一種陣列基板、顯示裝置的制造方法
【技術領域】
[0001]本發明涉及顯示技術領域，具體地，涉及一種陣列基板、顯示裝置。
【背景技術】
[0002]在目前的液晶顯示器的陣列制作工藝中，取向液的噴涂對于大尺寸玻璃基板有著明顯的優勢，但是在取向液的噴涂時，由于陣列基板形貌差異(走線層的多少、走線的走向和分布密度不同導致)，在陣列基板的邊框區域取向液擴散快慢不同，在擴散快的地方還會產生溢出現象；取向液溢流到陣列基板外會導致顯示面板有信賴性的風險(例:高溫高濕對顯示面板的影響、顯示面板容易剝離、液晶易泄露、顯示面板的密封性差易產生氣泡等風險)
[0003]在擴散慢且表面張力較大的區域，取向液產生起伏的表面(例如，與過孔對應的位置)，這就容易產生取向液擴散不均勻，從而造成陣列基板周邊污漬，陣列基板周邊顯示色彩不均，陣列基板邊角漏光等不良。
[0004]如圖1所示，陣列基板包括顯示區域和邊框區域，顯示區域包括依次在襯底I上設置的柵極線2、柵極絕緣層3、數據線4、鈍化層5、取向液6。
[0005]其中，取向液6擴散不均勻造成邊框區域和顯示區域具有起伏和取向液6的邊界無法限定的問題。

【發明內容】

[0006]解決上述問題所采用的技術方案是一種陣列基板、顯示裝置。
[0007]本發明提供的一種陣列基板，包括顯示區域和圍設在顯示區域周邊的邊框區域，所述的邊框區域包括用于導流取向液的導流槽。
[0008]優選的，所述邊框區域包括至少一層絕緣層；所述的導流槽設置于所述絕緣層中的任層。
[0009]優選的，所述導流槽的深度小于所述導流槽所在絕緣層的厚度。
[0010]優選的，所述邊框區域包括位于所述邊框區域的遠離所述顯示區域一側邊緣的封框膠；所述導流槽的位于所述封框膠和所述顯示區域之間。
[0011]優選的，所述導流槽的寬度為0.lmm-0.5mm。
[0012]優選的，所述邊框區域包括在襯底設置的第一絕緣層；以及設置在第一絕緣層與所述襯底之間的相互絕緣的走線層。
[0013]優選的，所述取向液涂覆于所述陣列基板的第一絕緣層上；
[0014]所述導流槽設置于所述的第一絕緣層上；所述的導流槽的深度小于所述第一絕緣層的厚度。
[0015]優選的，所述第一絕緣層的厚度為200-600nm ;所述導流槽的深度為200_500nm。
[0016]優選的，所述走線層包括相互絕緣設置的柵極線和數據線；所述的柵極線和數據線之間設有第二絕緣層；
[0017]優選的，所述導流槽設置于所述的第二絕緣層上；所述導流槽的深度小于所述第二絕緣層的厚度。
[0018]優選的，所述第二絕緣層的厚度為200-600nm ;所述導流槽的深度為200_500nm。
[0019]本發明的另一個目的在于提供一種顯示裝置，包括上述的陣列基板。
[0020]本發明提供的陣列基板、顯示裝置由于在邊框區域設置了用于導流取向液的導流槽，該導流槽能夠使取向液邊緣的表面張力均勻分布，釋放了由于陣列基板的不平坦位置(與過孔對應的位置)取向液的表面張力，使邊框區域和顯示區域中的取向液平坦化、均勻化；另外，該導流槽限定了取向液向外擴散的最大邊界，使得取向液的邊界可控，并能防止取向液的溢流導致的各種不良。
【附圖說明】
[0021]圖1現有技術中陣列基板在涂覆取向液后的剖視示意圖；
[0022]圖2本發明實施例1中陣列基板的結構俯視示意圖；
[0023]圖3本發明實施例1中陣列基板的導流槽設置在鈍化層時A-A向剖視示意圖；
[0024]圖4本發明實施例1中陣列基板的導流槽設置在柵極絕緣層時A-A向剖視示意圖；
