專利名稱：濺射裝置的制作方法
技術領域：
本發明涉及一種濺射裝置。
背景技術：
使用磁控的PVD是將物質沉積在基片上的一種方法。在PVD工藝中靶材被電子偏轉，而且該工藝中發生的離子從靶材中獲得除去原子的充分的能量，以致對靶材的表面進行轟擊。引起等離子體的產生的靶材的偏轉工藝，其使得離子給靶材加以轟擊并除去原子，一般被稱為濺射(sputtering)。被濺射的原子一般飛向被濺射涂膜的基片而沉積在基片上。代替地，原子和等離子體內的氣體如氮氣作反應而將混合物沉積在基片上。為了在基片上形成氮化鈦或氮化鉭及薄的屏障(barrier)，可以使用反應濺射。直流(DC)濺射以及交流(AC)濺射是將靶材偏轉并且引導向靶材的離子的濺射工藝。因為靶材在-100乃至-600V范圍可以偏轉為負數，為了濺射原子，其可以引導向靶材的惰性氣體(例如氬氣)的陽離子。通常，為了在濺射沉積時保護室壁面，濺射室的側面被護罩覆蓋。護罩被接地。在濺射中物質可以被濺射而沉積在室內露出的表面上。在室內露出的表面上沉積的物質可能被脫或污染基片。所以需要減少污染基片的技術。同時，為了形成真空，在室內可以形成作排氣的抽氣口。其中，如果抽氣口與護罩相鄰，護罩可能作為氣體的流動障礙物，從而在與護罩相鄰的領域可以發生渦流。這種渦流可以成為在室內質點發生的原因。

發明內容
本發明提供了一種濺射裝置，其使得可以防止質點的發生，并且在室內排氣得以暢通。本發明的一個方面提供了一種濺射裝置，包括室；陰極，其連接于室內的一面； 抽氣口，其形成于室內的一面；以及護罩，其連接于陰極和抽氣口之間的室內的一面，并且形成流動孔。其中，所述抽氣口形成于所述陰極的兩側，并所述護罩形成于所述陰極的兩側。而且，所述流動口被彼此隔開并連接的多個條板形成，并且所述多個條板可以被布置為向下傾斜。本發明的其它方面和優點將在下面的描述中部分地闡述，并且部分地將通過該描述而顯而易見，或者可以通過實施本發明而獲知。


圖1是根據本發明的一個實施例的濺射裝置的剖面圖。圖2是根據本發明的一個實施例的濺射裝置的陰極和護罩的透視圖。圖3是根據本發明的一個實施例的濺射裝置的護罩的透視圖。圖4是根據本發明的一個實施例的濺射裝置的護罩周圍氣體流動的示意圖。
具體實施例方式由于本發明允許進行各種變化和大量的實施方式，所以在附圖中圖示說明了特定實施方式并以文字敘述進行了詳細描述。然而，這不應該用來將本發明限制于實施的特定模式，并且應當理解成不背離本發明精神和技術范圍的所有變化、等同物以及替換都涵蓋在本發明中。在本發明的描述中，如果認為相關技術的某些詳細解釋可能不必要地使本發明主旨模糊時，將其省略。雖然可能使用如“第一”和“第二”等的術語來描述不同的元件，但這樣的元件不必局限于上述術語，上述術語僅用于將一個元件與另一個元件區分開。在本說明書中使用的術語僅用來描述特定實施方式，并且不應用來限制本發明。 以單數使用的表達涵蓋復數的表達，除非在上下文中清楚地具有不同的含義。在本說明書中，應當理解，術語如“包括”或“具有”等用來表明本說明書中披露的特征、數值(number)、 步驟、行為、元件、部件、或它們的組合的存在，而不用來排除可以存在或可以添加一個或多個其他特征、數值、步驟、行為、元件、部件、或它們的組合的可能性。下面將參照附圖更詳細地描述根據本發明的某些實施例的濺射裝置1000。不管圖號是多少，那些相同或相應的元件用相同的附圖標號表示，并且省略多余的解釋說明。圖1是本發明一個實施例的濺射裝置1000的剖面圖。如圖1所示，濺射裝置1000 可以包括室100、陰極300、抽氣口 102、護罩400以及移送件。濺射裝置1000的基本結構是眾所周知的，所以圖1只示出了對該實施例的說明必要的結構。室100在其內具有空間，并且在其內可以容納基片10。通過外部和內部的基片 10保持氣密，室100可以在其內形成真空狀態。在室100的一面可以形成抽氣口 102。濺射裝置1000可以包括真空抽氣機，并真空抽氣機通過抽氣口 102可以排出室內的氣體。抽氣口 102可以設在如下所述的陰極300 的兩側。圖2是根據本發明的一個實施例的濺射裝置1000的陰極300和護罩400的透視圖。如圖1以及圖2所示，陰極300連接于室100的一面的中央。在陰極300的兩側可以設置護罩400。S卩，護罩400可以連接于陰極300和抽氣口 102之間的與陰極300相鄰的部分。圖3是根據本發明的一個實施例的濺射裝置1000的護罩400的透視圖。如圖3 所示，護罩400可以包括框架410和條板430。框架410可以支持條板430的兩側，而且在框架410的兩側上多個的條板430可以上下彼此隔開并且互相連接。其中，將條板430設為向下傾斜，使得其下端可以面向室100的一面。因此，在相鄰的條板430之間可以設置流動孔，其具有會向左右被延長的形態。圖4是根據本發明的一個實施例的濺射裝置1000的護罩400周圍的氣體的流動的示意圖。如圖4所示，當通過抽氣口 102開始排氣時，在室100內的一面可以發生氣流。 此時，護罩400的流動口 430可以提供氣流的流動渠道，使得將室100內的氣體暢通地排除到外部。結果，具有流動口 430的護罩400在排氣時可以防止在與護罩400相鄰的領域中發生渦流，從而可以防止質點的發生，并且通過抽氣口 102的排氣得以暢通。盡管本發明已經通過參考具體實施方式
進行了描述，但是應該理解成本領域技術人員在不背離如由所附權利要求和它們的等同替換所限定的本發明的精神和范圍的前提下，可以進行各種變化及更改。不同于上文提出的許多實施方式可在所附權利要求中找到。
〈圖中主要部分的符號說明〉 10 基片100 室
300:陰極400:護罩
1000 濺射裝置
權利要求
1.一種濺射裝置，包括 室；陰極，其連接于所述室內的一面； 抽氣口，其形成于所述室內的一面；以及護罩，其連接于所述陰極和所述抽氣口之間的所述室內的一面，并且形成流動孔。
2.根據權利要求1所述的裝置，其中，所述抽氣口形成于所述陰極的兩側，并且所述護罩形成于所述陰極的兩側。
3.根據權利要求1所述的裝置，其中，所述流動孔被彼此隔開并連接的多數的條板形成。
4.根據權利要求3所述的裝置，其中，將所述多個的條板布置為向下傾斜。
全文摘要
本發明披露了一種濺射裝置。該濺射裝置可以包括室；陰極，其連接于室內的一面；抽氣口，其形成于室內的一面；以及護罩，其連接于陰極和抽氣口之間的室內的一面，并且設置流動孔。本發明的濺射裝置可以給與抽氣口相鄰的護罩的周圍提供暢通的氣體的流動環境，使得可以防止質點的發生，并且室的排氣得以暢通。
文檔編號H01J37/34GK102437004SQ20101029667
公開日2012年5月2日 申請日期2010年9月29日 優先權日2010年9月29日
發明者南宮晟泰, 尹亨碩, 樸秉瑀, 李泰成 申請人:Snu精密股份有限公司