專利名稱：電動引弧直接冷卻式陰極電弧離子源的制作方法
技術領域：
本實用新型涉及一種真空鍍膜領域的電動引弧直接冷卻式陰極電弧離子源。
背景技術：
在真空鍍膜設備上采用陰極電弧離子源進行鍍膜，具有膜層沉積速度快，結合力 牢固的特點，為進一步提高膜層結合力，在陰極電弧離子源的設計上需要考慮弧靶靶材表 面的垂直磁場，磁場強度是直接影響膜層結合力的關鍵因素之一，而目前對此沒有很好的 解決辦法；另外，鍍膜過程中靶材表面溫度持續上升，不僅致使鍍出的膜層顆粒粗糙，耙材 表面燒蝕不均勻，而且造成真空室及被鍍工件超過設定溫度的現象。
實用新型內容本實用新型的目的是提供一種采用電動引弧，調節盤螺桿一端位于陰極座內，接
近靶材中心，提高靶材表面的垂直磁場的電動引弧直接冷卻式陰極電弧離子源。 為實現上述目的，本實用新型電動引弧直接冷卻式陰極電弧離子源，包括引弧系
統、陰極座、屏蔽盤、法蘭盤、調節盤組件、調節盤螺桿；陰極座與法蘭盤之間通過螺釘連接，
陰極座絕緣墊位于陰極座與螺釘之間，陰極絕緣套位于陰極座與法蘭盤之間，套在陰極座
上；調節盤固定件位于調節盤組件與陰極座之間，調節盤螺桿一端與調節盤組件相連，另一
端位于陰極座中；屏蔽盤支撐桿位于法蘭盤與屏蔽盤之間；法蘭盤絕緣墊位于法蘭盤與真
空爐體連接位置，法蘭絕緣盤位于法蘭盤與真空爐結合處。 所述引弧系統由引弧絲、引弧桿、引弧桿外套、引弧線圈外套、線圈支架、引弧線圈
外套后蓋組成；引弧絲與引弧桿相連，引弧桿位于引弧桿外套內，引弧桿外套通過螺釘緊固
在法蘭盤上，引弧桿外套絕緣墊位于螺釘與引弧桿外套之間，引弧絕緣法蘭位于引弧桿外
套、引弧桿與法蘭盤之間。 屏蔽環位于所述屏蔽盤上。 進水口，出水口位于所述陰極座上，陰極座內水道位于耙材一側有開口，密封圈位 于陰極座上與靶材結合部位。 磁鋼位于調節盤組件中，蓋板位于磁鋼外面。。 采用這樣的結構后，電磁線圈可安裝在引弧線圈外套內，電磁線圈可套在線圈支 架上，電磁線圈通電后，可帶動引弧桿，從而帶動引弧絲前后移動，使引弧絲點觸靶材表面， 使靶材表面產生電弧；可拆卸引弧線圈外套后蓋，取出電磁線圈，方便更換；引弧桿絕緣法 蘭使弓I弧桿與法蘭盤絕緣；弓I弧桿在引弧桿外套內前后移動。弓|弧桿外套通過螺釘緊固在法蘭盤上，弓|弧桿外套絕緣墊使之與法蘭盤絕緣。 調節盤組件中鑲嵌磁鋼，并用蓋板封閉，可產生磁鋼磁場；磁鋼磁場通過調節盤螺 桿傳遞到陰極座上；調節盤螺桿一端與調節盤組件相連，另一端位于陰極座內；進一步提 高弧靶靶材表面的垂直磁場，提高了膜層結合力。 調節盤固定件將調節盤組件固定在陰極座上。[0013] 陰極座上可安裝耙材，由于進水口，出水口位于所述陰極座上，陰極座內水道位于靶材一側有開口 ，密封圈位于陰極座與靶材結合部位，陰極座內部可接通冷卻水，靶材壓緊密封圈安裝于陰極座上，冷卻水直接浸泡靶材。大大降低了靶材的整體溫升，對鍍膜質量有了很大的改善。 陰極絕緣套套在陰極座上，使陰極座與法蘭盤絕緣；陰極座安裝在法蘭盤上，通過螺釘緊固，陰極座絕緣墊隔離緊固螺釘和法蘭盤；陰極座安裝在法蘭盤上，通過法蘭盤固定在真空爐上。 屏蔽盤可套在靶材上，對靶材帶電粒子進行屏蔽；屏蔽盤支撐桿安裝在法蘭盤上，支撐屏蔽環；屏蔽環安裝在屏蔽盤上，可調整間隙。 法蘭盤可用螺釘固定在真空爐體接口上，法蘭盤絕緣墊隔離螺釘與爐體；法蘭盤安裝在真空室爐體上，中間夾法蘭絕緣盤，使法蘭盤與爐體絕緣。 本實用新型采用電動引弧，從而減少了密封圈接口，使引弧絲與真空爐隔離，減少了漏氣點，大大簡化了結構，使安裝維護更為簡便，操作更為容易；冷卻水直接浸泡靶材，大大降低了靶材的整體溫升，對鍍膜質量有了很大的改善。
圖1是本實用新型電動引弧直接冷卻式陰極電弧離子源的結構示意圖。
具體實施方式