[0025]其中，1.襯底；2.柵極線；3.柵極絕緣層；4.數據線；5.鈍化層；6.取向液；7.導流槽；8.顯示區域；9.封框膠；
[0026]d:導流槽的寬度；
[0027]h:導流槽的深度。
【具體實施方式】
[0028]為使本領域技術人員更好地理解本發明的技術方案，下面結合附圖和【具體實施方式】對本發明作進一步詳細描述。
[0029]實施例1:
[0030]如圖2-4所示，本實施例提供一種陣列基板。其中，如圖2所示，陣列基板包括顯示區域8和圍設在顯示區域8周邊的邊框區域，所述的邊框區域包括用于導流取向液6的導流槽7。
[0031]本實施例中的陣列基板由于在邊框區域設置了用于導流取向液6的導流槽7，該導流槽7能夠使取向液6邊緣的表面張力均勻分布，釋放了由于陣列基板的不平坦位置(與過孔對應的位置)取向液6的表面張力，使邊框區域和顯示區域8中的取向液6平坦化、均勻化；
[0032]另外，該導流槽7限定了取向液6向外擴散的最大邊界，使得取向液6的邊界可控，并能防止取向液6的溢流導致的各種不良。
[0033]優選的，所述邊框區域包括至少一層絕緣層；所述的導流槽7設置于所述絕緣層中的任層。
[0034]導流槽7設置在邊框區域的絕緣層任一一層中都能使取向液6導流到導流槽7中或與導流槽7位置對應的凹槽中，從而使導流槽7起到作用。
[0035]如圖3-4所示，優選的，所述導流槽7的深度h小于所述導流槽7所在絕緣層的厚度。這樣導流槽7所對應的位置的絕緣層不用刻蝕穿，能避免取向液6滲透至該絕緣層的相鄰層；同時，導流槽7的深度h可以根據具體的應用情況進行調節，以容納適當量的取向液6。
[0036]如圖2所示，優選的，所述邊框區域包括位于所述邊框區域的遠離所述顯示區域8一側邊緣的封框膠9 ;所述導流槽7的位于所述封框膠9和所述顯示區域8之間。
[0037]應當理解的在封框膠9和所述顯示區域8之間均可以布置上述的導流槽7，導流槽7的寬度d可以根據具體的應用情況進行調節，以容納適當量的取向液6。
[0038]優選的，所述導流槽7的寬度d為0.lmm-0.5mm。
[0039]一般封框膠9和顯示區域8之間距離大于0.5mm，因此，導流槽7的寬度d可以在0.lmm-0.5mm之間進行調整。
[0040]如圖3-4所示，具體地，所述邊框區域包括在襯底I設置的鈍化層5 ;以及設置在鈍化層5與所述襯底I之間的相互絕緣的走線層。
[0041]在一種具體的應用情形中，所述取向液6涂覆于所述陣列基板的鈍化層5上；
[0042]所述導流槽7設置于所述的鈍化層5上；所述的導流槽7的深度h小于所述鈍化層5的厚度。
[0043]優選的，所述鈍化層5的厚度為200-600nm ;所述導流槽7的深度h為200_500nm。
[0044]在另一種應用情形中，導流槽7設置在柵極絕緣層3，具體地，如圖4所示，所述走線層包括相互絕緣設置的柵極線2和數據線4 ;所述的柵極線2和數據線4之間設有柵極絕緣層3 ；
[0045]優選的，所述導流槽7設置于所述的柵極絕緣層3上；所述導流槽7的深度h小于所述柵極絕緣層3的厚度。
[0046]優選的，所述柵極絕緣層3的厚度為200-600nm ;所述導流槽7的深度h為200_500nmo
[0047]實施例中以陣列基板的取向液6產生的問題為例進行了介紹，應當理解的是，對于其它基板，例如，彩膜基板上取向液6產生的不良，也可以在彩膜基板對應的邊框區域形成取向液6的導流槽7，解決取向液6擴散不均產生的各種不良。
[0048]下面介紹以下上述陣列基板的制備方法:
