在控制的公差范圍內，具體說，是否通常在15-21克·厘米之間。如果轉矩太小(或者變小)，可增加裝配線上至今仍未加工好的磁盤盒上的傳統起落機構22的傾斜角度(見圖1)，由此通過起落機構和纖維襯里增加施加在轉動介質上的阻力。相反，如果轉矩太大(或者變大)，可減小裝配線上至今仍未加工好的磁盤盒上的傳統起落機構22的傾斜角度，由此減小阻力。
用模制在外殼中的凸棱代替傳統起落機構22的一個潛在缺點是，由于模制部件公差的限制，可以預料，將會失去在制造過程中對轉矩的控制能力。然而，本發明人通過設置凸棱起落機構解決了該問題，并提出了一種制造該凸棱的方法，該方法在凸棱成形后，能夠精確地控制凸棱的高度。
下面參照圖12，圖12表示一種控制外殼420內表面421上的凸棱430高度的方法。凸棱430與盒外殼同時模制而成，其高度稍稍不同于預期的理想平均高度。優選地，模制而成的凸棱430的高度稍大于所預期的理想高度。如圖4、7和11所示，優選地與外殼420模制而成的凸棱430的頂部從尖峰處以大約60度角傾斜，預計60度角是最大可接受高度。
在裝配過程中，通過沿凸棱430的長度方向移動滑動的點接觸傾斜表面工具450，可使凸棱430的頂部變形，由此將它相對于外殼420內表面421的高度減小到預期的理想平均高度。這里將凸棱430稱作“冷成形”凸棱。優選使工具面452相對于凸棱430的夾角γ大約為10°，在變形過程中，工具的速度大約是100mm/s。盡管優選的材料是硬工具鋼，但是工具450可由任何合適材料制成。優選地在該過程中，將外殼420和工具450保持在室溫下，也就是大約20℃的溫度下。
凸棱430的變形結果如圖13所示，該圖表示變形后凸棱430的斷面，并表示凸棱材料的移動情況和初始模制在凸棱430上的尖峰的變平情況。如圖13所示，凸棱430的高度比其初始高度(如虛線所示)的減小量為d。優選該距離d大于或等于大約0.05mm，更優選大約在0.05-0.1mm之間。
該方法的各種變化包括用一平頭工具敲擊一下整個凸棱，盡管這樣可能會在外殼的外表面上產生一個印痕。此外，可以對凸棱430和/或工具450進行熱處理，以便控制凸棱的高度。再者，還可以使用化學試劑調節凸棱的高度。
定期對來自裝配線的成品磁盤盒進行試驗，以便測試轉動介質所需的轉矩是太大還是太小。如果轉矩太小(或者變小)，可通過相對內表面421抬高工具450，增加裝配線上至今仍未加工好的磁盤盒上的凸棱高度，由此增加在介質轉過凸棱430時施加在介質上的阻力和轉矩。相反，如果轉矩太大(或者變大)，可通過相對內表面421降低工具450，降低裝配線上至今仍未加工好的磁盤盒上的凸棱高度，由此降低在記錄介質轉過凸棱430時施加在介質上的阻力和轉矩。
一些適用于冷成形以控制凸棱高度的制造外殼和凸棱的材料，是用于制造磁盤盒的工程樹脂。合適的樹脂包括苯乙烯類(包括丙烯腈丁苯)、聚丙烯和復合樹脂，但不限于此。根據本發明還可以用其它材料制造外殼和模制凸棱。
根據材料的物理特性，材料的選擇會影響用于控制高度的方法。優選地所用的材料和方法應引起沒有斷裂的塑性變形，以便得到光滑而有控制高度的凸棱。
圖14-16表示本發明另一種模制起落機構結構的變形。圖14表示的是底外殼520的內表面，應當理解，該底外殼520可以與任何合適的蓋外殼配合以形成磁盤盒。與該底外殼520相配的蓋外殼的一個例子是上述圖6所示的蓋外殼112。
在底外殼520中，根據本發明，具有控制高度的凸棱530應跨過介質可記錄部分的寬度。優選使凸棱530的兩端534如圖15所示地傾斜，如上所述，這樣便于冷成形。在斷面輪廓上凸棱530有些不同，它沒有形成如上所述(見圖7)的尖峰。相反，凸棱530通常有一個模制而成的被并平或被削平的頂部532，但是該凸棱仍然能變形，以提供如上所述的控制高度的凸棱。
