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化學氣相沉積涂涂料設備的制作方法

文檔序號:4356461閱讀:237來源:國知(zhi)局(ju)
專利名稱:化學氣相沉積涂涂料設備的制作方法
技術領域
本發明涉及一種用于化學氣相沉積對工件涂料的設備,特別是一種用來同時對多個工件涂涂料的設備。
背景技術
為了增強塑料容器如塑料瓶的隔離功能,該塑料容器可帶有隔離層。這類涂料可通過各種CVD工藝(CVD化學氣相沉積)來沉積到容器壁等的上面。
等離子脈沖CVD(PICVD)法(脈沖的微波等離子)是一種特別適用于塑料容器的沉積方法。與等離子增強型化學氣相沉積(PECVD)相比,該PECVD法中的等離子保持連續,PICVD法在許多方面都具有優點,因為該方法能夠減少溫度敏感塑料的加熱程度。此外,在脈沖之間、未激勵出等離子的時間段里能夠進行氣體交換。
為此,在實驗室規模的涂料裝置中,塑料容器要插到涂料站中,該站帶有涂料所需的所有技術裝置。這些裝置尤其包括真空泵、氣源、傳感器以及微波引進裝置等。在真空密封鐘罩關閉后,中空腔體的內外排空,然后對容器的內和/或外壁進行涂料。
對于工業級的涂料來說,其需要一種具有相應更高處理能力的機器。例如,帶有幾個相同的、沿徑向布置的涂料站的連續旋轉傳送裝置就很適于這一需要。
但如果要沉積的層需要很長的時間話就會有一個問題。例如,有些涂層所需的涂料時間單次就可能超過20秒。如果涂料的步驟很多,那么在涂料段所需的停留時間也越長。這一點是可以想象的,例如,當塑料物體表面在涂料之前需要活化處理時,或者是需要連續涂上多層材料時,所需的時間均會增加。此時,連續運轉的旋轉式傳送裝置在運行上就不再經濟,因為其必須相應地放慢速度,或者是其大小必須與處理時間相匹配,這就需要非常大且昂貴的機器。

發明內容
因此,本發明的目的在于使CVD涂料更為經濟,即使是在處理時間很長時也是如此。
該目的的實現非常簡單,只需權利要求1所述的一種用來CVD涂料工件的設備以及如權利要求22所述的一種用于CVD涂料工件的方法即可。更佳更優的方案構成相應的從屬權利要求。
據此,本發明提供了一種化學氣相沉積涂料設備,包括一傳送裝置;至少一個用于涂料工件的涂料站;至少一個抽空裝置以及一個至少在涂料站的一個子區域內形成等離子體的裝置;在該設備中,該至少的一個涂料站內至少能接收兩個工件。
涂料站同時能接收多個工件即意味著當產量不變時,處理時間就增加一個系數,該系數對應于涂料站內能接收的工件數量。這樣就可確保設備的尺寸很小,但同時涂料時間可以長和產量大。
此外,對于許多實施例來說,最好是至少有一個涂料站隨著傳送裝置一起被傳送。
至少在涂料站的一個子區域內形成等離子體的裝置優選地包括一個用來形成脈沖等離子體的裝置。這類裝置可對工件進行PICVD涂料,因此其具有上述的優點。
多個工件可用一種非常簡單地方式布置在至少一個固定器上,同時該固定器可布置在該至少的一個涂料站中。此時,工件要么處于一個平面內,要么堆疊在立體布置的多個平面內。
此外,設備最好按如下方式配置傳送裝置將涂料站從至少一個進給位置連續傳送到至少一個抽空位置、至少一個涂料位置以及至少一個卸載位置。注意,設備至少可具有四個涂料站,這四個涂料站布置在傳送裝置上從而當其中一個涂料站處于涂料位置時,其余三個涂料站分別處于進給位置、抽空位置和卸載位置。這樣就可使每一個涂料站均參與到其中一個處理步驟中從而使處理程序在時間上達到最優化。
