專利名稱:用于相位對比成像的光柵的制作方法
技術領域：
本發明涉及用于X射線微分相位對比成像的光柵、用于生成對象的相位對比圖像的探測器裝備和X射線成像系統、以及制作光柵的方法。
背景技術：
利用X射線的相位對比成像用于，例如，相比于傳統幅度對比圖像，增強低吸收樣品的對比度。這允許使用應用于對象，例如患者，的輻射較低。為了能夠使用與相位對比成像有關的波的相位，所述波在時間和空間都需要具有良好定義的關系。能夠通過應用單色X射線輻射提供時間相干性。在W02004/071298A1中，如描述的用于生成相位對比X射線成像的設備包括，在光學路徑中，不相干的X射線源、第一射束分裂器光柵、第二射束重組器光柵、光學分析器光柵以及圖像探測器。為了在微分相位對比成像(DPC)中使用更高的X射線能量，需要具有高縱橫比的光柵。

發明內容
因此，存在提供具有高縱橫比的光柵的需求。
本發明的目標由獨立權利要求
的主題解決，其中，進一步的實施例包含于從屬權利要求
中。
應該注意，下文描述的本發明的各方面也應用于箔光柵、探測器裝備、X射線成像系統以及方法。
根據本發明示范 性的實施例，提供了一種用于X射線微分相位對比成像的箔光柵，所述箔光柵包括X射線吸收材料的第一箔以及X射線吸收材料的至少第二箔。至少兩個所述箔都包括由X射線透明縫隙彼此間隔的多個X射線吸收條帶。所述第一箔包括具有第一寬度W1的第一多個第一條帶，以及以第一間距P1周期性布置的具有第一開口寬度Wm的第一多個第一縫隙。所述第二箔包括具有第二寬度W2的第二多個第二條帶，以及以第二間距P2周期性布置的具有第二開口寬度的第二多個第二縫隙。至少兩個所述箔被布置為彼此移位，從而使所述第二條帶定位于所述第一縫隙前方，使得針對X射線輻射的通路提供了多個形成的狹縫，所述多個形成的狹縫具有形成的狹縫寬度W，所述形成的狹縫寬度Wk小于所述第一開口寬度和所述第二開口寬度。至少兩個所述箔固定地附接于彼此。
在本發明的上下文中，術語“箔”涉及這樣的材料:所述材料相比其延伸方向具有小的厚度。術語箔包括柔性材料，即能夠在至少一個方向上彎曲的材料，也包括任何其他材料的板或片。
根據本發明另一示范性的實施例，所述透明縫隙由環繞的箔片段包圍，所述環繞的箔片段將所述多個條帶在它們的末端處彼此連接，其中，將所述多個條帶和所述環繞的箔片段作為連續箔提供。
根據本發明另一示范性的實施例，提供了一種用于生成對象的相位對比圖像的X射線系統的探測器裝備，所述探測器裝備包括源光柵、相位光柵、分析器光柵、以及具有傳感器的探測器。所述源光柵適于分裂X射線多色光譜的X射線束。所述相位光柵適于在分析器平面中將分裂的射束重組。所述光柵中的一個，例如所述分析器光柵，適于在所述分析器光柵的一個周期上被橫向地步進。所述傳感器適于當在所述分析器光柵的一個周期上被橫向地步進時記錄原始圖像數據。所述光柵中的至少一個為根據上面提到的示范性實施例的箔光柵。
根據本發明另一示范性的實施例，提供了一種用于生成對象的相位對比數據的X射線成像系統，所述X射線成像系統具有生成X射線多色光譜的射束的X射線源、提供對象的原始數據的X射線探測器單元、用于控制所述X射線源和計算生成圖像數據的原始圖像數據的處理單元、以及用于顯示計算的圖像數據的顯示器。所述X射線探測器單元包括根據上面提到的實施例之一的探測器裝備。
根據本發明的另一方面，提供了一種制作用于X射線微分相位對比成像的箔光柵的方法，所述方法包括下述步驟:a)提供X射線吸收材料的第一箔，以及施加以第一間距P1周期性布置的具有第一開口寬度wM的第一多個第一X射線透明縫隙，從而實現由所述第一縫隙彼此間隔的具有第一寬度W1的第一多個X射線吸收條帶山)提供X射線吸收材料的第二箔，以及施加以第二間距P2周期性布置的具有第二開口寬度Wtj2的第二多個第二 X射線透明縫隙，從而實現由所述第二縫隙彼此間隔的具有第二寬度W2的第二多個第二條帶；c)將至少兩個所述箔彼此移位地定位，從而使所述第二條帶位于所述第一縫隙前方，使得針對X射線輻射的通路提供了多個形成的狹縫，所述多個形成的狹縫具有形成的狹縫寬度WE,所述形成的狹縫寬度Wk小于所述第一開口寬度和所述第二開口寬度；以及d)將至少兩個所述箔附接于彼此，從而提供箔光柵。
