專利名稱：浮動磁頭的制作方法
技術領域：
本發明涉及一種用于在磁盤驅動裝置或同類裝置的旋轉磁盤介質上，在浮動狀態錄制或再現信息的浮動磁頭。
圖4、5和6顯示了一種習用的浮動磁頭11，在一個磁盤驅動裝置中(未顯示)，在驅動停止期間，浮動磁頭11被停止在該狀態，此時浮動軌跡面15、16和中央軌跡面14-它們共同構成浮動磁頭11的對著磁盤的表面120-與磁盤介質20相接觸，如圖6所示。
如圖5所示，當磁盤介質20沿A向旋轉，空氣自空氣流入端100沿B向流入，并且浮動磁頭11與磁盤介質20分離呈一浮動狀態。
上面所描述的磁盤介質20停止時浮動磁頭11與磁盤介質20相接觸，當磁盤介質20轉動時二者分離的系統，被稱作“恒定起止”(“costant stort stop)(以下稱為css)系統。
圖4是習用浮動磁頭11的透視圖，浮動磁頭11被稱為一體化型的，用錳-鋅鐵氧體或類似材料制成，它包含對著磁盤的表面120，該表面120通常具有三個軌跡面，包括浮動軌跡面15、16和中心軌跡面14。一C形磁芯12通過玻璃或類似材料與中心軌跡面連接于浮動磁頭11的空氣流出端。
在中心軌跡面14和C形磁芯12靠磁盤介質20一側的連接處提供了一磁隙13，以供磁記錄或再現信號。
三個軌跡面14、15和16各自具有設在空氣流入端100一側的傾斜面17、18和19。該三個軌跡面14、15、16均被成形在一半徑為R的圓弧面，其軸平行于磁盤介質20的磁記錄面且垂直于磁盤介質20的旋轉方向A。
浮動磁頭11有一支承裝置連接面130，此面與面對磁盤的面120相背對，以組合一浮動磁頭的支承裝置。
對于如上所述成形的浮動磁頭11，由于近來發展的趨勢要求提高磁盤裝置的密度而導致了磁跡寬度和浮動高度的銳減，已要求中心軌跡面14的寬度根據磁跡寬度的減小，由一般的10μm以上減小至10μm以下，同時要求浮動高度降至0.2μm乃至更小。
如果浮動磁頭的中心軌跡面的寬度隨著目前磁盤裝置密度的提高而降至10μm乃至更窄，如前面關于已有技術的描述，中心軌跡面14須加工得非常精密，一個渣屑或裂痕或類似的缺陷很容易出現在中心軌跡面上。另外，由于浮動高度降低，浮動軌跡面和中心軌跡面-它們共同構成浮動磁頭與磁盤相對的面-必須以高精密度加工以保持穩定的浮動狀態。于是就需要兩個浮動軌跡面與中心軌跡面形成同一圓弧面。然而，該三個面很難被加工形成在同一半徑為R的圓弧面，而在圓弧面產生不規則度。尤其是當中心軌跡面伸出時，如果浮動高度降低，則磁盤介質會由于中心軌跡面的伸出而劃傷或在磁盤介質旋轉過程中因為與中心軌跡面接觸而被碰壞，有時甚至導致磁盤驅動裝置的損壞。
本發明的一個目的就是要提供一種新型浮動磁頭，它能防止中心軌跡面損壞磁盤驅動裝置，同時使中心軌跡面的軌道寬度及浮動高度根據磁盤裝置的密度的增加而減小。
為了實現這一目的，本發明的一體化浮動磁頭有兩個浮動軌跡和一個中心軌跡面，其中中心軌跡面被設計成靠近空氣流入端一側的部分離開磁盤介質的距離較浮動跡面為遠，靠近磁隙的部分除外。
在本發明的另一較佳形式中，一個一體化浮動磁頭有一個被做成弧形的與磁盤相對的面，此圓弧面的軸平行于磁盤介質的磁記錄面且垂直于磁盤介質旋轉方向A，其中，一個位于該對著磁盤面的中央的中心軌跡面有一圓弧面部分，該部分靠近一由一C形磁芯與該中心軌跡面在空氣流出端連接而形成的磁隙，中心軌跡面的另一部分在空氣流入端一側，它與磁盤介質離開的距離較圓弧面部分為遠。
這種浮動磁頭避免了中心軌跡面在css期間與磁盤介質接觸，從而可在于css期間不造成磁盤介質的損傷以及由于碰撞對中心軌跡面的損傷的情況下降低軌道寬度和浮動高度。
附圖簡要說明

圖1是本發明一實施例的浮動磁頭的透視圖;
圖2是本發明的浮動磁頭在浮動狀態下的剖面圖;
圖3是本發明的浮動磁頭在與磁盤介質相接觸時的剖面圖;
圖4是習用的浮動磁頭的透視圖;
圖5是習用浮動磁頭在浮動狀態下的剖面圖;
