一種抽真空射砂結構的制作方法
【專利摘要】本發明提供了一種抽真空射砂結構，其確保砂進入模具內后緊實度高，進而使得產品密實度高、表面光潔、輪廓清晰、尺寸準確。其包括上部分射頭裝置、下部的模具結構，所述模具結構支承于所述工作臺，其特征在于：所述工作臺的下方設置有真空框，所述真空框的下端設置有升降缸，所述升降缸可驅動所述真空框垂直向移動，所述真空框的抽氣口通過伸縮管外接于真空泵，所述真空框的入氣口朝向所述工作臺的吸氣口布置,所述吸氣口連通所述模具結構的底部間隙,所述底部間隙連通至所述模具結構的型腔。
【專利說明】
一種抽真空射砂結構
技術領域
[0001 ]本發明涉及射芯機結構的技術領域，具體為一種抽真空射砂結構。
【背景技術】
[0002]射芯機是利用壓縮空氣將型砂均勻地射入砂箱預緊實，然后再施加壓力進行壓實的機器，現有的射芯機的射砂部分直接向下方的模具腔體進行射砂，雖然通過壓力進行射砂，但是模具內砂的緊實度不高，進而使得產品密實度低、表面光潔度低、尺寸上也會有微小偏差。

【發明內容】

[0003]針對上述問題，本發明提供了一種抽真空射砂結構，其確保砂進入模具內后緊實度高，進而使得產品密實度高、表面光潔、輪廓清晰、尺寸準確。
[0004]—種抽真空射砂結構，其技術方案是這樣的:其包括上部分射頭裝置、下部的模具結構，所述模具結構支承于所述工作臺，其特征在于:所述工作臺的下方設置有真空框，所述真空框的下端設置有升降缸，所述升降缸可驅動所述真空框垂直向移動，所述真空框的抽氣口通過伸縮管外接于真空栗，所述真空框的入氣口朝向所述工作臺的吸氣口布置，所述吸氣口連通所述模具結構的底部間隙，所述底部間隙連通至所述模具結構的型腔。
[0005]其進一步特征在于:所述真空框的中心位置的下端設置有連接基座，所述連接基座的下端緊固連接有升降缸的上部活塞桿，所述升降缸升降帶動真空框垂直向移動；
[0006]所述真空框的底部外側均布有導向桿基座，所述導向桿基座的底部固裝于所述導向桿的頂部，所述導向桿垂直向貫穿底板的對應貫穿孔，所述導向桿確保真空框的垂直向平穩移動；
[0007]所述升降缸的缸體固裝于所述底板；
[0008]所述抽氣口的位置緊固裝有密封套筒，所述密封套筒的出口外露于所述真空框的下端面，所述密封套筒的下端套裝有所述伸縮管的入口環面，所述密封套筒的下端外環面緊貼所述伸縮管的入口環面的內壁，所述伸縮管的入口環面的外壁套裝有密封壓緊環，確保接口處的密封。
[0009]采用本發明的結構后，射芯機的射砂前，將升降缸上升，使得真空框上升，真空框的上端面的入氣口緊貼所述工作臺的吸氣口，進而使得工作臺的吸氣口連通至模具結構的型腔，射芯機緊貼模具結構的射砂口后，真空栗啟動完成對于型腔的抽真空，之后真空栗關閉，保持型腔的真空狀態，射芯機射砂，使得砂進入負壓狀態的型腔內，確保砂進入模具內后緊實度高，進而使得產品密實度高、表面光潔、輪廓清晰、尺寸準確，脫模時，真空框下降，確保模具結構的正常脫模。
【附圖說明】
[00?0]圖1為本發明的主視圖結構不意圖；
[0011]圖2位圖1的A處局部放大結構圖；
[0012]圖中各序號所對應的標注名稱如下:
[0013]射頭裝置1、模具結構2、工作臺3、真空框4、升降缸5、抽氣口6、伸縮管7、真空栗8、入氣口 9、吸氣口 10、底部間隙11、連接基座12、上部活塞桿13、導向桿基座14、導向桿15、底板16、密封套筒17、密封壓緊環18。
【具體實施方式】
[0014]—種抽真空射砂結構，見圖1:其包括上部分射頭裝置1、下部的模具結構2，模具結構2支承于工作臺3，工作臺3的下方設置有真空框4，真空框4的下端設置有升降缸5，升降缸5可驅動真空框4垂直向移動，真空框4的抽氣口 6通過伸縮管7外接于真空栗8，真空框4的入氣口 9朝向工作臺3的吸氣口 10布置，吸氣口 10連通模具結構的底部間隙11，底部間隙11連通至模具結構2的型腔(圖中未畫出，屬于現有成熟結構)。
[0015]真空框4的中心位置的下端設置有連接基座12，連接基座12的下端緊固連接有升降缸5的上部活塞桿13，升降缸5升降帶動真空框4垂直向移動；
[0016]真空框4的底部外側均布有導向桿基座14，導向桿基座14的底部固裝于導向桿15的頂部，導向桿15垂直向貫穿底板16的對應貫穿孔，導向桿15確保真空框4的垂直向平穩移動；
[0017]升降缸5的缸體固裝于底板16;
[0018]抽氣口6的位置緊固裝有密封套筒17，密封套筒17的出口外露于真空框4的下端面，密封套筒17的下端套裝有伸縮管7的入口環面，密封套筒17的下端外環面緊貼伸縮管7的入口環面的內壁，伸縮管7的入口環面的外壁套裝有密封壓緊環18，確保接口處的密封。
[0019]以上對本發明的具體實施例進行了詳細說明，但內容僅為本發明創造的較佳實施例，不能被認為用于限定本發明創造的實施范圍。凡依本發明創造申請范圍所作的均等變化與改進等，均應仍歸屬于本發明的專利涵蓋范圍之內。
【主權項】
1.一種抽真空射砂結構，其包括上部分射頭裝置、下部的模具結構，所述模具結構支承于所述工作臺，其特征在于:所述工作臺的下方設置有真空框，所述真空框的下端設置有升降缸，所述升降缸可驅動所述真空框垂直向移動，所述真空框的抽氣口通過伸縮管外接于真空栗，所述真空框的入氣口朝向所述工作臺的吸氣口布置，所述吸氣口連通所述模具結構的底部間隙，所述底部間隙連通至所述模具結構的型腔。2.如權利要求1所述的一種抽真空射砂結構，其特征在于:所述真空框的中心位置的下端設置有連接基座，所述連接基座的下端緊固連接有升降缸的上部活塞桿。3.如權利要求1所述的一種抽真空射砂結構，其特征在于:所述真空框的底部外側均布有導向桿基座，所述導向桿基座的底部固裝于所述導向桿的頂部，所述導向桿垂直向貫穿底板的對應貫穿孔。4.如權利要求3所述的一種抽真空射砂結構，其特征在于:所述升降缸的缸體固裝于所述底板。5.如權利要求1所述的一種抽真空射砂結構，其特征在于:所述抽氣口的位置緊固裝有密封套筒，所述密封套筒的出口外露于所述真空框的下端面，所述密封套筒的下端套裝有所述伸縮管的入口環面，所述密封套筒的下端外環面緊貼所述伸縮管的入口環面的內壁，所述伸縮管的入口環面的外壁套裝有密封壓緊環。
【文檔編號】B22C15/24GK106077523SQ201610710039
【公開日】2016年11月9日
【申請日】2016年8月24日
【發明人】余自
【申請人】蘇州蘇鑄成套裝備制造有限公司