能夠將下面內容看作本文的主旨:通過以移位方式布置至少兩個箔從而提供形成的狹縫，所述形成的狹縫具有比能夠在所述箔自身中提供的最小寬度更小的寬度，從而提供了具有盡可能小的產生的縫隙的箔。通過當將所述縫隙和所述箔提供為與所述開口寬度具有特定關系時調適其 余的條帶，能夠使所述形成的狹縫寬度適于具體需求。
參考下文描述的實施例，本發明的這些和其他方面會變得清楚并且將會被闡明。


將會在下文中參考下面的附圖描述本發明示范性的實施例。
圖1概要示出了 X射線系統的例子；
圖2概要示出了用于相位對比成像的X射線系統的探測器裝備；
圖3a_c概要示出了根據本發明的箔光柵的第一實施例；
圖4a_b概要示出了在橫截面中的根據本發明的箔光柵的另一實施例；
圖5概要示出了用于制作根據本發明的箔光柵的方法的基本方法步驟；以及
圖6概要示出了根據圖5的方法的另一實施例。
具體實施方式
圖1概要示出了具有檢查設備的X射線成像系統10，X射線成像系統10用于生成對象的相位對比圖像。所述檢查設備包括X射線圖像采集裝置，所述X射線圖像采集裝置具有被提供用于通過傳統X射線源生成X射線輻射束的X射線輻射源12。提供了工作臺14以接收受檢者,例如患者。
另外，根據本發明的X射線探測器單元16基本位于X射線輻射源12的對面(詳細解釋見下文)，即在輻射過程中，受檢者位于X射線輻射源12和探測器單元16之間。后者向處理單元18發送數據，處理單元18連接于探測器單元16和輻射源12。處理單元18位于工作臺14下方以節省在檢查室內的空間。當然，它也能位于不同地點，諸如不同房間。另夕卜，顯示器20布置在工作臺14的附近以將諸如計算圖像數據的信息顯示給操作所述X射線成像系統的人員。另外，布置接口單元22以由用戶輸入信息。應該注意，示出的例子稱作C型X射線圖像采集裝置。所述X射線圖像采集裝置包括C形式的臂，在那里所述圖像探測器布置在C型臂的一端，并且X射線輻射源12位于C型臂的相對端。C型臂可移動地安裝，并且能夠繞放置在工作臺14上的感興趣對象旋轉。換言之，可以以不同觀察方向采集圖像。
還應注意，其他形式的X射線圖像采集裝置也是可行的，諸如具有X射線源和探測器的旋轉對的機架。
根據優選的實施例，本發明的主題用于乳腺X射線照相術，在那里存在較低能量以及不是很高的強度，同時也存在對高空間分辨率的需求。然而，本發明也適于C型臂和CT檢查。
圖2概要示出了用于生成對象26的相位對比圖像的X射線系統的探測器裝備24。對象26，例如在圖2中示出的患者或樣品，布置在源光柵28和相位光柵30之間。分析器光柵32布置在相位光柵30后面。另外，具有傳感器34的探測器被提供在分析器光柵32后面。
在C型臂的情況中，所述源光柵布置在C型臂的相對側，在那里定位了所述源。其他光柵相對地布置，即布置在另一側，從而使對象布置在C型臂的兩端之間，并且因此在所述源光柵和所述相位光柵之間。
針對對象26的檢查，X射線多色光譜的X射線束36由傳統X射線源38提供。將X射線輻射束36應用于源光柵28以分裂所述X射線輻射，從而提供相干X射線輻射。將由附圖標記39指示的分裂的射束應用于相位光柵30以在分析器平面中重組分裂的射束。在相位光柵30后面重組分裂射束之后，將重組的射束應用于分析器光柵36。最終，在所述光柵之一，在例子中不出的分析器光柵32,在分析器光柵32的一個周期上被橫向步進時,傳感器34記錄原始圖像數據。至少一個光柵28、30或32的裝備包括如在下文描述的發明的箔光柵。應該注意，根據本發明所述的箔光柵尤其對源光柵28是有利的。