該處理程序的優化還包括使傳送裝置在涂料時放慢傳送速度。此時,如果傳送裝置在涂料過程中停下來是最好的。由此所形成的與連續式生產的不同之處在于其能夠更好地利用時間長度不同的各個生產階段。
在本發明的優選實施例中,傳送裝置包括一個旋轉設備。這些特征可使設備更為緊湊,機械結構相對更為簡單。然而,還可采用例如直線形式從而可從兩側自由操作涂料站。
在涂料站至少的這一子區域中可用一種簡單的方式通過一種能夠產生電磁波的裝置來形成等離子體。此時,最好生成微波,其很容易就能穿過中空的波導并具有很高的能量密度。
此外,本發明的設備最好包括一個裝置,該裝置將生成電磁波的裝置與該至少的一個涂料站相連。這么做的結果是,生成電磁波的裝置不必和涂料站一起被傳送。此外,這類裝置可以只在達到所確定的涂料區域時再將生成電磁波的裝置與該至少的一個涂料站相連。
為了使設備的結構更加簡單,用來生成電磁波的裝置最好布置在一個固定位置上。這樣,裝置就不必與至少的這一個涂料站一起被傳送了。特別是,這樣做可使各個涂料站不再需要各自專門的、隨傳送裝置傳送的等離子生成裝置,從而大大地降低了CVD涂料設備的裝置費用。
為了能夠更快地達到等離子涂料所需的最終壓力,至少應有兩個,優選地為多個泵裝置或泵級。泵級可對不同的壓力范圍進行優化。按順序切換泵級的開關就能用一臺容量大大小于單個泵級的壓力泵快速達到最終的壓力。
此外,本發明的設備還可包括一個裝置,該裝置將該至少的一個涂料站與至少的兩個泵級按順序連接。這樣例如就可在傳送裝置的給定位置處與涂料站形成連接,例如當采用旋轉式傳送裝置時,給定位置處于專門的旋轉位置處。
為了在抽空和涂料過程中將工件牢牢地固定住,本發明的設備最好還包括用于至少兩個工件的固定裝置。該固定裝置可包括用于中空結構工件特別是瓶體的接收裝置。
此外,引入生產氣體的裝置對本發明的所有實施例是有利的。為了涂料中空物體如塑料瓶或玻璃瓶等,該裝置在設計上還可使生產氣體輸入到中空物體。如果中空物體固定于密封的接收裝置中,那么此時就能在中空物體的內外區域形成不同的氣體組分。此時,就能在中空物體的內壁和外壁上形成不同的層體,或者只生成內涂層或外涂層,后者只需選擇合適的氣體組成使電磁輻射僅在內部區域或外部區域中產生等離子體即可。
在本發明的保護范圍中還包括有一種用來對工件進行化學氣相沉積涂料的方法,即使在處理時間很長時這種方法也能使涂料經濟有效。該化學氣相沉積涂料的方法可用本發明的設備來實現。這種對工件化學氣相沉積涂料的方法包括以下步驟;
-將至少兩個工件引入一涂料站內;-抽空;-將該至少的兩個工件隨傳送裝置一起傳送;-至少在涂料站的一個子區域內生成等離子體;-排氣;以及-取下工件。
至少在一個子區域內生成等離子體的過程將使生產氣體中形成等離子體的組成成分之間產生化學反應。然后,等離子體中的反應起始材料沉積到工件與等離子體相接觸的表面上形成涂層。
在形成有等離子體的一個涂料站內處理多個工件會使處理時間加長但不會減少產量,所加長的時間取決于一同處理或涂料的工件數量。為了充分利用在一個共用涂料站內進行涂料的優點,在至少一個子區域中生成等離子體的步驟最好還包括同時CVD涂料至少兩個工件的步驟。
此外,對于本發明的不同方法來說,至少的一個涂料站最好隨傳送裝置一起被傳送。此時,工件例如就可與接收工件的涂料站一起向前傳送,結果,就可在傳送裝置的移動過程中完成各個處理步驟。
在該方法中,至少在涂料站的一個子區域中生成等離子體的步驟最好包括生成脈沖等離子體的步驟。脈沖等離子體尤其可使在脈沖時高的功率轉到等離子體中,同時整個過程時間上的平均功率保持在很低的水平。