圖l所示的本實用新型電動引弧直接冷卻式陰極電弧離子源，包括引弧系統22、陰極座15、屏蔽盤9、法蘭盤20、調節盤組件17、調節盤螺桿18 ;陰極座15與法蘭盤20之間通過螺釘23連接，陰極座絕緣墊12位于陰極座15與螺釘23之間，陰極絕緣套11位于陰極座15與法蘭盤20之間，套在陰極座15上；調節盤固定件16位于調節盤組件17與陰極座15之間，調節盤螺桿18 —端與調節盤組件17相連，另一端位于陰極座15中；屏蔽盤支撐桿8位于法蘭盤20與屏蔽盤9之間。 所述引弧系統22由引弧絲1、引弧桿2、引弧桿外套4、引弧線圈外套5、線圈支架6、引弧線圈外套后蓋7組成；引弧絲1與引弧桿2相連，引弧桿2位于引弧桿外套4內，引弧桿外套4通過螺釘24緊固在法蘭盤20上，引弧桿外套絕緣墊13位于螺釘24與引弧桿外套4之間，引弧絕緣法蘭3位于引弧桿外套4、引弧桿2與法蘭盤20之間。[0021] 屏蔽環10位于所述屏蔽盤9上。 進水口 25，出水口 26位于所述陰極座15上，陰極座15內水道27位于耙材一側有
開口，密封圈21位于陰極座15上與靶材結合部位。 磁鋼28位于調節盤組件17中，蓋板29位于磁鋼28外面。 法蘭盤絕緣墊14位于法蘭盤與真空爐體連接位置30處，法蘭絕緣盤19位于法蘭盤20與真空爐結合處。 這樣，引弧線圈外套5內電磁線圈通電后，可帶動引弧絲1前后移動，使引弧絲1點觸耙材表面，產生電弧，磁鋼28磁場通過調節盤螺桿18傳遞到陰極座15中，調節盤螺桿18 —端位于陰極座15內，進一步提高弧靶靶材表面的垂直磁場，提高了膜層結合力；冷卻水直接浸泡靶材。大大降低了靶材的整體溫升，對鍍膜質量有了很大的改善。
權利要求一種電動引弧直接冷卻式陰極電弧離子源，其特征在于包括引弧系統(22)、陰極座(15)、屏蔽盤(9)、法蘭盤(20)、調節盤組件(17)、調節盤螺桿(18)；陰極座(15)與法蘭盤(20)之間通過螺釘(23)連接，陰極座絕緣墊(12)位于陰極座(15)與螺釘(23)之間，陰極絕緣套(11)位于陰極座(15)與法蘭盤(20)之間，套在陰極座(15)上；調節盤固定件(16)位于調節盤組件(17)與陰極座(15)之間，調節盤螺桿(18)一端與調節盤組件(17)相連，另一端位于陰極座(15)中；屏蔽盤支撐桿(8)位于法蘭盤(20)與屏蔽盤(9)之間。
2. 根據權利要求1所述的電動引弧直接冷卻式陰極電弧離子源，其特征在于所述引弧系統(22)由引弧絲(1)、引弧桿(2)、引弧桿外套(4)、引弧線圈外套(5)、線圈支架(6)、引弧線圈外套后蓋(7)組成；引弧絲(1)與引弧桿(2)相連，引弧桿(2)位于引弧桿外套(4)內，引弧桿外套(4)通過螺釘(24)緊固在法蘭盤(20)上，引弧桿外套絕緣墊(13)位于螺釘(24)與引弧桿外套(4)之間，引弧絕緣法蘭(3)位于引弧桿外套(4)、引弧桿(2)與法蘭盤(20)之間。
3. 根據權利要求1所述的電動引弧直接冷卻式陰極電弧離子源，其特征在于屏蔽環(10)位于所述屏蔽盤(9)上。
4. 根據權利要求1所述的電動引弧直接冷卻式陰極電弧離子源，其特征在于進水口(25)，出水口 (26)位于所述陰極座(15)上，陰極座(15)內水道(27)位于耙材一側有開口，密封圈(21)位于陰極座(15)上與靶材結合部位。
5. 根據權利要求1所述的電動引弧直接冷卻式陰極電弧離子源，其特征在于磁鋼(28)位于調節盤組件(17)中，蓋板(29)位于磁鋼(28)外面。
6. 根據權利要求1所述的電動引弧直接冷卻式陰極電弧離子源，其特征在于法蘭盤絕緣墊(14)位于法蘭盤與真空爐體連接位置(30)處，法蘭絕緣盤(19)位于法蘭盤(20)與真空爐結合處。
專利摘要本實用新型公開了一種電動引弧直接冷卻式陰極電弧離子源，包括引弧系統(22)、陰極座(15)、屏蔽盤(9)、法蘭盤(20)、調節盤組件(17)、調節盤螺桿(18)；所述引弧系統(22)由引弧絲(1)、引弧桿(2)、引弧桿外套(4)、引弧線圈外套(5)、線圈支架(6)、引弧線圈外套后蓋(7)組成；進水口(25)，出水口(26)位于所述陰極座(15)上，陰極座(15)內水道(27)位于靶材一側有開口。這樣，本實用新型采用電動引弧，提高了弧靶靶材表面的垂直磁場，提高了膜層結合力，使冷卻水直接冷卻靶材，大大降低了靶材的整體溫升，對鍍膜質量有了很大的改善。
文檔編號C23C14/30GK201495279SQ20092017290
公開日2010年6月2日 申請日期2009年8月14日 優先權日2009年8月14日
發明者熊劍輝 申請人:熊劍輝