然而，應該注意，上面描述的，在開始時，使所述分析器光柵步進是必要的，但是，根據另一方面，三個光柵中之一的移動是足夠的，因此并不局限于所述分析器光柵。
根據另一方面，根據本發明所述的箔光柵也能夠利用特殊測量方法在靜態設置中使用。因此，發明的箔光柵用于所有實際和所述未來的PCI設置。
在圖3a_c中，示出了箔光柵的第一實施例。圖3a示出了在兩個箔附接于彼此之前，在所謂的分解透視圖中的第一箔和第二箔。圖3b示出了附接于彼此的所述兩個箔的平面圖，并且圖3c示出了圖3b的附接箔的橫截面。[0031]圖3a示出了用于X射線微分相位對比成像的箔光柵40，箔光柵40包括X射線吸收材料的第一箔42和X射線吸收材料的至少第二箔44。第一箔42包括具有第一寬度Wl50的第一多個46第一條帶48a、b、c...，以及以第一間距Pl58周期性布置的具有第一開口寬度wQ156的第一多個52第一縫隙54a、b、c...。所述第一條帶是吸收X射線的，因為它們由所述箔材料制成。第一縫隙54對X射線是透明的。
所述第二箔包括也是吸收X射線的，具有第二寬度《264的第二多個60第二條帶62a、b、c...，以及以第二間距p272周期性布置的具有第二開口寬度wQ270的第二多個66第二縫隙68a、b、c...。第二縫隙68對X射線也是透明的。
為了提供箔光柵40，至少兩個箔42和44彼此移位地布置，從而使所述第二條帶定位于所述第一縫隙前方，使得為X射線輻射的通路提供了具有形成的狹縫寬度^78的多個74形成的狹縫76a、b、c...，形成的狹縫寬度％78小于所述第一開口寬度和所述第二開口寬度。兩個箔42、44的這種結合由兩個箭頭79指示。所述至少兩個箔之后固定地附接于彼此,例如,通過膠合。
箔光柵40的安裝狀態在圖3b中示出。為了更好的理解，形成的狹縫76以陰影線的形式指示。
圖3c示出了包括第一箔42和第二箔44的所述箔光柵的橫截面。
根據本發明的一方面，所述箔能夠為金屬箔。
根據另一方面，所述透明縫隙由環繞的箔片段80包圍，環繞的箔片段80將所述多個條帶在它們的末端處彼此連接。這提供了在加工過程中更簡單的操作。
根據優選的示范性實施例，如在圖3中指示的，將所述多個條帶和所述環繞的箔片段提供為連續箔，即提供為單片箔，在其中，布置所述縫隙。
根據另一方面，將對齊標記81提供在具有所述形成的狹縫的區域之外以用于在裝配步驟中提高準確度。
根據另一方面，提供了對齊針和具有孔洞的箔，以及使用用于精確安裝的其他工具。
根據另一方面。所述第一間距P1和所述第二間距P2是相等的。
根據另一方面，所述移位的偏移為所述間距P1、P2的一半。
在示出的例子中，所述第一間距P1和所述第二間距P2是相等的，并且所述移位的偏移顯示為所述間距的一半。
根據另一方面，針對每個箔，所述條帶的寬度小于所述開口寬度。因此，較大的開口中的每個都能被劃分為兩個形成的狹縫。
當然，也可以提供與所述開口寬度相同寬度的條帶，并且通過輕微橫向移位，可以部分覆蓋所述開口寬度，從而獲取相同數量但是具有更小開口寬度的形成的狹縫。
根據另一示范性的實施例(沒有示出)，所述第二條帶定位于所述第一縫隙前方，從而使每個第一縫隙和第二縫隙至少部分覆蓋。
根據另一示范性的實施例(沒有示出)，所述第二條帶定位于所述第一縫隙前方，從而使每個第一縫隙和第二縫隙至少部分覆蓋。
根據另一示范性的實施例(沒有示出)，所述第一條帶和/或所述第二條帶具有非線性形式，并且其中，所述第一縫隙和所述第二縫隙與具有非線性形式，其具有不同片段，所述不同片段具有不同片段開口寬度WS();并且所述至少兩個箔的移位導致具有形成的片段開口寬度Waffi的形成的縫隙，所述形成的片段開口寬度小于所述第一縫隙和所述第二縫隙各自的片段開口寬度WM。