本發明的方法中,工件最好布置在引入涂料站的固定器上,由于這一步驟可在涂料設備外部進行,因此需要給相應的設備如機械夾取臂留下一個相應的空間。
將工件布置在涂料站內至少兩個高度上可使其中空間得到充分地利用。這一點例如可通過固定器合適的結構布置來實現。
此外,將涂料站隨傳送裝置一起傳送的步驟最好包括將涂料站從進給位置傳送到一個抽空位置、一個涂料位置以及至少一個卸載位置的步驟。
為了進一步在時間方面對該方法進行優化,將涂料站隨傳送裝置一起傳送的步驟可進一步包括在涂料過程中放慢傳送速度的步驟,特別是在涂料過程中停止傳送的步驟。
此外,至少在涂料站的一個子區域內生成等離子體的步驟最好包括生成電磁波特別是微波的步驟。此外,生成等離子體的步驟最好包括引入生產氣體的步驟。
在本發明的最優實施例中,該方法還可包括將一生成電磁波的裝置與該至少的一個涂料站相連的步驟。此時,可用一固定裝置來生成電磁波,同時帶有涂料站的傳送裝置可移過該固定裝置并與這個生成電磁波的裝置相連。
為了更快地達到抽空所需的最終壓力,抽空步驟還可包括至少采用兩個泵級來按順序進行抽空的步驟。
為了使中空物體工件如瓶體的內部形成涂層,中空物體工件所包圍的腔體最好也被抽空。這樣,在本優選實施例中,瓶體例如可通過瓶體內部抽空的方式來進行涂料。此外,為了對這類工件進行涂料,引入生產氣體的步驟最好包括將生產氣體引入中空物體工件的腔體的步驟。


下面結合附圖以舉例的形式對本發明的優選實施例進行描述。圖中相同的部件采用相同的附圖標記。附圖中圖1為本發明第一實施例的頂視示意圖,其帶有旋轉傳送裝置;圖2為本發明第二實施例的頂視示意圖,其帶有旋轉傳送裝置;圖3為本發明第三實施例的頂視示意圖,其帶有旋轉傳送裝置;以及圖4為設計成直線型傳送器的本發明設備的頂視示意圖。
具體實施例方式
圖1為本發明CVD涂料設備1的第一實施例的頂視示意圖。在該實施例中,設備1包括采用旋轉式傳送器的傳送裝置2。四個涂料站31、32、33、34固定于旋轉傳送裝置2上。
要涂料的工件布置在托板形式的固定器51、52、53、54上,并送到涂料站31-34上。
工件采用合適的固定裝置或接收裝置7固定在托板上。此時,可通過例如機械夾取臂來將工件放在托板上并將它們從托板取下。在圖1所示設備1的實施例中,一個托板上有16個接收裝置7。因此,每次可在一個涂料站內同時對16個工件涂料。
當傳送裝置2上的涂料站處于進給位置9時,可將固定于托板51-54中一個托板上的工件供應到涂料站31-34上。該進給位置對應于旋轉傳送器的一個確定的旋轉角或轉角范圍。
如果有一個涂料站,在圖1中是涂料站31,處于進給位置,那么其它的涂料站32、33、34則分別處于抽空位置11、涂料位置13和卸載位置15上。
當托板送到涂料站31上時,后者封閉,然后所有的涂料站都在傳送裝置2上向前傳送直到涂料站31到達抽空位置11。在圖1所示的設備狀態下,其中已帶有托板52的涂料站32正處于抽空位置。在這里,涂料站32通過一個合適的裝置與抽空裝置19相連。在本實施例中,該連接裝置包括有真空管道17。抽空裝置例如可包括不同類型的泵的組合,這些泵通過連接裝置按順序相連從而為涂料站32內瞬時形成要求的壓力提供最佳的排空容量。抽空裝置19還可與圖1所示的情況相反,布置在旋轉傳送器的內部區域21從而使設備1的結構最為緊湊。
