專利名稱：具有用于光纖卡盤的清潔器的陣列測試裝置的制作方法
技術領域：
下面的描述涉及用于顯示裝置的測試裝置，具體而言涉及測試形成在顯示器基板 上的電極的電氣缺陷的陣列測試裝置。
背景技術：
近來，顯示器面板用于平板顯示器中，平板顯示器如液晶顯示器(IXD)、等離子體 顯示面板(PDP)、以及有機發光二極管(OLED)。通常，薄膜晶體管(TFT) IXD包括TFT基板， 具有彩色濾光片和公共電極并且面對TFT基板的彩色濾光片基板，液晶和背光單元。在這種情況下，利用陣列測試裝置測試形成在TFT基板上的TFT電極的缺陷。具體而言，在將預定電壓施加到安裝在陣列測試裝置中的調制器和TFT電極上的 情形中，如果調制器靠近TFT基板，在調制器和TFT基板之間產生電場。如果在TFT基板上 存在有缺陷的TFT電極，那么電場的強度將小于預期的強度。這樣，根據電場的強度來檢測 有缺陷的TFT電極。常規的陣列測試器包括光源，調制器和攝像機。光源用于發射出光，從光源發射出 的光用于測試TFT電極中的缺陷。相對于TFT基板，調制器設置在與光源的相同側或者相對 側。通過調制器的光量隨著將電壓施加到調制器和TFT基板上而產生的電場的強度的變化 而改變。攝像機基于通過調制器的發射表面的光量來檢測有缺陷電極的存在性和位置。此外，常規陣列測試裝置還可設置有光纖卡盤(optic chuck)。待測試的基板安裝 在光纖卡盤上，在光纖卡盤中形成多個空氣孔以吸附或者釋放基板。然而，在陣列測試裝置中，異物可附著到光纖卡盤上。如果異物附著到光纖卡盤 上，在測試期間從光源發射出的光發生散射或者折射，因而發生測試錯誤。

發明內容
因此，本發明的一個方面，提供了一種陣列測試裝置，其能夠有效地去除附著到光 纖卡盤上的異物。本發明的一個大的方面，提供了一種具有光纖卡盤清潔器的陣列測試裝置。該陣 列測試裝置包括光纖卡盤，其上安裝有待測試的基板；調制器，設置在所述光纖卡盤的一 側；光源，設置在所述光纖卡盤的另一側，向所述調制器發出光；和清潔器，將異物從所述 光纖卡盤去除。所述光源在與所述調制器移動的相同方向上移動，所述清潔器在所述光源移動時 進行操作。所述陣列測試裝置包括感測單元，檢測異物；控制單元，計算從所述感測單元檢測出的異物到所述清潔器的距離。所述清潔器移動到存在所檢測的異物的位置處，并且進行操作。所述清潔器包括將異物從所述光纖卡盤分離開的分離單元。所述清潔器包括用于吸收附著到所述光纖卡盤的表面的或者存在于周圍空氣中的異物的吸引單元。所述清潔器包括產生超聲波的超聲頭部。所述清潔器還包括在所述超聲頭部的外圍設置的蓋，以在所述蓋和所述超聲頭部 之間形成間隙使得空氣通過該間隙。由于在陣列測試處理期間清潔器去除附著到光纖卡盤上的異物，這就防止從光源 照射出的光發生折射或者散射。因此減少測試錯誤，提高測試可靠性。此外，從光纖卡盤的表面分離出來的異物完全從陣列測試裝置中去除，而不會殘 留在周圍空氣中。本領域技術人員從以下結合附圖公開了本發明示例性實施方案的詳細描述將明 了其他特征。