例如，所述狹縫能夠具有L型形式，并且所述狹縫在兩個方向上橫跨所述箔以恒定間距重復。通過移位，可以實現具有L型交叉片段的形成的狹縫，其在一個或兩個方向上具有更小寬度。
在圖3c示出的例子中，由附圖標記82指示的，所述形成的狹縫的橫截面是類似方格的，從而使由附圖標記84指示的通過(thru)方向垂直于所述箔的延伸方向。
根據本發明的另一方面，提供了多個第一箔和第二箔，所述多個第一箔和第二箔以交替方式疊放(沒有進一步示出)。因此，在實現相同的形成的狹縫尺寸的同時，能夠提供更高的吸收率。
根據另一示范性的實施例，提供多個數量的箔，所述多個數量的箔以疊放方式布置為將間距和開口寬度調適為使得由圖4中的附圖標記182指示的所述形成的狹縫的橫截面適于不同的扇形束角度，所述扇形束角度由附圖標記184指示。
在圖4a中，多個箔142顯示為包括許多形成的狹縫176，與所述箔的延伸方向相t匕，狹縫具有傾斜的通過方向。在圖4a中，所有形成的狹縫176具有由角度α指示的相同的傾斜角。在示出的例子中，所述形成的縫隙的橫截面具有平行四邊形的形式。所述箔具有相似的縫隙/開口寬度，所述狹縫寬度具有相同的間距。它們以大于所述間距一半的值移位。
在圖4b中，多 個箔242顯示為包括許多形成的狹縫276，調適形成的狹縫276從而為類似扇形形式的射束提供通過開口，其由虛線中心線284指示，每個虛線中心線284都具有相對于所述箔的延伸方向的增加和減少的角度。
根據另一方面，所述通過開口具有梯形形狀或三角形形狀等，而不是矩形。
因此，能夠改變射束的通路方向。在示出的例子中，所述形成的縫隙的橫截面具有平行四邊形的不同形式。所述箔具有不同開口寬度和間距。所述條帶具有相似寬度。
根據另一方面，所述形成的狹縫自身具有梯形形式，其具有在輻射方向上增加或減少的橫截面，因此，允許進一步影響通過的輻射(沒有示出)。
另外，提供了一種制作用于X射線微分相位對比成像的箔光柵的方法100，方法100以其基本步驟在圖5中示出，方法100包括下述步驟:
a)在第一提供步驟110中，提供X射線吸收材料的第一箔112，以及在施加步驟114中，施加具有第一開口寬度的第一多個第一 X射線透明縫隙116，所述透明縫隙以第一間距P1周期性布置，從而實現由所述第一縫隙彼此間隔的具有第一寬度W1的第一多個第一 X射線吸收條帶。
b)在進一步提供步驟120中，提供X射線吸收材料的第二箔122，以及在進一步施加步驟124中，施加第二多個第二 X射線透明縫隙126，所述第二縫隙具有第二開口寬度W02并且以第二間距&周期性布置，從而實現由所述第二縫隙彼此間隔的具有第二寬度W2的第二多個第二條帶。
c)在定位步驟130中，將至少兩個所述箔彼此移位定位，從而使所述第二條帶位于所述第一縫隙前方，從而為X射線輻射的通路提供了多個形成的狹縫132，多個形成的狹縫132具有形成的狹縫寬度wK，所述形成的狹縫寬度小于所述第一開口寬度和所述第二開口寬度。[0062]d)在附接步驟134中，將至少兩個所述箔附接于彼此，從而提供箔光柵136。
例如，通過激光切割和/或鉆孔，或者例如當所述箔為金屬箔時，通過金屬蝕刻施加所述縫隙。
作為優選的示例，為了將至少兩個箔附接，將所述箔膠合于彼此。
根據另一方面，以非平面方式將所述箔附接于彼此，例如，以彎曲幾何形狀。因此，通過彎曲所述光柵，提供了聚焦開口的備選。
根據本發明的另一方面，如在圖6中示出的，針對所述定位，在對齊步驟138中通過對齊標記將所述箔彼此對齊，所述對齊標記提供在具有所述形成的狹縫的區域之外。
根據本發明的另一方面，提供了用于在膠合過程中的對齊的指導支撐物(沒有進一步示出)。
應該注意，參考不同主題描述了本發明的實施例。具體地，參考方法類型權利要求