在涂料站抽空之后,傳送裝置向前移動直到該涂料站31處于涂料位置13上。在該涂料位置13處,用來產生微波的裝置25與涂料站相連。例如,可通過合適的中空波導23來實現這種連接,圖1中僅展示了一個中空波導。對于這里所述的所有實施例來說,涂料站最好通過多個中空波導23,例如每個工件一個中空波導來進行連接從而在涂料站中產生均勻分布的射線。
此外,在涂料站13中,將適合于涂料的生產氣體引入涂料站并通過一個泵裝置194調節到所需的處理壓力,該泵裝置可包括適當數量的泵。此外,這個通過一進氣管17與此時處于涂料位置13的涂料站相連的泵裝置194能泵送出生產氣體,該生產氣體在涂料時經圖中未示出的一個裝置供入,由此在涂料過程中形成氣體交換。然后借助于裝置25射入涂料站的微波而在涂料站內形成等離子體,結果化學反應在運動中在等離子體中形成,從而使工件上那些位于等離子區域內的表面上形成CVD層。
特別是,在工件為中空物體如塑料瓶時,還可將氣體引到中空物體的內部。為此,托板的接收裝置7在設計上與固定在其上的工件一起形成一個密閉的空腔,該空腔的部分邊界由中空物體工件的內壁形成。然后將生產氣體引到該空腔中。當微波射入時,等離子體形成,沉積層就沉積在工件的內部或者沉積在由接收裝置7和工件形成的空腔中。此時,就可對中空物體工件的內部進行涂料。如果生產氣體僅引入到該空腔中,那么當抽空所形成的壓力太低時,空腔的外部不會形成等離子體。作為選擇,裝置19還可僅用來抽空該空腔,結果涂料站的其它部分就處于正常壓力下。此時,由于氣體密度很高并且氣體分子相應的自由行程很短,因此在涂料站的這些部分中不會形成等離子體。
此外,當工件為中空物體時,可將不同的生產氣體引到涂料站的空腔和其余區域中。這樣,工件的內外壁可分別具有不同類型的沉積層。例如,塑料瓶的內涂層為擴散隔離層,外層為防UV層。
在涂料操作結束后,將涂料站向前轉移并使傳送裝置處于卸載位置15,這里帶有涂料工件的托板由合適的設備取下。
傳送裝置可按順序連續地移過整個流程。然而,傳送裝置最好在涂料操作時停下來,這樣用來向中空波導23發射微波的固定裝置25就可不需移動。當傳送裝置為靜止時,與抽空裝置19的連接操作以及泵送出氣體的操作在實現上也沒那么困難。
下面參見圖2,其示意性地展示了本發明設備1的另一個實施例。
本實施例的CVD涂料設備1包括八個涂料站31-38。托板形式的固定器51-58適于每次接收八個工件。與圖1所示的實施例相比,涂料站31-38與傳送裝置一起連續進給到多個抽空位置和涂料位置。塊形箭頭表示的是旋轉式傳送器的旋轉方向。
在圖2所示的狀態下,涂料站32處于第一抽空位置處,涂料站33處于第二抽空位置處,涂料站34處于第三抽空位置處。
在本實施例中,將涂料站抽空的裝置包括位于各抽空位置處的泵裝置191、192以及193,并且位于其中一個位置上的涂料站與這些泵裝置191、192、193相連。
這樣,這些涂料站就會按步驟排空到確定的負壓。這些泵裝置優選可優化到不同的壓力范圍,從而即使在其泵容量相對較低時也能有效抽空涂料站。
此外,圖2所示的實施例與圖1所示的實施例的不同在于圖2所示實施例可在多個位置處進行CVD涂料。在圖2所示的設備狀態下,涂料站35位于第一涂料位置,涂料站36位于第二涂料位置,涂料站37位于第三涂料位置。在其中的每一個位置處,涂料站都要通過中空波導23與一個用來生成微波的裝置相連。然后,經中空波導23進入涂料站的微波就在生產氣體的區域內生成等離子體,這里等離子體內形成的反應產物沉積到工件與等離子體接觸的表面上。與圖1所示的設備一樣,本實施例也可在設計上用來涂料中空物體工件如塑料瓶的內表面。也可在不同的位置處供入不同的生產氣體,這樣就可在不同的位置處進行不同的涂料。為了在涂料操作中進行氣體交換,分別處于涂料位置上的涂料站需經進氣管道17與另一泵裝置194相連。