與上述凸棱一樣，優選地將凸棱530設置在外殼520的內表面521上，當上下兩外殼裝配在一起時，凸棱530能夠位于相應凹槽區域的正上方，上述凹槽區域成形在與之相配合的外殼上，就像凸起構件140中的凹槽區域142成形在外殼112的內表面上一樣。通過使凸棱530對準蓋外殼中的凹槽區域定位，使凹槽區域有足夠的深度容納凸棱530，而不會使凸棱530擠壓記錄介質，如果在使用或手持過程中外殼被擠壓到一起，則上述凸棱530能夠防止介質的永久變形，即凹痕。
優選地，凸棱530從底外殼520的內表面521直接延伸，并且優選地在它的兩側有一對突臺531a和531b(通常稱作“凸臺531”)。優選地凸臺531位于凸棱530的兩側(切向)，且像凸棱530那樣沿徑向延伸。與上述圖5和7所示連接凸棱130的凸臺131不同，如圖14和16所示，凸臺531與凸棱530是隔開或分開的。凸臺531具有與外殼120中設置的單一凸臺131相同的功能，即如果盒外殼受到擠壓，它們可以防止凸棱變形或者在記錄介質上壓出印痕。此外，優選地凸臺531有光滑的上表面，以避免本身有集中接觸點而使介質變形。進一步優選地是，凸臺531通常與相配合的蓋外殼上的任何凸臺，即外殼112上的凸臺140共同延伸。
由于凸臺531與凸棱530(從底外殼520的內表面521處直接延伸)是隔開或分開的，因此，通常在制造過程中如上所述凸棱530可以有較大程度的變形，由此改進適應性并控制由襯里施加在介質上的阻力。由于凸棱不位于凸臺上，所以凸棱530可以有較大程度的變形，這正好使它沿底外殼520的內表面521延伸。結果，用本文所述的方法可減少凸棱的所有或幾乎所有高度(在一個優選實施例中是0.86mm)，由此得到希望的控制高度，而圖5和7中的凸棱130變形量要受到凸臺131高度的限制。
底外殼620的另一實施例如圖17-19所示。與上述凸棱530一樣，優選地底外殼620中的凸棱630從外殼620的內表面621直接延伸。
然而，底外殼520和620之間的一個區別是底外殼520上的每一個凸臺531a和531b都可以用底外殼620上的多個凸臺631代替，在許多方面，凸臺631與用在上述底外殼520上的凸臺531具有相同的功能。換句話說，多個小凸臺631通常也可防止凸棱630引起的介質變形。此外，優選地多個小凸臺631有多個平的上表面，如果盒外殼被擠壓在一起，它們可以避免接觸點集中在介質與外殼之間由凸臺631本身引起的介質變形。
盡管優選地小凸臺631沿介質的徑向寬度延伸，但每一個小凸臺631的分布有很大的選擇余地，通常它們要對應于在與之相配合的蓋外殼上形成的對應凸臺(如果有任何凸臺的話)。在一個優選實施方案中，通常小凸臺631的形狀是正方形，基底處每邊的長度大約是0.89mm，通常相隔大約0.25mm。優選地凸臺側面與垂直方向的夾角φ(見圖19)大約為10°，以便于脫模。
設置多個小凸臺631代替一個大凸臺即凸臺131(如上所述設置于底外殼120上)或凸臺531(如上所述設置于底外殼520上)的優點是，可減少冷卻后的變形。盡管本發明人不希望受到下述推測的局限，但可以推測出，需要較大實心凸臺或多個凸臺的較大質量物質會在已完成部分產生能使外殼變形的剩余應力(由于冷卻速率不同)。通過減小執行希望功能需要材料的數量，也就是說防止凸棱630擠壓記錄介質，通過在模制過程中較好地控制外殼的冷卻，可以減小剩余應力。
盡管在圖16和19所示的多個凸臺中每一個凸臺都是正方形的，且都按規則模式(即重復的)設置，但應當理解，只要具有用凸棱防止記錄介質被擠壓的功能，同時還可以避免接觸點集中在凸臺本身和記錄介質之間，多個凸起構件的任何設置模式(重復的或不重復的)都符合本發明。替代所述方形凸臺模式的其它凸臺結構的實例，包括規則間距或不規則間距的圓形凸臺；規則或不規則模式的帶有平頂表面的隆起物；等等，但也不限于此。
在不背離本發明范圍的前提下，本專業普通技術人員清楚本發明的各種改進和變形，應當知道，本發明不限于這里所闡述的實施方式和方法。
權利要求
1．一種支撐磁記錄軟盤(16)的纖維襯里(14,18)用的起落機構，以便通過相對纖維襯里轉動軟盤而清潔軟盤，其中軟盤被裝在具有第一和第二外殼(20,12)的軟盤盒中，每一外殼都有內表面和外表面，該起落機構包括一個細長的成形在第一外殼內表面上的凸棱(30)，該凸棱在物理和化學性質上與第一外殼內表面成一整體，其中該凸棱在第一外殼內表面之上的高度能被控制。