描述了一些實施例，而參考裝置類型權利要求
描述了其他實施例。然而，本領域技術人員會從上文和下文描述中總結出，除非另有聲明，否則除屬于一類型的主題的特征的任何結合之外，也考慮將與不同主題相關的特征間的任何結合通過本申請公開。然而，能夠將所有特征結合以提供協同效應，所述協同效應大于所述特征的簡單疊加。
在權利要 求中，詞語“包括”不排除其他元件或步驟，并且不定冠詞“一”或“一個”不排除多個。單個處理器或其他單元可以執行在權利要求
中列舉的若干項目的功能。事實是，在互相不同的從屬權利要求
中列舉的特定措施并不指示這些措施的結合不能有利地利用。
權利要求
1.一種用于X射線微分相位對比成像的箔光柵(40)，包括: -X射線吸收材料的第一箔(42);以及 -X射線吸收材料的至少第二箔(44)； 其中，至少兩個所述箔都包括由X射線透明縫隙彼此間隔的多個X射線吸收條帶； 其中，所述第一箔包括具有第一寬度W1 (50)的第一多個(46)第一條帶(48)，以及以第一間距P1 (58)周期性布置的具有第一開口寬度(56)的第一多個(52)第一縫隙(54);并且 其中，所述第二箔包括具有第二寬度W2 (64)的第二多個(60)第二條帶(62)，以及以第二間距P2 (72)周期性布置的具有第二開口寬度W()2 (70)的第二多個(66)第二縫隙(68); 其中，至少兩個所述箔被布置為彼此移位，從而使所述第二條帶定位于所述第一縫隙前方，使得針對X射線輻射的通路提供了多個(74)形成的狹縫(76)，所述多個(74)形成的狹縫(76)具有形成的狹縫寬度(78)，所述形成的狹縫寬度(78)小于所述第一開口寬度W01和所述第二開口寬度；并且 其中，至少兩個所述箔固定地附接于彼此。
2.根據權利要求
1所述的箔光柵，其中，所述透明縫隙由環繞的箔片段(80)包圍，所述環繞的箔片段(80)將多個條帶在它們的末端處彼此連接，其中，將所述多個條帶和所述環繞的箔片段作為連續箔提供。
3.根據權利要求
1或2所述的箔光柵，其中，所述第一間距P1和所述第二間距P2是相等的；并且其中，所述移位的偏移為所述間距？1、&的一半。
4.根據前述權利要求
之一所述的箔光柵，其中，針對每個箔，所述條帶的所述寬度Wl、W2小于所述開口寬度Wra、Wq2。
5.根據前述權利要求
之一所述的箔光柵，其中，所述第二條帶定位于所述第一縫隙前方，從而使每個第一縫隙和第二縫隙被至少部分覆蓋。
6.根據前述權利要求
之一所述的箔光柵，其中，所述第二條帶定位于所述第一縫隙前方，從而使每個第一縫隙被所述第二縫隙中的一個劃分為兩個形成的狹縫。
7.根據權利要求
1到5中之一所述的箔光柵，其中，所述第二條帶定位于所述第一縫隙前方，從而使每個第一縫隙和第二縫隙被至少部分遮蓋。
8.根據前述權利要求
之一所述的箔光柵，其中，所述第一條帶和/或所述第二條帶具有非線性形式，并且其中，所述第一縫隙和所述第二縫隙具有非線性形式，其具有不同片段，所述不同片段具有片段開口寬度 ;并且 其中，至少兩個所述箔的移位導致形成的縫隙，所述形成的縫隙具有形成的片段開口寬度所述形成的片段開口寬度小于所述第一縫隙和所述第二縫隙各自的片段開口覽度W5QO
9.根據前述權利要求
之一所述的箔光柵，其中，提供多個第一箔和第二箔，并且所述多個第一箔和第二箔以交替方式疊放。
10.根據前述權利要求
之一所述的箔光柵，其中，提供多個數量的箔，并且所述多個數量的箔以疊放的方式被布置為將間距和開口寬度調適為使得所述形成的狹縫的橫截面(82)適于不同的扇形束角度(84)。