托板可采用與圖1所示實施例相同的方式供入和取下。在圖2所示設備1的狀態下,涂料站31處于進給位置,涂料站38處于卸載位置。
下面參見圖3,其展示的是本發明的另一實施例。該實施例包括十六個涂料站31-45,這些涂料站與圖1和2所示的實施例類似地放著托板形式的固定器51-64。托板51-64具有接收裝置7,接收裝置7每次接收四個工件。與圖2所示的實施例一樣,這些涂料站經三個真空泵級191、192、193抽空。此時,在圖中設備1所示的狀態下,涂料站35和36所處的兩個抽空位置分配給了最后的泵級193。因此,當涂料站與其它兩個泵級相連時,它們會分兩次與該最后泵級相連。這一點非常好,因為真空泵的抽氣容量會隨著壓力的下降而下降。
涂料操作分兩級進行,第一級有兩個涂料位置,第二級有四個涂料位置。為此,涂料站會再一次與中空波導23相連,其中的中空波導23與生成微波的裝置251和252相連。在涂料位置的變化過程中,中空波導會被再一次地連上或者隨著一起傳送從而避免CVD涂料的中斷。
圖4所示為布置成直線形式的本發明設備的示意圖。本實施例的傳送裝置2包括一個由輥23導引的傳送鏈22。傳送鏈22繞輥24的方向傳送,如箭頭所示。用來接收并固定瓶子4的接收裝置7固定在傳送鏈上。該瓶子4可插到傳送鏈22上,并可從另一側取下。因此設備1的結構非常緊湊。
首先,傳送軌上的瓶子4被傳送螺桿47傳送到設備1上,然后通過推桿27從下面推壓到接收裝置7中。推桿27優選地設計成能使多個瓶子4同時推入到接收裝置7中。瓶子4由傳送蝸桿47以給定的間距向下放到推桿27上,該間距對應于傳送鏈上接收裝置7的間距。然而,對于推桿來說,也可采用一個或多個機械夾臂或類似的裝置來代替。此外,接收裝置7還可帶有夾具以便將瓶子固定住。
然后,固定在接收裝置7中的瓶子通過傳送鏈22傳送到另一側。接著,涂料站3下降從而使瓶子收容在涂料站中的傳送裝置的頂面上。與前述的實施例不同,本實施例的涂料站不隨著傳送裝置2一起被傳送。此時,涂料站3優選設計成收容在涂料站3中的瓶子4的數量對應于被推桿27同時推入接收裝置7中的瓶子的數量,從而就能在本發明的一個共用涂料站中同時涂料多個工件。圖4所示的每次用于4個瓶子的涂料站的實施例僅是以舉例形式給出。
然后,涂料站的內部經抽空裝置19抽空,抽空裝置19在圖中僅是示意性地表示出來,其經一個或多個真空管道17與涂料站3相連。
然后,將生產氣體引入瓶子4的內部,這里可通過一個經中空波導23與涂料站3相連并形成微波的裝置25激勵產生等離子體。產生微波的裝置25和抽空裝置19例如可固定連接到涂料站3上并可與該涂料站3一起上下移動。這些裝置還可通過柔性或可拆的連接與涂料站3相連,這樣,裝置25和抽空裝置19就可布置在固定位置處。
在涂料后,將涂料站的內部排空,然后將涂料站3再次升起,傳送鏈將瓶子向前移直到它們回到傳送裝置2的下面為止。這里,可用移取裝置48將瓶子4從接收裝置7上取下并向下放到傳送帶30上從而被傳送走。這種布置可使瓶子以直立的狀態傳送到設備1上,并以直立的狀態向前傳送,因此就可將這種用于罐裝廠中的傳送技術用于本發明的傳送中,其中不需要進行什么大的改變。