圖1是示例的陣列測試裝置的透視圖。圖2是沿圖1的A-A線截取的截面圖。圖3是示出由于附著到光纖卡盤上的異物導致錯誤發生的視圖。圖4是示出另一個示例陣列測試裝置的透視圖。圖5是示出示例陣列測試裝置的光源移動的情形的視圖。圖6是用于示例陣列測試裝置的清潔器的分離單元的截面圖。圖7是示出用于示例陣列測試裝置的清潔器的吸引單元的截面圖。圖8是示出圖7的清潔器的一個修改實例的截面圖。圖9是示出圖7的清潔器的另一個修改實例的截面圖。圖10是示出圖7的清潔器的另一個修改實例的截面圖。圖11是示出設置有引腳的清潔器的截面圖。圖12是示出設置有超聲頭部的清潔器的截面圖。圖13是示出設置有蓋的清潔器的截面圖。圖14是示出圖12的清潔器的修改實例的截面圖。圖15是示出圖13的清潔器的修改實例的截面圖。在附圖和詳細說明中，使用相同的附圖標記代表部件、特征和結構，為了清楚以及 方便起見，對一些部件的大小和比例進行放大。
具體實施例方式下面的詳細描述用于幫助讀者獲得對在此介紹的方法、裝置和/或系統的全面理 解。對于在此介紹的系統、裝置和/或方法的各種變化、修改和等價替換對于本領域普通 技術人員而言是顯而易見的。為了簡潔，略去對公知的功能和結構的描述。下文中，將參考附圖詳細介紹具有用于光纖卡盤的清潔器的示例陣列測試裝置。
圖1是示例的陣列測試裝置的透視圖。圖2是沿圖1的A-A線截取的截面圖。如圖1所示，陣列測試裝置100包括光纖卡盤50，調制器20，光源30和清潔器200。光纖卡盤50設置在待測試的基板90的下面。基板90安裝在光纖卡盤50上面。 光纖卡盤由諸如玻璃的傳光材料形成。此外，為光纖卡盤50設置多個空氣孔以使基板90 通過吸附能夠浮動或者保持。同時，陣列測試裝置100還包括加載單元70和卸載單元80。加載單元允許基板 90送入陣列測試裝置100中。經加載單元70送入的基板90被傳送到光纖卡盤50的上部。 加載單元70設置有加載板72和多個空氣孔71。通過從空氣孔71將高壓空氣噴射到基板 90的下表面從而傳送基板90，使得當基板90在加載板72上方浮動時利用高壓空氣由夾緊 單元95傳送基板。卸載單元80允許將已經完全完成測試的基板90從光纖卡盤50傳送到陣列測試 裝置外部。卸載單元80設置有卸載板82和多個空氣孔81。卸載單元80的傳送操作與加 載單元70的一樣。也就是，高壓空氣從空氣孔81噴射到基板90的下表面上，當基板90在 卸載板上方浮動時，利用高壓空氣由夾緊單元傳送基板90。調制器20設置在待測試的基板90的上面。調制器20靠近待測試基板90設置。 調制器20設置有電極層和光電層。調制器20的電極層和基板90的電極層91形成電場。 調制器20的電極層由氧化銦錫(ITO)或者納米碳管(CNT)組成。此外，光電層用于根據電 場強度改變穿過其中的光量，并且可以由液晶(LC)、無機電致發光(EL)和聚合物分散液晶 (PDLC)組成。例如，如果電壓施加到基板90的電極層91和調制器20的電極層上，調制器20 的預定屬性根據基板中缺陷而改變。即，如果形成在待測試的基板90上的電極層沒有缺 陷，在陣列測試裝置100中形成電場，電場在預定方向上改變液晶分子的排列，從而使光通 過調制器20。相反，如果形成基板90上的電極層91有缺陷時，在陣列測試裝置100中不形 成電場，因此液晶分子的排列不改變，光也就不通過調制器20。同時，陣列測試裝置100設置有檢測單元60如攝像機。檢測單元60可設置在調 制器20上面。檢測單元60測量調制器的改變的材料屬性，從而檢測電極層91的缺陷。例 如，檢測單元60測量根據形成在基板90上的電極層91的常態而變化的傳送的光量，之后 信號處理單元99基于傳送的光量處理數據，從而檢測基板90上的有缺陷電極的存在性和 位置。