[0049]應當理解的是，在陣列基板上形成柵極線2、柵極絕緣層3、數據線4、鈍化層5、取向液6是現有技術范疇，與現有技術的區別在于，在制備導流槽7所在的絕緣層時，采用該絕緣層對應的掩膜板形成導流槽7的圖形或新增掩膜板形成導流槽7的圖形；具體到本發明中，當導流槽7設置在鈍化層5時，可以采用具有導流槽7圖形的鈍化層掩膜板同時形成鈍化層5和導流槽7的圖形；這樣可以節省一個掩膜板，降低陣列基板的制作成本。
[0050]當導流槽7設置在柵極絕緣層時，可以在形成柵極絕緣層后，采用具有導流槽7圖形的導流槽掩膜板同時形成導流槽7的圖形。
[0051]實施例2
[0052]本實施例提供一種顯示裝置，包括上述的陣列基板。
[0053]可以理解的是，以上實施方式僅僅是為了說明本發明的原理而采用的示例性實施方式，然而本發明并不局限于此。對于本領域內的普通技術人員而言，在不脫離本發明的精神和實質的情況下，可以做出各種變型和改進，這些變型和改進也視為本發明的保護范圍。
【主權項】
1.一種陣列基板，包括顯示區域和圍設在顯示區域周邊的邊框區域，其特征在于，所述的邊框區域包括用于導流取向液的導流槽。
2.如權利要求1所述的陣列基板，其特征在于，所述邊框區域包括至少一層絕緣層；所述的導流槽設置于所述絕緣層中的任一一層。
3.如權利要求2所述的陣列基板，其特征在于，所述導流槽的深度小于所述導流槽所在絕緣層的厚度。
4.如權利要求1所述的陣列基板，其特征在于，所述邊框區域包括位于所述邊框區域的遠離所述顯示區域一側邊緣的封框膠；所述導流槽的位于所述封框膠和所述顯示區域之間。
5.如權利要求4所述的陣列基板，其特征在于，所述導流槽的寬度為0.lmm-0.5mm。
6.如權利要求1所述的陣列基板，其特征在于，所述邊框區域包括在襯底設置的第一絕緣層；以及設置在第一絕緣層與所述襯底之間的相互絕緣的走線層。
7.如權利要求6所述的陣列基板，其特征在于，所述取向液涂覆于所述陣列基板的第一絕緣層上； 所述導流槽設置于所述的第一絕緣層上；所述的導流槽的深度小于所述第一絕緣層的厚度。
8.如權利要求7所述的陣列基板，其特征在于，所述第一絕緣層的厚度為200-600nm;所述導流槽的深度為200-500nm。
9.如權利要求6所述的陣列基板，其特征在于，所述走線層包括相互絕緣設置的柵極線和數據線；所述的柵極線和數據線之間設有第二絕緣層。
10.如權利要求9所述的陣列基板，其特征在于，所述導流槽設置于所述的第二絕緣層上；所述導流槽的深度小于所述第二絕緣層的厚度。
11.如權利要求7所述的陣列基板，其特征在于，所述第二絕緣層的厚度為200-600nm;所述導流槽的深度為200-500nm。
12.—種顯示裝置，其特征在于，包括如權利要求1-11任一項所述的陣列基板。
【專利摘要】本發明提供一種陣列基板、顯示裝置，用于解決現有技術的陣列基板的取向液擴散不均勻、邊界無法界定的問題。本發明提供的陣列基板、顯示裝置由于在邊框區域設置了用于導流取向液的導流槽，該導流槽能夠使取向液邊緣的表面張力均勻分布，釋放了由于陣列基板的不平坦位置(與過孔對應的位置)取向液的表面張力，使邊框區域和顯示區域中的取向液平坦化、均勻化；另外，該導流槽限定了取向液向外擴散的最大邊界，使得取向液的邊界可控，并能防止取向液的溢流導致的各種不良。
【IPC分類】G02F1-1337
【公開號】CN104777676
【申請號】CN201510222272
【發明人】王瑞瑞, 陳華斌
【申請人】京東方科技集團股份有限公司, 北京京東方顯示技術有限公司
【公開日】2015年7月15日
【申請日】2015年5月4日