附圖標記列表1 CVD涂料設備2 傳送裝置21 傳送裝置的內部區域22 傳送鏈23 輥3,31-46涂料站51-65 托板4 瓶子7 工件的接收裝置9 進給位置11 抽空位置13 涂料位置15 卸載位置17 真空管道19 抽空裝置191-194 泵送裝置23 中空波導24 輥25、251、252產生微波的裝置27 推桿29 傳送軌30 傳送帶47 傳送蝸桿48 移取裝置
權利要求
1.一種化學氣相沉積涂料設備(1),其包括一傳送裝置(2);至少一個用于對工件涂料的涂料站(3,31-46);至少一個抽空裝置(19)以及一個至少在涂料站(3,31-46)的一個子區域內形成等離子體的裝置;其中該至少的一個涂料站(3,31-46)內至少能接收兩個工件。
2.如權利要求1所述的設備,其特征在于該至少的一個涂料站(3,31-46)隨著傳送裝置(2)一起被傳送
3.如權利要求2所述的設備,其特征在于傳送裝置(2)將涂料站(31-46)從至少一個進給位置(9)連續地傳送到至少一個抽空位置(11)、至少一個涂料位置(13)以及至少一個卸載位置(15)。
4.如權利要求3所述的設備,其特征在于所述的設備至少包括有四個涂料站(31-34),這四個涂料站布置在傳送裝置(2)上從而當其中一個涂料站(31-34)處于涂料位置(13)時,其余的三個涂料站(31-34)分別處于該至少的一個進給位置(9)、至少的一個抽空位置(11)和至少的一個卸載位置(15)。
5.如權利要求1到4中任一項所述的設備,其特征在于至少在涂料站(31-46)的一個子區域內形成等離子體的裝置包括一個用來產生脈沖等離子體的裝置。
6.如權利要求1至5中任一項所述的設備,其特征在于工件至少布置在一個固定器(51-65)上,其中該固定器收在該至少的一個涂料站(3,31-46)中。
7.如權利要求1至6中任一項所述的設備,其特征在于工件至少布置在涂料站內的兩個高度上。
8.如權利要求1至7中任一項所述的設備,其特征在于在涂料過程中,傳送裝置放慢傳送速度,特別是停止傳送。
9.如權利要求1至8中任一項所述的設備,其特征在于傳送裝置(2)包括一個旋轉設備。
10.如權利要求1至9中任一項所述的設備,其特征在于傳送裝置(2)由一個直線設備構成。
11.如權利要求1至10中任一項所述的設備,其特征在于至少在涂料站(3、31-46)的一個子區域內形成等離子體的裝置包括一個用來生成電磁波的裝置(25)。
12.如權利要求11所述的設備,其特征在于用來生成電磁波的裝置包括一個用來產生微波的裝置(25)。
13.如權利要求11或12所述的設備,其特征在于所述的設備包括一個裝置,該裝置將生成電磁波的裝置(25)與該至少的一個涂料站(3、31-46)相連。
14.如權利要求11、12或13所述的設備,其特征在于用來生成電磁波的裝置(25)布置在一個固定位置上。
15.如權利要求1至14中任一項所述的設備,其特征在于抽空裝置(19)至少包括兩個泵級(191、192、193)。
16.如權利要求15所述的設備,其特征在于所述的設備包括一個裝置,該裝置將該至少的一個涂料站(3,31-46)與該至少的兩個泵級(191、192、193)按順序連接。
17.如權利要求1至16任一項所述的設備,其特征在于所述的設備包括一個引入生產氣體的裝置。
18.如權利要求1至17中任一項所述的設備,其特征在于所述的設備包括用于該至少兩個工件的固定裝置。
19.如權利要求18所述的設備,其特征在于固定裝置包括中空物體工件特別是瓶子(4)的接裝置(7)。
20.如權利要求19所述的設備,其特征在于抽空裝置包括一個裝置,該裝置用來抽空中空物體工件中空腔。