11.一種用于生成對象(26)的相位對比圖像的X射線系統的探測器裝備(24)，其具有: -源光柵(28)； -相位光柵(30); -分析器光柵(32);以及 -具有傳感器(34)的探測器； 其中，所述源光柵適于分裂X射線多色光譜的X射線束(36);其中，所述相位光柵適于在分析器平面中將分裂的射束重組；其中，所述光柵中的一個適于在所述分析器光柵的一個周期上被橫向地步進； 其中，所述傳感器適于當在所述分析器光柵的一個周期上被橫向地步進時記錄原始圖像數據； 其中，所述光柵中的至少一個為根據前述權利要求
之一所述的箔光柵。
12.根據前述權利要求
所述的探測器裝備，其中，所述源光柵為根據權利要求
1到10之一所述的箔光柵。
13.一種用于生成對象的相位對比數據的X射線成像系統(10)，其具有: -X射線源(12)，其生成X射線多色光譜的射束； -X射線探測器單元(16)，其提供對象的原始圖像數據； -處理單元(18)，其用于控制所述X射線源并計算生成圖像數據的所述原始圖像數據；以及 -顯示器(20)，其用于顯示所計算的圖像數據； 其中，所述X射線探測器單元包括根據權利要求
11或12之一所述的探測器裝備。
14.一種制作用于X射線微分相位對比成像的箔光柵的方法(100)，其包括下述步驟: -a)提供(110) X射線吸收材料的第一箔(112)，以及施加(114)以第一間距P1周期性布置的具有第一開口寬度W01的第一多個第一 X射線透明縫隙(116)，從而實現由第一縫隙彼此間隔的具有第一寬度W1的第一多個第一 X射線吸收條帶；以及 -b)提供(120) X射線吸收材料的第二箔(122)，以及施加(124)以第二間距P2周期性布置的具有第二開口寬度的第二多個第二 X射線透明縫隙(126)，從而實現由所述第二縫隙彼此間隔的具有第二寬度W2的第二多個第二條帶； -c)將至少兩個所述箔彼此移位定位(130)，從而使所述第二條帶位于所述第一縫隙前方，使得針對X射線輻射的通路提供多個形成的狹縫(132)，所述多個形成的狹縫(132)具有形成的狹縫寬度W，所述形成的狹縫寬度W小于所述第一開口寬度和所述第二開口覽度Wq2 ;以及 -d)將至少兩個所述箔附接(134)于彼此，從而提供箔光柵(136)。
15.根據前述權利要求
所述的方法，其中，針對所述定位，通過對齊標記(138)將所述箔彼此對齊，所述對齊標記(138)被提供在具有所述形成的狹縫的區域之外。
專利摘要
本發明涉及用于X射線微分相位對比成像的箔光柵、用于生成對象的相位對比圖像的探測器裝備和X射線成像系統、以及制作箔光柵的方法。為了提供具有高縱橫比的光柵，提供了一種用于X射線微分相位對比成像的箔光柵(40)，所述箔光柵(40)具有X射線吸收材料的第一箔(42)；以及X射線吸收材料的至少第二箔(44)。至少兩個所述箔每個都包括由X射線透明縫隙彼此間隔的多個X射線吸收條帶，其中，所述第一箔包括具有第一寬度w1(50)的第一多個(46)第一條帶(48)，以及以第一間距p1(58)周期性布置的具有第一開口寬度wO1(56)的第一多個(52)第一縫隙(54)，并且其中，所述第二箔包括具有第二寬度w2(64)的第二多個(60)第二條帶(62)，以及以第二間距p2(72)周期性布置的具有第二開口寬度wO2(70)的第二多個(66)第二縫隙(68)。至少兩個所述箔被布置為彼此移位，從而使所述第二條帶定位于所述第一縫隙前方，從而為X射線輻射的通路提供了多個(74)形成的狹縫(76)，所述多個(74)形成的狹縫(76)具有形成的狹縫寬度WR(78)，所述形成的狹縫寬度WR(78)小于所述第一開口寬度wO1和所述第二開口寬度wO2。至少兩個所述箔固定地附接于彼此。
文檔編號G01N23/04GKCN103200874SQ201180053589
公開日2013年7月10日 申請日期2011年11月3日
發明者G·福格特米爾 申請人:皇家飛利浦電子股份有限公司導出引文BiBTeX, EndNote, RefMan