2．一種帶有第一和第二外殼(120,112)以及將纖維襯里(14,18)和磁記錄軟盤(16)支撐在第一和第二外殼之間的起落機構的磁記錄軟盤盒，以便通過相對纖維襯里轉動軟盤而清潔軟盤，該起落機構包括a)一個成形在第一外殼內表面上的通常為徑向伸長的凸棱(130)，該凸棱在物理和化學性質上與第一外殼內表面成一整體；以及b)一個成形在第二外殼上的凹槽區域(142)，其中當將第一和第二外殼裝配在一起時，該凹槽區域與第一外殼上的凸棱相對，進一步當第一和第二外殼被擠壓在一起時，該凸棱不會接觸凹槽區域。
3．如權利要求1所述的起落機構，其中該凸棱通常沿軟盤的徑向設置。
4．如權利要求1和3中任一權利要求所述的起落機構，進一步還包括一個在第二外殼中的凹槽區域(142)，其中當將第一和第二外殼裝配在一起時，該凹槽區域與第一外殼上的凸棱相對。
5．如權利要求4所述的起落機構，其中當第一和第二外殼被擠壓在一起時，該凸棱不會接觸凹槽區域。
6．如權利要求2、4和5中任一權利要求所述的制品，進一步還包括一個在第二外殼內表面上的凸起構件(140)，其中上述凹槽區域位于該凸起構件中。
7．如權利要求1-6中任一權利要求所述的制品，其中該凸棱成形在第一外殼內表面上的隆起平臺(131)上。
8．如權利要求1-7中任一權利要求所述的制品，進一步還包括多個位于凸棱每一側的多個凸臺(631)，其中每一個凸臺都位于第一外殼的內表面上，且與凸棱分開。
9．如權利要求8所述的制品，其中多個凸臺中的每一個凸臺都包括一個光滑的上表面。
10．如權利要求8所述的制品，其中多個凸臺中的每一個凸臺在物理和化學性質上都與第一外殼的內表面成一整體。
11．如權利要求1-10中任一權利要求所述的制品，其中凸棱的高度大約為0.4-0.9mm。
12．如權利要求1-5中任一權利要求所述的制品，進一步還包括一個成形在第二外殼內表面上的凸起構件(40)，當將第一和第二外殼裝配在一起時，該凸起構件切向偏離第一外殼上的凸棱。
13．一種成形支撐磁記錄軟盤(16)的纖維襯里(14,18)用的起落機構的方法，以便通過相對纖維襯里轉動軟盤而清潔軟盤，其中軟盤被裝在具有第一和第二外殼的軟盤盒中，每一外殼都有內表面和外表面，該方法包括以下步驟a)提供第一外殼(420)，在其內表面(421)上設置凸棱(430)，該凸棱具有成形高度；以及b)通過使凸棱變形，將凸棱的高度調節到控制高度。
14．如權利要求13所述的方法，其中調節凸棱高度的步驟包括冷成形(450)凸棱。
15．如權利要求13和14任一權利要求所述的方法，其中調節凸棱高度的步驟包括將凸棱的高度從成形高度降低到控制高度。
16．如權利要求15所述的方法，其中降低凸棱高度的步驟包括將凸棱的高度降低大約0.05mm或更多。
17．如權利要求16所述的方法，進一步還包括在第二外殼(112)上設置凹槽區域(142)，當將第一和第二外殼裝配在一起時，該凹槽區域與凸棱相對。
18．如權利要求17所述的方法，其中當第一和第二外殼被擠壓在一起時，該凸棱不會接觸凹槽區域。
全文摘要
本發明提供一種支撐磁記錄軟盤(16)的纖維襯里(14,18)用的模制起落機構,以便當軟盤被裝在軟盤盒中時,通過相對纖維襯里轉動軟盤而清潔軟盤。該起落機構是一個凸棱(30),一般是通過使模制凸棱變形,將該凸棱的控制高度調節到所希望的高度。軟盤盒還包括一個位于該外殼上與凸棱相對以接納該凸棱的凹槽區域(142),如果軟盤盒被擠壓,可防止或減少記錄介質被擠壓。
文檔編號G11B23/50GK1225740SQ97195786
公開日1999年8月11日 申請日期1997年7月7日 優先權日1996年7月17日
發明者約瑟夫·D·伯施爾德, 蘭迪·L·卡爾森, 杰夫里·T·吉布斯, 李·M·朗塞斯, 克里斯蒂·L·林克, 羅那爾德·M·特金 申請人:伊美申公司