21.如權利要求18或19所述的設備,其特征在于所述的設備包括一個裝置,該裝置用來將生產氣體引到中空物體工件的空腔中。
22.一種對工件進行化學氣相沉積涂料的方法,其采用一個化學氣相沉積涂料設備,特別是權利要求1至21中任一所述的化學氣相沉積涂料設備,該方法以下步驟-將至少兩個工件引入一涂料站(3,31-46)內;-抽空;-將該至少的一個涂料站(31-46)隨一傳送裝置(2)一起傳送;-至少在涂料站(31-46)的一個子區域內生成等離子體;-排氣;以及-取下工件。
23.如權利要求22所述的方法,其特征在于還包括將該至少的一個涂料站隨傳送裝置一起傳送的步驟。
24.如權利要求23所述的方法,其特征在于至少在涂料站(31-46)的一個子區域內生成等離子體的步驟包括生成脈沖等離子體的步驟。
25.如權利要求23或24所述的方法,其特征在于至少在一個子區域內生成等離子體的步驟包括同時對至少兩個工件進行化學氣相沉積涂料的步驟。
26.如權利要求22至25中任一項所述的方法,其特征在于將至少兩個工件引入該至少的一個涂料站(31-46)的步驟包括引入一固定器(51-65)的步驟,其中工件就布置在該固定器上。
27.如權利要求22至26中任一項所述的方法,其特征在于將涂料站(31-46)隨一傳送裝置(2)一起傳送的步驟包括將涂料站從一進給位置(9)傳送到一個抽空位置(11)、一個涂料位置(13)以及至少一個卸載位置(15)的步驟。
28.如權利要求22至27中任一項所述的方法,其特征在于將涂料站(31-46)隨一傳送裝置(2)一起傳送的步驟包括在涂料過程中放慢傳送速度的步驟,特別是在涂料過程中停止傳送的步驟。
29.如權利要求22至28中任一項所述的方法,其特征在于至少在涂料站(31-46)的一個子區域內生成等離子體的步驟包括生成電磁波特別是微波的步驟。
30.如權利要求22至29中任一項所述的方法,其特征在于還包括將一個用來生成電磁波的裝置(25)與該至少的一個涂料站(31-46)相連的步驟。
31.如權利要求22至30中任一項所述的方法,其特征在于的抽空步驟包括至少采用兩個泵級(191、192、193)來按順序進行抽空的步驟。
32.如權利要求22至31中任一項所述的方法,其特征在于抽空步驟包括將中空物體工件特別是瓶子的空腔抽空的步驟。
33.如權利要求22至32所述的方法,其特征在于用來生成等離子體的步驟包括引入一生產氣體的步驟。
34.如權利要求33所述的方法,其特征在于引入生產氣體的步驟包括將一生產氣體引入中空物體工件的腔體的步驟。
全文摘要
為了經濟有效地進行長時間的化學氣相沉積涂料,本發明提供了一種化學氣相沉積涂料設備,該設備包括一個傳送裝置;至少一個用于涂料工件的涂料站;至少一個抽空裝置以及一個用來至少在涂料站的一個子區域內形成等離子體的裝置;在該設備中,該至少的一個涂料站內至少能接收兩個工件。
文檔編號B65G29/00GK1495285SQ03140988
公開日2004年5月12日 申請日期2003年5月23日 優先權日2002年5月24日
發明者格雷戈爾·阿諾爾德, 格雷戈爾 阿諾爾德, 貝勒, 斯特凡·貝勒, 亞斯 呂特林豪斯-亨克爾, 安德烈亞斯·呂特林豪斯-亨克爾, 斯 比克爾, 馬蒂亞斯·比克爾 申請人:肖特·格拉斯公司, 肖特 格拉斯公司
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