圖6是習用浮動磁頭在與磁盤相接觸時的剖面圖。
以下結合附圖進一步說明本發明。圖1是關于本發明一實施例的透視圖。浮動磁頭1被稱作一體型的，它由Mn-Zn鐵氧體或類似材料制成。浮動磁頭1包含三個軌跡面，即浮動軌跡面5、6和中心軌跡面4，它們共同構成與磁盤相對的面120。一C形磁芯2在空氣流出端110一側通過玻璃或類似物質與中心軌跡面4相接，在二者連接處靠磁盤介質20的一側設有一用于磁記錄或再現信號的磁隙。
浮動磁頭1上的浮動軌跡面5和6在空氣流入端100一側分別具有斜面8和9。浮動軌跡面5、6和中心軌跡面4形成一半徑為R且其軸平行于磁盤介質20的磁記錄面而垂直于磁盤介質20運動方向A的圓弧面。
浮動磁頭1有一支承裝置連接面130，該面設置在與對著磁盤介質20的面120相背的一面，以結合一個浮動磁頭的支承裝置(圖中未顯示)。
在一個磁盤驅動裝置中(未顯示)，在驅動停止時，浮動磁頭1是停在浮動軌跡面5和6與磁盤介質20相接觸的狀態，如圖3中所示。
當磁盤介質20沿A向旋轉時，如圖2所示，空氣自浮動磁頭的空氣流入端100沿B向流入，于是浮動磁頭1與磁盤介質20分離形成浮動狀態。
浮動磁頭1與以往習用磁頭的不同在于中心軌跡面4的結構。中心軌跡面4具有一形成一半徑為R的圓弧面的部分，其與習用磁頭相同，及另一部分7，其通過對自距離磁隙3大約10μm～1mm處至空氣流入端100處的一段進行切割而形成，以使這一部分較具有圓弧面的部分離磁盤介質更遠些。在中心軌跡面4的空氣流入端100一側的部分7的切割位置要與磁隙3保持10μm距離的原因在于，如果此距離小于10μm，則磁記錄或再現信息過程中的磁效率將降低，因為磁隙3位于圓弧面。切割位置與磁隙3距離要小于等于1mm的原因在于，如果距離超過1mm則在css期間中心軌跡面4的圓弧面部分與磁盤介質20有接觸的危險。
中心軌跡面4的部分7可以切成任意需要的形狀。例如，從加工質量的角度出發已經證明了將此部分從切割位置開始沿1度至10度的楔形角切割比較好。中心軌跡面4切割方式的另一個例子就是自切割處以10度～80度的一個楔形角切割3～100μm，再以0度楔形角切割。該方法從加工質量的角度看也被證明是較好的。
盡管上述有關浮動磁頭1的實施例具有對著磁盤的圓圓弧面上120，但本發明的內容還可應用于在浮動磁頭1的對著磁盤的面120不是圓圓弧面上的情況下，而產生同樣效果。
如上所述，本發明的浮動磁頭具有一個在css期間不與磁盤介質接觸的中心軌跡面，從面避免了中心軌跡面在css期間損傷磁盤介質，同時也避免了中心軌跡面本身在css期間由于碰撞而損壞。這種浮動磁頭因此而可以降低中心軌跡面軌道寬度及浮動高度，從而成為一種能與磁盤密度的提高相適應的浮動磁頭。
權利要求
1.一種一體化浮動磁頭，具有兩個浮動軌跡面和一個中心軌跡面，其中，所述中心軌跡面成形為除靠近一磁隙的部分外，其靠近所述磁頭的空氣流入端的部分比所述浮動軌跡面離開磁盤介質的距離要遠。
2.一種一體化浮動磁頭，具有成形為圓弧面的對著磁盤的面，該圓弧面的軸平行于一磁盤介質的磁記錄面且垂直于磁盤介質的運動方向，其中，一中心軌跡面設置在所述對著磁盤的面的中央，其具有一呈圓弧面且成形在一磁隙附近的部分，該磁隙由一C形磁芯在所述磁頭的空氣流出端一側與所述中心軌跡面相連接而形成，該中心軌跡面還具有一在從靠近所述磁隙處到所述磁頭的空氣流入端范圍內的部分，其比圓弧面離開所述磁盤介質更遠些。
全文摘要
一種能夠適應磁盤驅動裝置密度的提高的浮動磁頭，這種一體化浮動磁頭具有三個軌跡面，包括一個中心軌跡面。此中心軌跡面除去靠近磁頭縫隙的部分，在浮動磁頭空氣流入端附近的部分離開磁盤介質的距離較浮動軌跡面離開的距離要遠。
文檔編號G11B5/127GK1066141SQ92102798
公開日1992年11月11日 申請日期1992年4月25日 優先權日1991年4月25日
發明者羽賀富美昭 申請人:阿魯普斯電氣株式會社