光源30相對于光纖卡盤50設置在調制器20的對側。光源30向調制器20發射 光。從光源30發射出的光在順序通過光纖卡盤50、基板90和調制器20之后到達檢測單元 60。光源可以是氙氣光源、鈉光源、水晶鹵素燈和/或激光。清潔器200去除附著到光纖卡盤50上的異物。陣列測試裝置100可以包括一個 或多個清潔器。優選地，清潔器200設在光纖卡盤50之下，S卩，位于光源30的一側以去除 附著到光纖卡盤50的下表面上的異物。然而，另一個示例清潔器可以安裝在附加的可移動 部件上以去除附著到光纖卡盤50的上表面上的異物。此外，可以能夠去除微米級的顆粒的 各種形式實現清潔器200。 幾微米的微米級顆粒可以存在于用于陣列測試處理的干凈室內。此類異物可附著 到陣列測試裝置100和基板90上。因此，在陣列測試處理期間或者在陣列測試處理之前/之后，需要執行清潔處理以精確地測試基板90。為了進行精確測試，除了基板90，需要在光 纖卡盤50上執行清潔處理。為此，在陣列測試裝置100中設置的清潔器200去除光纖卡盤 50的異物，從而減少陣列測試處理中的錯誤，并且提高了陣列測試的可靠性。優選地，清潔器200聯接 到光源30。具體而言，清潔器200設置在光纖卡盤50下 面，去除附著到光纖卡盤50的下表面的異物。光纖卡盤50由基座支撐接地。因此，在光纖 卡盤50的下表面和基座之間存在預定的空間。光源30設置在該空間內，清潔器200聯接 到該空間內的光源30。在這種情況下，清潔器可拆卸地聯接到光源30上，使得容易地去除 附著到光纖卡盤50的下表面上的異物。由于聯接到光源30的同時，清潔器200從光纖卡盤50的下表面去除異物，當從光 纖卡盤50去除異物時不需要將光纖卡盤50與基座分離開。總之，光纖卡盤50尺寸大并且 重。因此，如果省去分離大而重的光纖卡盤50的處理，可以獲得陣列測試處理的效率方面 的優點。圖3是示出由于附著到光纖卡盤上的異物導致錯誤發生的視圖。如圖3所示，基 板90安裝在光纖卡盤50上，在基板90的上表面上形成多個電極92，93和94。例如，一個 電極90有缺陷，而其余電極93和94沒有缺陷。多個液晶分子1，2和3分散在調制器20 中，在調制器20的一個表面上形成透明電極21。如果電壓施加到調制器20的透明電極21和基板90的電極92，93和94上，在調 制器20和無缺陷的電極92和94之間形成電場8。電場8內的液晶分子1和3的排列發生 改變，而電場8外的液晶分子2的排列不發生改變。從光源30發出的光分量5，6和7通過 排列發生改變的液晶分子1和3，但是通不過排列不發生改變的液晶分子2。因此，通過測 量傳送的光量，能夠檢測基板90上的有缺陷電極。即，從光源30發出的一些光分量5和7 直接穿過液晶分子1和3。另一個光分量6無法穿過液晶分子2。這樣，檢測出電極93存 在缺陷。如果異物9附著到光纖卡盤50上，光分量7沒有直行，可能被異物9折射或者散 射。因此，可能發生將正常電極94a確定為有缺陷電極的錯誤。然而，示例清潔器200去除附著到光纖卡盤50的任何異物9，因而減少測試錯誤，
并且提高測試可靠性。圖4是示出另一個示例陣列測試裝置的透視圖。圖5是示出示例陣列測試裝置的 光源移動的情形的視圖。如圖4和5所示，光源30在與調制器20移動的相同方向上移動。清潔器20在光 源30移動時進行操作。也就是，調制器20和光源30 —一對應設置，并且在X軸上移動。X軸代表與基板 90傳送通過加載單元70，光纖卡盤50和卸載單元80的方向垂直的方向。在這種情況下， 光源30具有與調制器20相同或者稍微大一點的尺寸。小尺寸的光源30顯著地降低光源30的亮度偏差。也就是，光源30均勻地向基板 90發出光，光均勻地供給調制器20，使得光量根據基板電極的缺陷而改變。結果，檢測單元 60精確地測量通過調制器20的光量。陣列測試裝置100設置有調制器傳送組件45和光源傳送組件40。調制器傳送組 件45在X軸方向上移動調制器20預定的間隔。此外，光源傳送組件40允許光源30隨調制器20 —起移動。由于在陣列測試之前進行光源30的傳送，在陣列測試的每一個周期中保持光纖 卡盤50的表面清潔。同時，清潔器200可周期地操作，而與光源30的傳送無關。此外，陣列測試裝置100還可包括感測單元和控制單元。感測單元檢測附在光纖 卡盤50上的異物。感測單元可以代表上述的檢測單元60。即，感測單元通過獲取光纖卡盤 50的圖像檢測異物是否附著到光纖卡盤50上，并且確定異物的位置。
控制單元輸出從清潔器200到敏感單元檢測的異物的距離。控制單元將關于距離 的信息發送給驅動清潔器200的部件。因此，清潔器200移動到異物的位置處。在清潔器 200聯接到光源30的情況下，控制單元200將從控制單元輸出的關于距離的信息發送給驅 動光源30的部件。在清潔器200移動到異物的位置處之后，清潔器200對光纖卡盤50進 行清潔。之后，感測單元再次進行檢測操作。如果仍然存在異物，重復上述的清潔處理。圖6是用于示例陣列測試裝置的清潔器的分離單元的截面圖。如圖6所示，清潔 器200可包括分離單元180。分離單元180將異物與光纖卡盤50分離開。可以使用向光纖 卡盤50噴射空氣的空氣噴射器來實現分離單元180。空氣噴射器噴射高壓空氣，從而分離 附著到光纖卡盤50的表面上的異物。圖7是示出用于示例陣列測試裝置的清潔器的吸引單元的截面圖。如圖7所示， 清潔器200可包括吸引單元170。吸引單元170吸附附著到光纖卡盤50的表面上或者存 在于周圍空氣中的異物。這樣，將從光纖卡盤50分離出來的異物完全從陣列測試裝置100 去除，而不會殘留在光纖卡盤50周圍的空氣中。圖8是示出圖7的清潔器的一個修改實例的截面圖，圖9是示出圖7的清潔器的 另一個修改實例的截面圖，圖10是示出圖7的清潔器的另一個修改實例的截面圖。如圖8所示，分離單元180和吸引單元170可以并排設置。如圖9所示，可以在分 離單元180的兩側設置兩個吸引單元170。在這種情況下，有效地吸附附著到光纖卡盤50 上的異物和存在于空氣中的異物，使得光纖卡盤50維持清潔狀態。此外，如圖10所示，可 以在吸引單元170的兩側安裝兩個分離單元180。圖11是示出設置有引腳的清潔器的截面圖。如圖11所示，吸引單元170設置有 多個引腳171。引腳171形成在吸引單元170的上表面上，并且在垂直于吸引單元170的方 向上向光纖卡盤50延伸，即沿著Z軸延伸。如果引腳171形成在吸引單元170上，產生與 被吸入到空氣孔中的氣流垂直的氣流。因此，垂直于被吸入到空氣孔中的氣流的氣流允許 光纖卡盤50周圍的異物能夠容易地從光纖卡盤50的表面分離。圖12是示出設置有超聲頭部的清潔器的截面圖。如圖12所示，清潔器200設置 有超聲頭部150。超聲頭部150產生超聲波以使附著到光纖卡盤50上的異物活動，從而分 離異物。圖13是示出設置有蓋的清潔器的截面圖。如圖13所示，清潔單元200還包括蓋 160。蓋160包圍超聲頭部150的外部，在超聲頭部150外部和蓋160之間形成間隙。蓋 160的一側連接到空氣噴射器，蓋160的另一側形成向光纖卡盤50的表面噴射空氣的開口 161。從空氣噴射器出來的空氣經過在超聲頭部160和蓋160之間形成的間隙噴射到光纖 卡盤50的表面。
上述結構中，超聲頭部150首先將附著到光纖卡盤50的異物分離開來，其次，利用 通過蓋160的開口 161噴出的高壓空氣分離該異物。因此，更加有效地進行清潔處理。圖14是示出圖12的清潔器的修改實例的截面圖，圖15是示出圖13的清潔器的 修改實例的截面圖。如圖14所示，可在吸引單元170的兩側設置兩個超聲頭部150。此外，如圖15所 示，可以在超聲頭部150和蓋160的兩側設置吸引單元170。盡管未示出，清潔單元200可設置有靜電吸收元件。靜電吸收元件消除附著在光 纖卡盤50上的異物的靜電，從而減少異物的吸附力。結果，清潔單元200有效地吸收異物。
已經介紹了多個示例性實施例。然而，應當理解，可以進行各種修改。例如，如果 以不同的順序執行所介紹的技術，和/或如果在所介紹的系統中的部件、結構、設備或者電 路以不同的方式組合和/或由其他部件或者等同物所代替或補充，可以獲得合適結果。因 此，其它的實施方案落在本發明的范圍之內。
權利要求
一種陣列測試裝置，包括光纖卡盤，其上安裝有待測試的基板；調制器，設置在所述光纖卡盤的一側；光源，設置在所述光纖卡盤的另一側，向所述調制器發射光；和清潔器，將異物從所述光纖卡盤去除。
2.如權利要求1所述的陣列測試裝置，其中，所述清潔器聯接到所述光源。
3.如權利要求1或2所述的陣列測試裝置，其中，所述光源與所述調制器的移動方向相 同，所述清潔器在所述光源移動時進行操作。
4.如權利要求1或2所述的陣列測試裝置，進一步包括 感測單元，用于檢測異物；和控制單元，用于計算從由所述感測單元檢測出的異物到所述清潔器的距離， 其中，所述清潔器移動到存在所檢測出的異物的位置處，并且進行操作。
5.如權利要求1或2所述的陣列測試裝置，其中，所述清潔器包括將異物從所述光纖卡 盤分離的分離單元。
6.如權利要求1或2所述的陣列測試裝置，其中，所述清潔器包括用于吸收附著到所述 光纖卡盤的表面或者存在于周圍空氣中的異物的吸引單元。
7.如權利要求6所述的陣列測試裝置，其中，所述吸引單元設置有向所述光纖卡盤垂 直延伸的多個引腳。
8.如權利要求1或2所述的陣列測試裝置，其中，所述清潔器包括產生超聲波的超聲頭部。
9.如權利要求8所述的陣列測試裝置，其中，所述清潔器還包括在所述超聲頭部的外 圍設置的蓋，以在所述蓋和所述超聲頭部之間形成間隙使得空氣通過該間隙。
全文摘要
提供了一種能夠對形成在顯示器基板上的電極的電缺陷進行測試的陣列測試裝置。待測試的基板安裝在光纖卡盤上。調制器設置在所述光纖卡盤的一側。光源設置在所述光纖卡盤的相對側，向所述調制器發出光。清潔器將異物從所述光纖卡盤去除。在陣列測試處理中，清潔器將附著到所述光纖卡盤上的異物去除，從而提高陣列測試處理的可靠性，減少測試錯誤。
文檔編號G01N21/88GK101988903SQ200910224090
公開日2011年3月23日 申請日期2009年12月7日 優先權日2009年8月3日
發明者樸廷喜 申請人:塔工程有限公司